会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明申请
    • PROCEDE DE REALISATION D'UNE COUCHE CONTRAINTE EN TENSION A BASE DE GERMANIUM ETAIN
    • 一种用于生产层的应变电压锗TIN
    • WO2018037189A1
    • 2018-03-01
    • PCT/FR2017/052261
    • 2017-08-23
    • COMMISSARIAT À L'ÉNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIES ALTERNATIVES
    • REBOUD, VincentHARTMANN, Jean-MichelTCHELNOKOV, Alexei
    • H01L21/20
    • L'invention porte sur un procédé de réalisation d'une couche (12) contrainte en tension à base de germanium étain (GeSn), comportant les étapes suivantes : réalisation d'un empilement semiconducteur (10), comportant une couche à base de germanium étain (GeSn) et présentant une valeur initiale non nulle de contrainte en tension; structuration dudit empilement semiconducteur (10) de manière à former : o une partie structurée (20) et une partie périphérique (30), la partie structurée (20) comportant une portion centrale (21) reliée à la partie périphérique (30) par au moins deux portions latérales (22), o les portions latérales (22) présentant une largeur moyenne (b) supérieure à une largeur moyenne (a) de la portion centrale (21); suspension de la partie structurée (20), la portion centrale (21) présentant alors une valeur finale de contrainte en tension supérieure à la valeur initiale.
    • 本发明涉及一种方法 执行应力 - 应变层(12) 锗é锡(GESN),包括以下步骤解:R té实现,其包括层&agrave一个半导体层叠体(10)的; 锗基(GeSn)并显示初始非零应力值; 以这样的方式构造所述半导体堆叠(10) 形式:○结构化é部分e(20)和pé部分; RIPHé美国(30),所述结构化é部分e(20),其具有连接éE&agrave的中央部(21); pé部分; RIPHé美国(30)由至少两个纬度é部分; RAL(22)O LATé部分; RAL(22)PRé感觉的平均宽度(b)SUPé更高à 中央部分(21)的平均宽度(a); 悬挂结构é部分e(20),中央部分(21)的PRé而感觉最终值电压应力SUPé更高à 初始值。