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1. 发明申请

WO2007122061A1 APPARATUS FOR LASER ANNEALING OF LARGE SUBSTRATES AND METHOD FOR LASER ANNEALING OF LARGE SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：用于大型基板的激光退火的装置和用于大型基板的激光退火的方法
公开(公告)号：WO2007122061A1
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：PCT/EP2007/053030
申请日：2007-03-29
申请人： Carl Zeiss Laser Optics GmbH , EGGER, Rafael , MARCZUK, Piotr , SEIFERT, Wolfgang , TRITSCHLER, Thorsten , ZENZINGER, Markus , ANDERL, Willi , WALTHER, Jörg
发明人： EGGER, Rafael , MARCZUK, Piotr , SEIFERT, Wolfgang , TRITSCHLER, Thorsten , ZENZINGER, Markus , ANDERL, Willi , WALTHER, Jörg
IPC分类号： B23K26/06 , B23K26/08 , G02B27/09 , B23K26/073 , H01L21/20
CPC分类号： G02B27/09 , B23K26/0604 , B23K26/0648 , B23K26/0652 , B23K26/066 , B23K26/0738 , B23K26/0823 , B23K26/083 , H01L21/02691 , H01L21/2026 , H01L27/1285
摘要： The invention relates to an apparatus for laser annealing of large substrates comprising an optical device for generating a narrow illuminating line (31) on an illumination plane (36) of said substrate (32), said illumination line (31) being generated from a laser beam and having a cross-section with an expansion in a first direction and an expansion in a second direction, whereby said expansion in said first direction exceeds said expansion in said second direction by a multiple, and a scanning device being constructed for scanning a first section of said illumination plane of said substrate with said illuminating line in said second direction. According to the invention the apparatus comprises a rotating device for rotating (39) said substrate (32) relative to said illuminating line (31) by 180° about an axis (38) of rotation being normal to said illumination plane (36) after scanning said first section (37), whereby said scanning device is constructed for scanning a second section of said illumination plane (36) of said substrate (32) being adjacent to said first section of said illumination plane (36) of said substrate (32) with said illuminating line (31) in said second direction (y).
摘要翻译：本发明涉及一种用于激光退火大型基板的装置，包括用于在所述基板（32）的照明平面（36）上产生窄照明线（31）的光学装置，所述照明线（31）由激光并且具有在第一方向上的膨胀和在第二方向上的膨胀的横截面，由此所述第一方向上的所述膨胀超过所述第二方向上的所述膨胀倍数，并且扫描装置被构造用于扫描第一方向所述基板的所述照明平面在所述第二方向上具有所述照明线。根据本发明，该装置包括旋转装置，用于在扫描之后绕所述照明平面（36）的旋转轴线（38）相对于所述照明线（31）旋转（39）所述基板（32）180° 所述第一部分（37），其中所述扫描装置被构造用于扫描与所述基板（32）的所述照明平面（36）的所述第一部分相邻的所述基板（32）的所述照明平面（36）的第二部分，所述照明线（31）在所述第二方向（y）上。

