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1. 发明专利

ES2827200T3 Procedimiento de exfoliación de grafeno 未知
公开(公告)号：ES2827200T3
公开(公告)日：2021-05-20
申请号：ES17798254
申请日：2017-11-21
申请人： COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE , CENTRE NAT RECH SCIENT , UNIV GRENOBLE ALPES
发明人： CUNGE GILLES , DAVYDOVA ALEXANDRA , DESPIAU-PUJO EMILIE , FERRAH DJAWHAR , RENAULT OLIVIER
IPC分类号： C01B32/194
摘要： Procedimiento de exfoliación de grafeno, que comprende una etapa de irradiación de un primer sustrato que comprende grafeno en la superficie, con un plasma de hidrógeno o de helio que comprende iones de energía comprendida entre 10 y 60 eV.

2. 发明专利

FR3059316A1 PROCEDE D'EXFOLIATION DE GRAPHENE 未知
公开(公告)号：FR3059316A1
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：FR1661699
申请日：2016-11-30
申请人： COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE
发明人： CUNGE GILLES , DAVYDOVA ALEXANDRA , DESPIAU-PUJO EMILIE , FERRAH DJAWHAR , RENAULT OLIVIER
IPC分类号： C01B32/19 , B82Y40/00
摘要： L'invention concerne un procédé d'exfoliation de graphène, comprenant une étape d'irradiation d'un premier substrat comportant en surface du graphène, par un plasma d'hydrogène ou d'hélium comportant des ions d'énergie comprise entre 10 et 60 eV. L'invention a aussi pour objet un procédé de fabrication de graphène à la surface d'un second substrat comportant le procédé d'exfoliation selon l'invention.

3. 发明专利

FR3017241A1 PROCEDE DE GRAVURE PLASMA 未知
公开(公告)号：FR3017241A1
公开(公告)日：2015-08-07
申请号：FR1450781
申请日：2014-01-31
申请人： COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE , CENTRE NAT RECH SCIENT
发明人： JOUBERT OLIVIER , CUNGE GILLES , DESPIAU-PUJO EMILIE , PARGON ERWINE , POSSEME NICOLAS
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/311
摘要： L'invention porte sur un procédé de gravure d'une couche à graver dans un réacteur de gravure plasma, le procédé comportant au moins une séquence d'étapes comprenant au moins: une étape de formation d'une couche réactive (710) comprenant une injection dans le réacteur d'au moins un gaz réactif pour former un plasma de gaz réactif(s), le plasma de gaz réactif(s) formant avec la couche à graver une couche réactive (110) qui pénètre dans la couche à graver au fur et à mesure de la gravure de la couche à graver, les paramètres de l'étape de formation d'une couche réactive (710) permettant à la couche réactive (110) d'atteindre, à l'issue d'une durée déterminée d'injection du gaz réactif, une épaisseur stationnaire dans le temps, caractérisé en ce que : l'injection du gaz réactif est interrompue avant ladite durée déterminée de manière à ce qu'à l'issue de l'étape de formation d'une couche réactive (710) l'épaisseur de la couche réactive (110) est inférieure à ladite épaisseur stationnaire dans le temps, et en ce que la séquence d'étapes comprend au moins une étape de retrait (720) de la couche réactive (110), l'étape de retrait (720) comprenant une injection dans le réacteur d'au moins un gaz neutre pour former un plasma de gaz neutre(s) permettant de retirer uniquement la couche réactive (110). L'invention porte également sur un système pour la mise en œuvre de l'invention.

4. 发明专利

FR3059316B1 PROCEDE D'EXFOLIATION DE GRAPHENE 未知
公开(公告)号：FR3059316B1
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：FR1661699
申请日：2016-11-30
申请人： COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE
发明人： CUNGE GILLES , DAVYDOVA ALEXANDRA , DESPIAU-PUJO EMILIE , FERRAH DJAWHAR , RENAULT OLIVIER
IPC分类号： C01B32/19 , B82Y40/00

5. 发明专利

FR3017241B1 PROCEDE DE GRAVURE PLASMA 未知
公开(公告)号：FR3017241B1
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：FR1450781
申请日：2014-01-31
申请人： COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE , CENTRE NAT RECH SCIENT
发明人： JOUBERT OLIVIER , CUNGE GILLES , DESPIAU-PUJO EMILIE , PARGON ERWINE , POSSEME NICOLAS
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/311

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