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1. 发明申请

WO2007140931A1 BESCHICHTETER KÖRPER UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：涂覆体，及其制备方法
公开(公告)号：WO2007140931A1
公开(公告)日：2007-12-13
申请号：PCT/EP2007/004859
申请日：2007-06-01
申请人： CEMECON AG , GUSSONE, Joachim
发明人： GUSSONE, Joachim
IPC分类号： C23C16/02 , C23C16/27
CPC分类号： C23C16/27 , C23C16/0227 , H05K3/0044 , H05K3/0047 , Y10T428/24331
摘要： Beschrieben werden ein beschichteter Körper und Verfahren zur Vorbehandlung und Beschichtung eines Körpers. Der Körper weist ein Substrat aus einem Hartmetall oder Cermet, bestehend aus Hartstoffpartikeln i und Bindermaterial (2) und eine darauf angebrachte haftende Diamantschicht (4) auf. Mindestens ein Teil der Hartstoffpartikel (1) an der Oberfläche des Substrats und unter der Diamantschicht (4) weisen transkristalline Vertiefungen in Form von Löchern auf. Das Substrat kann aus Hartmetall überwiegend bestehend aus WC und Co bestehen. Eine CVD-Diamantschicht kann auf den Funktionsflächen aufgebracht sein. Bei wenigstens einer der diamantbeschichteten Funktionsflächen ist der Cobalt-Gehalt der Oberfläche angegeben in Gew.-% im Verhältnis zum WC gemessen mittels energiedispersiver Röntgenfluoreszenz nur um maximal 50% gegenüber dem unbehandelten Substrat vermindert. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden Hartstoffpartikel an der Oberfläche des Substrats auf che- mischem Wege transkristallin so angeätzt, daß Vertiefungen in Form von Einbuchtungen oder Löchern entstehen.
摘要翻译：一个涂装体和方法用于预处理和涂覆体进行说明。该本体具有由硬质金属或金属陶瓷的基底，包括设置在其上i和粘合剂材料（2）和硬质材料的颗粒，附着金刚石层（4）。至少一个基片的表面和金刚石层上的硬质材料颗粒（1）的部分（4）具有在孔的形式的反式结晶凹部。所述基板可以由超硬合金主要由WC和Co的存在的。甲CVD金刚石层可以被施加到功能面。至少在表面的钴含量的金刚石涂覆功能表面中的一个以重量％表示相对于由能量色散X射线荧光测量的WC仅通过与未处理基板的最大的50％的减少。在本发明方法的硬质材料颗粒在衬底蚀刻，使得在凹口或孔的形式形成凹部的化学混合器路径的表面上的反式结晶。

2. 发明申请

WO2004031437A1 BESCHICHTUNGSVERFAHREN UND BESCHICHTETER KÖRPER 审中-公开
标题翻译：涂层工艺及涂层体，
公开(公告)号：WO2004031437A1
公开(公告)日：2004-04-15
申请号：PCT/EP2003/010735
申请日：2003-09-26
申请人： CEMECON AG , GUSSONE, Joachim , FRANK, Martin , BREIDT, Dirk
发明人： GUSSONE, Joachim , FRANK, Martin , BREIDT, Dirk
IPC分类号： C23C16/02
CPC分类号： C23C30/005 , C23C16/0227 , C23C16/27 , Y10T428/30
摘要： Beschrieben wird ein Körper mit einem Hartmetall-Substrat (10) und einer Diamantschicht (30) sowie ein Verfahren zur Beschichtung eines Hartmetall-Substrats (10). Das Hartmetall-Substrat weist Hartstoffpartikel (20) und umgebendes Bindermaterial (22) auf. In einem ersten Bereich (24) intakten Hartmetalls sind die Hartstoffpartikel (20) von Bindermaterial (22) umgeben. Der Übergangsbereich des ersten Bereich (24) weist ein Tiefenprofil mit Vertiefungen (18) und Erhebungen (16) auf. Hierdurch ist die Diamantschicht (30) mit dem Substratmaterial (10) verklammert, wobei Teile der Diamantschicht (30) tiefer im Substrat (10) angeordnet sind als Erhebungen (16) des ersten Bereichs (24). Dies wird mit einem Vorbehandlungsverfahren erzielt, bei dem ein Hartmetall-Substrat (10) zunächst einem selektiven Ätzschritt zur Entfernung des Bindermaterials (22) unterworfen wird. Es bildet sich eine poröse Zone mit einem Tiefenprofil. Die Hartstoffpartikel in der porösen Zone (12) werden entweder durch Mikrostrahlen entfernt, oder in einem zweiten, WC-selektiven Ätzschritt entfernt. Schliesslich wird mit einem Co-selektiven Ätzschritt eine Cobaltanreicherung auf der Oberfläche entfernt und das Substrat (10) mittels CVD mit einer Diamantschicht beschichtet.
摘要翻译：包括硬质合金基底（10）和一个金刚石层（30）和涂覆硬质合金基材（10）的方法的主体进行说明。该硬质合金基底包括硬质材料颗粒（20）和周围的粘合剂材料（22）。在第一区域（24）完好无损的硬质合金，粘合剂材料（22）的硬质颗粒（20）所包围。所述第一区域（24）的过渡区域具有带有凹口（18）和凸起（16）的低轮廓。以这种方式，所述金刚石层（30）与所述衬底材料（10）被夹紧，与金刚石层（30）在基板（10）更深的部分被布置为第一区域（24）的凸起（16）。这是与其中硬质合金基底（10）首先进行选择性蚀刻步骤去除粘合剂材料（22）一前处理工艺来实现的。它形成一个低调多孔区。在多孔区（12）的硬质材料的颗粒或者通过微射流去除，或者在第二，WC-选择性蚀刻步骤中去除。最后，钴富集被除去，涂敷在衬底（10）由与具有共同选择性蚀刻步骤金刚石层的CVD装置的表面上。

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