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1. 发明申请

WO2023061845A1 EUV MULTI-MIRROR ARRANGEMENT 审中-公开
公开(公告)号：WO2023061845A1
公开(公告)日：2023-04-20
申请号：PCT/EP2022/077809
申请日：2022-10-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： AMELING, Ralf , HAACKER, Fabian , HOLZ, Markus , EISENMENGER, Johannes
IPC分类号： G02B5/08 , G02B26/08 , G03F7/20
摘要： An EUV multi-mirror arrangement (MMA) comprises a multiplicity of mirror units (MU), which are arranged one next to the other in a grid arrangement on a carrier structure (TS), wherein each mirror unit has a base element (BE) and, opposite the base element (BE), an individually tiltable mirror element (ME) which has a mirror substrate (SUB) that carries on a front face facing away from the base element a reflection coating (REF) for forming a mirror surface (MS) that reflects EUV radiation. In each mirror unit (MU), components of a suspension system (SUS) for movably mounting the mirror element (ME) on the base element (BE), actuators of an actuator system (AKS) for producing movements of the mirror element (ME) in relation to the base element (BE) as a reaction to the reception of control signals, and sensors of a sensor system (SENS) for capturing the position of the mirror elements (ME) are arranged between the base element (BE) and the mirror element (ME). The actuator system (AKS) has piezoelectric actuators (AKT). The sensor system (SENS) has capacitive sensors (KPS).

2. 发明申请

WO2016096878A1 SPIEGEL-EINRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：反射镜器件
公开(公告)号：WO2016096878A1
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：PCT/EP2015/079829
申请日：2015-12-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SAROV, Yanko , HOLZ, Markus , HAACKER, Fabian , WENGLER, Mark Christof , HAUF, Markus
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09
CPC分类号： G02B5/09 , G02B5/08 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70908
摘要： Eine Spiegel-Einrichtung (29) umfasst mindestens ein elektrisch leitfähiges Abschirm-Element (25), welches ein Mittel zur Erzeugung eines elektrischen Feldes in einem an mindestens eine Seitenfläche (22) und/oder eine Rückseite (21) eines Spiegel-Körpers (35) angrenzenden Bereich bildet.
摘要翻译：的镜装置（29）包括至少一个导电的屏蔽元件（25），其（为一个反射镜主体35的在至少一个侧表面产生电场，（22）和/或后侧（21）的装置形式）邻接区域。

3. 发明申请

WO2015162092A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR REGELUNG DER POSITIONIERUNG EINER VIELZAHL VON VERSTELLBAREN SPIEGEL-ELEMENTEN EINER VIELSPIEGEL-ANORDNUNG 审中-公开
标题翻译： DEVICE AND METHOD FOR控制定位后视镜装置的大量的可调节反射镜元件的各种
公开(公告)号：WO2015162092A1
公开(公告)日：2015-10-29
申请号：PCT/EP2015/058516
申请日：2015-04-20
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HORN, Jan , HOLZ, Markus , SPECHT, Jörg , EISENMENGER, Johannes , KRONE, Stefan
IPC分类号： G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B7/1827 , G02B17/008 , G02B26/0841 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/7085
摘要： Zur Regelung der Positionierung einer Vielzahl von verlagerbaren Spiegel-Elementen ist eine externe Steuereinrichtung (64) vorgesehen, welche über einen Datenkanal mit einer Bandbreite von mindestens 1 kHz pro geregeltem Verlagerungs-Freiheitsgrad mit der Vielspiegel-Anordnung (22) verbunden ist.
摘要翻译：来控制多个被设置的外部控制装置（64）可动反射镜元件，其经由具有每与多镜阵列（22）的自由的控制翻译度至少1kHz的带宽的数据信道连接的的定位。

