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1. 发明申请

WO2005071491A2 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND MEASURING DEVICE FOR A PROJECTION LENS 审中-公开
标题翻译：投影镜头的微观投影曝光装置和测量装置
公开(公告)号：WO2005071491A2
公开(公告)日：2005-08-04
申请号：PCT/EP2005/000246
申请日：2005-01-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , EHRMANN, Albrecht , WEGMANN, Ulrich , HOCH, Rainer , MALLMANN, Joerg , SCHUSTER, Karl, Heinz
发明人： EHRMANN, Albrecht , WEGMANN, Ulrich , HOCH, Rainer , MALLMANN, Joerg , SCHUSTER, Karl, Heinz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70591 , G03F7/70691 , G03F7/7085 , G03F7/70875 , G03F7/70891 , G03F7/70991
摘要： A microlithographic projection exposure apparatus includes a projection lens (20) that is configured for immersion operation. For this purpose an immersion liquid (34) is introduced into an immersion space (44) that is located between a last lens (L5; 54) of the projection lens (20) on the image side and a photosensitive layer (26) to be exposed. To reduce fluctuations of refractive index resulting from temperature gradients occurring within the immersion liquid (34), the projection exposure apparatus (10) includes heat transfer elements (50; 501; 502; 503; 504) with which zones of the immersion liquid (34) can be heated or cooled in a specified manner.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置包括配置为浸没操作的投影透镜（20）。为此，将浸没液体（34）引入位于图像侧的投影透镜（20）的最后一个透镜（L5; 54）与感光层（26）之间的浸没空间（44）中裸露。为了减少由浸没液体（34）内发生的温度梯度引起的折射率波动，投影曝光装置（10）包括传热元件（50; 501; 502; 503; 504），浸入液体）可以以指定的方式加热或冷却。

2. 发明申请

WO2004099877A1 OPTISCHE MESSVORRICHTUNG UND BETRIEBSVERFAHREN FÜR EIN OPTISCHES ABBILDUNGSSYSTEM 审中-公开
标题翻译：光学测量装置及其操作方法将光学图像系统
公开(公告)号：WO2004099877A1
公开(公告)日：2004-11-18
申请号：PCT/EP2003/004932
申请日：2003-05-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , EMER, Wolfgang , WEGMANN, Ulrich , SCHRIEVER, Martin , HOCH, Rainer
发明人： EMER, Wolfgang , WEGMANN, Ulrich , SCHRIEVER, Martin , HOCH, Rainer
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0264 , G01M11/0271 , G03F7/706 , G03F7/70875 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Messvorrichtung zur optischen, z.B. interferometrischen, Vermessung eines optischen Abbildungssystems (1), das zur Abbildung eines Nutzmusters vorgesehen ist, mit Mitteln (2, 5) zur Erzeugung von abbildungsfehlerindikativer Interferenzinformation Strahlungsinformation, mit z.B. Interferenzinformation, mit Maskenstrukturmitteln, die ein Messmuster (6) beinhalten, und mit Detektions- und Auswertemitteln (10) zur Erfassung und Auswertung der abbildungsfehlerindikativen Interferenzinformation sowie auf eine Vorrichtung zum abbildungsfehlerkorrektiven Betrieb des optischen Abbildungssystems. Erfindungsgemäß weisen die Maskenstrukturmittel (5) zusätzlich zum Messmuster (6) ein objektseitiges Aufheizbestrahlungsmuster (7) auf, das so gewählt ist, dass die Aufheizwirkung der von ihm durchgelassenen Strahlung für das zu vermessende optische Abbildungssystem innerhalb eines vorgebbaren Toleranzbereichs der Aufheizwirkung der Strahlung entspricht, die im Betrieb des optischen Abbildungssystems vom Nutzmuster durchgelassen wird. Die dadurch gewonnene abbildungsfehlerindikative Interferenzinformation Strahlungsinformation kann anschließend zur abbildungsfehlerkorrektiven Steuerung oder Regelung des optischen Abbildungssystems beim Abbilden des Nutzmusters herangezogen werden. Verwendung z.B. für Projektionsobjektive in Mikrolithographieanlagen zur Waferbelichtung.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光学，例如一个测量装置其被设置用于生成干扰信息abbildungsfehlerindikativer用例如辐射信息成像有用的模式，装置（2,5）的光学成像系统（1）的干涉测量干扰的信息，与掩模结构单元，其包括用于检测和评估abbildungsfehlerindikativen干扰信息，以及一种用于光学成像系统的操作abbildungsfehlerkorrektiven测量模式（6）中，用检测和评估装置（10）。根据本发明，掩模图案在除了测量图案装置（5）（6）的物体侧Aufheizbestrahlungsmuster（7），其被选择为使得由他的辐射的热效应可预先确定的公差范围内的对应于测量的光学成像系统发射的辐射的光的热效应，即在从实用新型成像光学系统的操作传送。将如此得到的abbildungsfehlerindikative干扰信息辐射信息可以用于随后的成像有用的模式时abbildungsfehlerkorrektiven所述光学成像系统的控制或调节。例如使用在用于晶片曝光微光刻系统的投影透镜。