2. 发明申请

WO2011012503A1 OPTISCHES SYSTEM ZUM ERZEUGEN EINES LICHTSTRAHLS ZUR BEHANDLUNG EINES SUBSTRATS 审中-公开
标题翻译：光学系统，用于产生射束处理衬底
公开(公告)号：WO2011012503A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2010/060504
申请日：2010-07-20
申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael , ZENZINGER, Markus , MUENZ, Holger
发明人： WANGLER, Johannes , LAYH, Michael , ZENZINGER, Markus , MUENZ, Holger
IPC分类号： G02B27/09 , B23K26/06 , B23K26/073
CPC分类号： G02B27/0927 , B23K26/0608 , B23K26/0676 , B23K26/0732 , B23K26/0738
摘要： Ein optisches System zum Erzeugen eines Lichtstrahls zur Behandlung eines in einer Substrat ebene (14) angeordneten Substrats, wobei der Lichtstrahl in einer ersten Dimension (X) senkrecht zur Ausbreitungsrichtung (Z) des Lichtstrahls eine Strahllänge (L) und in einer zweiten Dimension (Y) senkrecht zur ersten Dimension (X) und zur Lichtausbreitungsrichtung (Z) eine Strahlbreite (B) aufweist, wobei die Strahllänge (L) groß gegenüber der Strahlbreite (B) ist, weist eine erste optische Anordnung (18) auf, die eine Mehrzahl von in der ersten Dimension (X) nebeneinander angeordneten Lichtkanälen (26; 28) definiert, die den Lichtstrahl in der ersten Dimension (X) in eine Mehrzahl von Teilfeldern (30, 32, 34) aufteilen, wobei die Teilfelder (30, 32, 34) in der ersten Dimension (X) einander überlagert in die Substratebene (14) einfallen. Eine zweite optische Anordnung (20) ist in Lichtausbreitungsrichtung vor der ersten optischen Anordnung (18) angeordnet, die in der ersten Dimension (X) eine solche Ausdehnung aufweist und ein Winkelspektrum des auf die zweite optische Anordnung (18) einfallenden Lichtstrahls (42) in der ersten Dimension (X) so verbreitert, dass der Lichtleitwert der zweiten optischen Anordnung (20) in der ersten Dimension (X) 50% bis 100% des Gesamtlichtleitwerts des optischen Systems (10) in der ersten Dimension (X) beträgt, so dass näherungsweise alle Lichtkanäle (26; 28) der ersten optischen Anordnung (18) gleichmäßig mit Licht ausgeleuchtet sind.
摘要翻译：用于在衬底中产生用于治疗的平面的光束的光学系统（14）布置在所述衬底上，其中在第一维度（X）垂直于所述光束，光束长度（L）的传播方向（Z）的光束和在第二维度（Y ）垂直（于第一维度X）和（与光传输方向Z）的波束宽度（B），其中，所述射流长度（L）大相比，波束宽度（B），具有包括多个第一光学组件（18）在第一维（X）相邻地布置光通道（26; 28）中所定义，该光束在第一维分裂（X）成多个子场的（30，32，34），由此所述部分的面板（30，32，34 ）在彼此叠加的第一维度（X）发生在基片平面（14）。第二光学组件（20）在第一维度中的第一光学装置（18）（X）的前被布置在光传播方向具有这样的延伸和入射在第二光学装置（18）的光束（42）的角光谱所以加宽在第一维（X），即在第一维的第二光学组件（20）（X）的50％至在第一维（X）的光学系统（10）的Gesamtlichtleitwerts的100％的光电导值，从而使大致所有的光道（26; 28）的第一光学组件（18）的均匀光照射。

3. 发明公开

EP2010355A1 APPARATUS FOR LASER ANNEALING OF LARGE SUBSTRATES AND METHOD FOR LASER ANNEALING OF LARGE SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：装置：用于大型基板的激光退火大型激光退火基材和方法
公开(公告)号：EP2010355A1
公开(公告)日：2009-01-07
申请号：EP07727502.2
申请日：2007-03-29
申请人： Carl Zeiss Laser Optics GmbH
发明人： EGGER, Rafael , MARCZUK, Piotr , SEIFERT, Wolfgang , TRITSCHLER, Thorsten , ZENZINGER, Markus , ANDERL, Willi , WALTHER, Jörg
IPC分类号： B23K26/06 , B23K26/08 , G02B27/09 , B23K26/073 , H01L21/20
CPC分类号： G02B27/09 , B23K26/0604 , B23K26/0648 , B23K26/0652 , B23K26/066 , B23K26/0738 , B23K26/0823 , B23K26/083 , H01L21/02691 , H01L21/2026 , H01L27/1285
摘要： The invention relates to an apparatus for laser annealing of large substrates comprising an optical device for generating a narrow illuminating line (31) on an illumination plane (36) of said substrate (32), said illumination line (31) being generated from a laser beam and having a cross-section with an expansion in a first direction and an expansion in a second direction, whereby said expansion in said first direction exceeds said expansion in said second direction by a multiple, and a scanning device being constructed for scanning a first section of said illumination plane of said substrate with said illuminating line in said second direction. According to the invention the apparatus comprises a rotating device for rotating (39) said substrate (32) relative to said illuminating line (31) by 180° about an axis (38) of rotation being normal to said illumination plane (36) after scanning said first section (37), whereby said scanning device is constructed for scanning a second section of said illumination plane (36) of said substrate (32) being adjacent to said first section of said illumination plane (36) of said substrate (32) with said illuminating line (31) in said second direction (y).

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