4. 发明申请

WO2015028450A1 OPTISCHES BAUELEMENT 审中-公开
标题翻译：光学元件
公开(公告)号：WO2015028450A1
公开(公告)日：2015-03-05
申请号：PCT/EP2014/068040
申请日：2014-08-26
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HOLZ, Markus , SIGEL, Benjamin , HORN, Jan , KNAUF, Benedikt , ZIMMER, Fabian
IPC分类号： B81B7/00
CPC分类号： G02B26/0833 , B81B7/007 , G03F7/2002 , G03F7/70058 , H01L2224/05554 , H01L2224/48091 , H01L2924/00014
摘要： Optisches Bauelement (40) umfassend mindestens ein mikro-opto- elektromechanisches System (MOEMS) (73) mit einer Vorderseite und einer Rückseite, und mindestens einer Leiterplatte (56), wobei die mindestens eine Leiterplatte (56) auf der Rückseite des mindestens einen MOEMS (73) angeordnet ist, wobei die mindestens eine Leiterplatte (56) seitliche Kontakte (67) aufweist und mit elektronischen Bauteilen sowie Kühlelementen bestückt sein kann, und wobei das mindestens eine MOEMS (73) seitlich über die mindestens eine Leiterplatte (56) übersteht.
摘要翻译：一种光学设备（40）包括至少一个微光电机电系统（MOEMS）（73），其具有前部和后部，并且在至少一个印刷电路板（56），其中所述至少一个印刷电路板（56）上的至少一个MOEMS的背面（73）布置，其中所述至少一个印刷电路板（56）具有侧向触点（67），并且可以与电子元件和冷却元件来填充，并且其中所述至少一个MOEMS（73）侧向地延伸超过所述至少一个印刷电路板（56）的项目。

5. 发明申请

WO2018141382A1 ANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINER ANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2018141382A1
公开(公告)日：2018-08-09
申请号：PCT/EP2017/052173
申请日：2017-02-01
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HOLZ, Markus , BIHR, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Es wird eine Anlage (100) vorgeschlagen, welche eine Strahlungsquelle (106A) zur Erzeugung einer Strahlung, eine Mehrzahl von optischen Bauelementen (110, 112, 114, 116, 118) zur Führung der Strahlung in der Anlage (100), eine Anzahl N1 von Anordnungen (210 - 260), mit N1 ≥ 1, wobei jede der N1 Anordnungen (210 - 260) zumindest eine Aktor-/Sensor- Einrichtung (311 - 31N; 321 - 32N, 331 - 33N; 341 - 34N; 351 - 35N; 361 - 36N) umfasst, welche einem der optischen Bauelemente (110, 112, 114, 116, 118) zugeordnet ist, eine Mehrzahl N2 von lokalen Ansteuereinheiten (410, 420, 430, 440, 450, 460) zum Ansteuern der Anzahl N1 von Anordnungen (210 - 260), mit N2 ≥ 2, und eine Anzahl N3 von zentralen Ansteuereinheiten (510, 520) zum Ansteuern der N2 lokalen Ansteuereinheiten (410, 420, 430, 440, 450, 460), mit N3 ≥ 1, aufweist. Dadurch werden Wärmespots vermieden, die Wärmeverteilung wird harmonisiert und optimiert. Ferner werden redundante Ansteuermöglichkeiten für die Aktor-/Sensoreinrichtungen geschaffen, die im Fehlerfall die Verfügbarkeit der Anlage erhöhen.

