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1. 发明申请

WO2017125362A1 REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT UND OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：用于EUV光刻的反射光学元件和光学系统
公开(公告)号：WO2017125362A1
公开(公告)日：2017-07-27
申请号：PCT/EP2017/050835
申请日：2017-01-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： NOTTBOHM, Christoph
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/24 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70216 , G03F1/24 , G03F7/70316 , G21K1/062
摘要： Um hohe Reflektivitäten auch über größere Einfallswinkelbereiche oder Wellenlängenbereiche zu ermöglichen, wird ein reflektives optisches Element für den extrem ultravioletten Wellenlängenbereich vorgeschlagen mit einem sich über eine Fläche erstreckenden Viellagensystem auf einem Substrat, wobei das Viellagensystem Lagen (54, 55') aus mindestens zwei verschiedenen Materialien mit unterschiedlichem Realteil des Brechungsindex bei einer Wellenlänge im extrem ultravioletten Wellenlängenbereich aufweist, die abwechselnd angeordnet sind, wobei eine Lage eines der mindestens zwei Materialien mit der oder den zwischen ihr und der in zunehmender Entfernung vom Substrat nächstgelegenen Lagen gleichen Materials angeordneten Lage oder Lagen einen Stapel bildet, wobei in mindestens einem Stapel (53') das Material der Lage (55') mit niedrigerem und/oder das Material der Lage (54) mit höherem Realteil des Brechungsindex eine Kombination (551, 552) aus mindestens zwei Substanzen ist, deren jeweiliger Anteil an dieser Lage (55') über mindestens eine Teilfläche (61') anders als über die übrige Fläche (61, 61") des Viellagensystems (51) ist.
摘要翻译：
要高的反射率＆AUML;约GR＆ouml ;; th且导航用途大街ERE入射角范围或波长＆AUML; ngenbereiche到ERM＆ouml;相似，是一个反射光学元件F＆uuml; R极紫外波长＆AUML;用向上提出长度范围在FL＆AUML;在衬底上切延伸的多层系统，其中，在所述极紫外波长BEAR长度范围内的波长BEAR长度具有折射率不同的实部的至少两种不同的材料的多层系统的层（54，55“），它们交替地布置其中至少两种材料或之间和AUML她从基板N的距离中的一个的位置;（53“）（蜡纸位于形成堆叠相同的材料设置的层的层或层，在至少一个叠层，所述层的材料 55'）和/或层（54）的材料具有较高的折射实部指数至少两种物质，其相应的共享该位置（55“）的OVER至少一个子区域具表面（61”）以外的OVER导航使用brige是的组合（551,552）FL＆AUML;枝（61 ，61“）。多层系统（51）。

2. 发明申请

WO2021037515A1 OPTISCHES ELEMENT UND EUV-LITHOGRAPHIESYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2021037515A1
公开(公告)日：2021-03-04
申请号：PCT/EP2020/072119
申请日：2020-08-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： GONCHAR, Anastasia , STURM, Matthias , NOTTBOHM, Christoph
IPC分类号： G21K1/06 , G03F7/20 , G02B1/14
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Element (1), umfassend: ein Substrat (2), ein auf das Substrat (2) aufgebrachtes, EUV-Strahlung (4) reflektierendes Mehrlagensystem (3), sowie ein auf das Mehrlagensystem (3) aufgebrachtes Schutzlagensystem (5), das eine erste Lage (5a), eine zweite Lage (5b) und eine dritte, insbesondere oberste Lage (5c) aufweist, wobei die erste Lage (5a) näher an dem Mehrlagensystem (3) angeordnet ist als die zweite Lage (5b) und wobei die zweite Lage (5b) näher an dem Mehrlagensystem (3) angeordnet ist als die dritte Lage (5c). Die zweite Lage (5b) und die dritte Lage (5c) sowie bevorzugt die erste Lage (5a) weisen jeweils eine Dicke (d2, d3, d1) zwischen 0,5 nm und 5,0 nm auf. Die Erfindung betrifft auch ein EUV- Lithographiesystem, umfassend: mindestens ein optisches Element, das wie weiter oben beschrieben ausgebildet ist.