6. 发明申请

WO2017153165A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES BELEUCHTUNGSSYSTEMS FÜR EINE EUV-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND BELEUCHTUNGSSYSTEM 审中-公开
标题翻译：生产EUV投影曝光系统和照明系统的照明系统的方法
公开(公告)号：WO2017153165A1
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：PCT/EP2017/053993
申请日：2017-02-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BAIER, Jürgen , RUNDE, Daniel , MANGER, Matthias , MÜLLER, Ulrich , LICHTENTHÄLER, Jörg , ORTHEN, André , WELKER, Joachim , HOLZ, Markus , HOLDERER, Hubert
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Ein Verfahren zum Herstellen eines Beleuchtungssystems für eine EUV-Anlage umfasst folgende Schritte: Einbauen von Spiegelmodulen des Beleuchtungssystems an für die Spiegelmodule vorgesehenen Einbaupositionen zum Aufbau eines Beleuchtungsstrahlengangs, der von einer Quellenposition bis zu einem Beleuchtungsfeld führt, wobei die Spiegelmodule ein erstes Spiegelmodul mit einem ersten Facettenspiegel an einer ersten Einbauposition und ein zweites Spiegelmodul mit einem zweiten Facetten-spiegel an einer zweiten Einbauposition des Beleuchtungssystems umfassen; Einkoppeln von Messlicht in den Beleuchtungsstrahlengang an einer Einkoppelposition vor einem ersten Spiegelmodul des Beleuchtungsstrahlengangs; Detektieren vom Messlicht nach Reflexion des Messlichts an jedem der Spiegelmodule des Beleuchtungsstrahlengangs; Ermitteln von Ist-Messwerten für mindestens eine Systemmessgröße aus detektiertem Messlicht, wobei die Ist-Messwerte einen Ist-Zustand der Systemmessgröße des Beleuchtungssystems repräsentieren; Ermitteln von Korrekturwerten aus den Ist-Messwerten unter Verwendung von Sensitivitäten, die einen Zusammenhang zwischen der Systemmessgröße und einer Veränderung der Lage mindestens eines Spiegelmoduls in seiner Einbauposition repräsentieren; Justieren mindestens eines Spiegelmoduls unter Veränderung der Lage des Spiegelmoduls in der Einbauposition in Starrkörperfreiheitsgraden unter Verwendung der Korrekturwerte zur Veränderung des Ist-Zustandes in der Weise, dass bei Einstrahlung von EUV-Strahlung der EUV-Strahlungsquelle die Beleuchtungsstrahlung im Beleuchtungsfeld der Beleuchtungsspezifikation genügt.
摘要翻译：
制造用于导航中使用的照明系统的方法R A EUV系统，包括以下步骤：的在f导航用途的照明系统的反射镜模块安装ř指定的安装位置为照明光束路径的构造从源位置到反射镜模块照明场f导航的使用导致，其中所述反射镜模块包括与在第一安装位置的第一面反射镜和与在照明系统的第二安装位置的第二面反射镜的第二反射镜组件的第一反射镜模块; 将测量光耦合到照明光束路径的第一镜模块前方的耦合进入位置中的照明光束路径中; 在照明光束路径的每个反射镜模块处反射测量光之后检测测量光; 确定来自检测到的测量光的至少一个系统测量量的实际测量值，其中实际测量值表示照明系统的系统测量量的实际状态; 使用表示系统测量与至少一个反射镜模块在其安装位置中的位置变化之间的关系的灵敏度，从实际测量值确定校正值; 下版BEAR调整至少一个反射镜模块改变在Starrk＆OUML安装位置的反射镜组件的位置; rperfreiheitsgraden使用校正值的实际情况以这样的方式的版本BEAR变化使得在来自EUV辐射源的EUV辐射，在照明领域的照明光束的照射照明规范。

7. 发明申请

WO2022017678A1 VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES OPTISCHEN SYSTEMS FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE, SOWIE OPTISCHES SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2022017678A1
公开(公告)日：2022-01-27
申请号：PCT/EP2021/065590
申请日：2021-06-10
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HOLDERER, Hubert , KOERNER, Christian , ILLIGMANN, Christian , HOLZ, Markus , SCHMITT, Stefan
发明人： HOLDERER, Hubert , KOERNER, Christian , ILLIGMANN, Christian , HOLZ, Markus , SCHMITT, Stefan
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems für die Mikrolithographie, sowie ein optisches System, wobei das optische System eine Lichtquelle sowie eine Spiegelanordnung (100) mit einer Mehrzahl von an eine Tragstruktur mechanisch angebundenen Spiegelelementen (110) aufweist, und wobei diese Spiegelelemente über den Spiegelelementen jeweils zugeordnete Aktoren um unabhängig voneinander einstellbare Kippwinkel zur Erzeugung einer gewünschten Lichtverteilung des von der Spiegelanordnung ausgehenden Lichtes verstellbar sind, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: Ermitteln von für unterschiedliche thermische Zustände des optischen Systems zu erwartenden, thermisch induzierten Kippwinkeländerungen für die Spiegelelemente (110), und Modifizieren der über die den jeweiligen Spiegelelementen zugeordneten Aktoren im Betrieb des optischen Systems eingestellten Kippwinkel in Abhängigkeit von dieser Ermittlung derart, dass die zu erwartenden Kippwinkeländerungen wenigstens teilweise kompensiert werden.

8. 发明申请

WO2021053164A1 FACETTENSPIEGEL FÜR EINE BELEUCHTUNGSOPTIK EINER PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2021053164A1
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：PCT/EP2020/076137
申请日：2020-09-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ANDERL, Willi , KÖRNER, Christian , HOLDERER, Hubert , HOLZ, Markus , STOMPE, Manuel , SEITZ, Stefan
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
摘要： Ein Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage weist eine Vielzahl von verlagerbaren Einzelfacetten (8i) mit einem Facettengrundkörper (35) und einer auf diesem angeordneten Reflexionsfläche (36) auf, wobei zumindest eine Teilmenge der Einzelfacetten (8i) einen Verlagerungsbereich aufweist derart, dass sie in einer oder mehreren Verlagerungspositionen eine Anschlagfläche (38) berühren.

9. 发明申请

WO2018041670A1 STEUEREINRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：控制装置
公开(公告)号：WO2018041670A1
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：PCT/EP2017/071135
申请日：2017-08-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HOLZ, Markus , HORN, Jan , SYROWATKA, Klaus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70991 , G03F7/70508
摘要： Eine Steuereinrichtung (31) für eine Baugruppe (30) mit einer Mehrzahl von Sensoren (32i) und/oder Aktuatoren (33i) umfasst mindestens einer erste Steuereinheit (34), welche vakuumtauglich ausgebildet ist, einen Verteiler zur Aufspaltung und/oder Zusammenfassung von Signalen aufweist und einen Wandler zur Umwandlung digitaler Signale in analoge Signale und/oder analoger Signale in digitale Signale aufweist.
摘要翻译：具有多个传感器（32i）和/或致动器（33i）的用于组件（30）的控制装置（31）包括至少一个真空兼容的第一控制单元（34）用于分离和/或组合信号的分离器，并且包括用于将数字信号转换成模拟信号和/或将模拟信号转换为数字信号的转换器。

10. 发明申请

WO2016131758A1 BAUGRUPPE EINES OPTISCHEN SYSTEMS, INSBESONDERE EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：组件中的光学系统的，尤其是微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2016131758A1
公开(公告)日：2016-08-25
申请号：PCT/EP2016/053139
申请日：2016-02-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HORN, Jan , SIGEL, Benjamin , KNAUF, Benedikt , KRONE, Stefan , SPECHT, Jörg , HOLZ, Markus , LINDNER, Ralf , BLEIDISTEL, Sascha , BART, Florian
发明人： HORN, Jan , SIGEL, Benjamin , KNAUF, Benedikt , KRONE, Stefan , SPECHT, Jörg , HOLZ, Markus , LINDNER, Ralf , BLEIDISTEL, Sascha , BART, Florian
IPC分类号： G03F7/20 , H04B5/00
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70116 , H04B5/0081
摘要： Die Erfindung betrifft eine Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Spiegelanordnung (1 10, 210, 310, 410), welche eine Mehrzahl unabhängig voneinander verstellbarer Spiegelelemente (1 10a, 1 10b, 210a, 210b, 310a, 310b, 410a, 410b) aufweist, und einer Daten- und Spannungserzeugungseinheit (120, 220, 320, 420), welche Ansteuerungsdaten sowie eine Versorgungsspannung zur Ansteuerung einer Verstellung der jeweiligen Spiegelelemente erzeugt, wobei die Baugruppe zur galvanisch getrennten Übertragung der Ansteuerungsdaten und/oder der Versorgungsspannung von der Daten- und Spannungserzeugungseinheit (120, 220, 320, 420) an die Spiegelelemente (110a, 1 10b, 210a, 210b, 310a, 310b, 410a, 410b) ausgelegt ist.
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统的组件，尤其是微光刻投射曝光系统的，具有包括多个独立地可调节的反射镜元件（1 110A，110B，210A，210B，310A，310B的反射镜组件（110，210，310，410）， 410A，410B），并且其产生驱动数据的数据和电压生成部（120，220，320，420），以及用于驱动各个反射镜元件的调整的电源电压，用于驱动数据的电隔离发送和/或电源电压的组件数据和电压生成部（120，220，320，420）到反射镜元件（110A，1 10B，210A，210B，310A，310B，410A，410B）的适于。

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