3. 发明申请

WO2021259634A1 OPTISCHES ELEMENT FÜR EINE EUV-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2021259634A1
公开(公告)日：2021-12-30
申请号：PCT/EP2021/065352
申请日：2021-06-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ENKISCH, Hartmut , HOFFMANN, Sandro , WEBER, Jörn , STROBEL, Sebastian , RIBOW, Mirko , NOTTBOHM, Christoph , STURM, Matthias , KRAUSE, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08 , G02B5/18 , G02B27/425 , G02B5/0891 , G02B5/1838 , G02B5/1857 , G02B5/203 , G02B5/208 , G03F7/70158 , G03F7/70175 , G03F7/70575 , G21K1/062 , G21K2201/064 , G21K2201/067
摘要： Bei einem Verfahren zur Herstellung eines optischen Elements für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage wird eine formgebende Schicht (221) derart auf ein Substrat (20) aufgebracht, dass sie direkt nach dem Aufbringen auf das Substrat (20) eine Oberflächenrauheit von maximal 0,5 nm rms aufweist.

4. 发明申请

WO2018104109A1 VERFAHREN ZUM REPARIEREN VON REFLEKTIVEN OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE 审中-公开
公开(公告)号：WO2018104109A1
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：PCT/EP2017/080645
申请日：2017-11-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： MEIER, Robert , KIEREY, Holger , JALICS, Christof , EVA, Eric , WINTER, Ralf , SCHMITTNER, Arno , KUZNETSOV, Alexey , SHKLOVER, Vitaliy , NOTTBOHM, Christoph , MERKEL, Wolfgang
IPC分类号： G21K1/06 , G03F7/20
摘要： Es wird ein kostengünstiges Verfahren zum Reparieren von reflektiven optischen Elementen für die EUV-Lithographie vorgeschlagen, die ein Subtrat (61) und eine Beschichtung (62) aufweisen, die bei einer Arbeitswellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 20 nm reflektiert und durch Wasserstoffblasenbildung beschädigt ist. Das Verfahren weist die Schritte Lokalisieren einer Schadstelle (63, 64, 65, 66) in der Beschichtung (62) und Abdecken der Schadstelle (63, 64, 65, 66) mit einem oder mehreren Materialien mit geringer Wasserstoffdurchlässigkeit auf, indem auf die Schadstelle ein Abdeckelement aufgebracht wird, wobei das Abdeckelement mit einer Oberflächenstruktur, einer konvexen oder konkaven Oberfläche oder einer Beschichtung entsprechend der Beschichtung des reflektiven optischen Elements oder einer Kombination davon ausgebildet wird. Das Verfahren ist besonders geeignet für Kollektorspiegel (70) für die EUV-Lithographie. Nach der Reparatur weisen sie Abdeckelemente (71, 72, 73) auf.

5. 发明授权

EP3405838B1 REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT UND OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE 有权
公开(公告)号：EP3405838B1
公开(公告)日：2020-01-08
申请号：EP17700532.9
申请日：2017-01-16
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： NOTTBOHM, Christoph
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/24 , G21K1/06 , G02B5/08

6. 发明公开

EP3405838A1 REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT UND OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE 有权
公开(公告)号：EP3405838A1
公开(公告)日：2018-11-28
申请号：EP17700532.9
申请日：2017-01-16
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： NOTTBOHM, Christoph
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/24 , G21K1/06
摘要： In order also to facilitate high reflectivities over relatively large angle-of-incidence ranges or wavelength ranges, a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range is proposed, said reflective optical element comprising a multi-layer system extending over an area on a substrate, wherein the multi-layer system comprises layers (54, 55') made of at least two different materials with different real parts of the refractive index at a wavelength in the extreme ultraviolet wavelength range, said materials being arranged alternately, wherein a layer of one of the at least two materials forms a stack with the layer or layers arranged between said layer and the nearest layer of the same material with increasing distance from the substrate, wherein, in at least one stack (53'), the material of the layer (55') with the lower real part of the refractive index and/or the material of the layer (54) with the larger real part of the refractive index is a combination (551, 552) made of at least two substances, the respective component thereof in this layer (55') being different in at least one partial area (61') than in the remaining areas (61, 61") of the multi-layer system (51).

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