3. 发明授权

EP1706793B1 EXPOSURE APPARATUS AND MEASURING DEVICE FOR A PROJECTION LENS 有权
标题翻译：曝光装置及设备，投影镜头
公开(公告)号：EP1706793B1
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：EP05700864.1
申请日：2005-01-13
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： EHRMANN, Albrecht , WEGMANN, Ulrich , HOCH, Rainer , MALLMANN, Joerg , SCHUSTER, Karl, Heinz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70591 , G03F7/70691 , G03F7/7085 , G03F7/70875 , G03F7/70891 , G03F7/70991

4. 发明公开

EP1706793A2 EXPOSURE APPARATUS AND MEASURING DEVICE FOR A PROJECTION LENS 有权
标题翻译：曝光装置及设备，投影镜头
公开(公告)号：EP1706793A2
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：EP05700864.1
申请日：2005-01-13
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： EHRMANN, Albrecht , WEGMANN, Ulrich , HOCH, Rainer , MALLMANN, Joerg , SCHUSTER, Karl, Heinz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70591 , G03F7/70691 , G03F7/7085 , G03F7/70875 , G03F7/70891 , G03F7/70991
摘要： A microlithographic projection exposure apparatus includes a projection lens (20) that is configured for immersion operation. For this purpose an immersion liquid (34) is introduced into an immersion space (44) that is located between a last lens (L5; 54) of the projection lens (20) on the image side and a photosensitive layer (26) to be exposed. To reduce fluctuations of refractive index resulting from temperature gradients occurring within the immersion liquid (34), the projection exposure apparatus (10) includes heat transfer elements (50; 501; 502; 503; 504) with which zones of the immersion liquid (34) can be heated or cooled in a specified manner.

5. 发明申请

WO2012072090A1 METHOD OF DETERMINING A BORDER OF AN INTENSITY DISTRIBUTION 审中-公开
标题翻译：确定强度分布边界的方法
公开(公告)号：WO2012072090A1
公开(公告)日：2012-06-07
申请号：PCT/EP2010/007219
申请日：2010-11-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HAIDNER, Helmut , HOCH, Rainer
发明人： HAIDNER, Helmut , HOCH, Rainer
IPC分类号： G01J9/02 , G03F7/20 , G01M11/02
CPC分类号： G01J9/0215 , G03F7/706
摘要： A method of determining a border (50) of an intensity distribution (48) on a detection surface (42) is provided, the intensity distribution (48) being generated by electromagnetic radiation after having passed through an optical system (12) and being recorded by a wave front measuring apparatus (10) for measuring a wave front distribution of the radiation. The intensity distribution (48) is blurred in the region of the border (50) due to spurious radiation (32b, 32c, 32d). The method comprises the steps of: identifying a parameter relating to the configuration of the wave front measuring apparatus (10) and influencing the generation of the spurious radiation, determining an influence of the identified parameter on the blurring of the recorded intensity distribution (48), and determining the border (50) of the intensity distribution from the recorded intensity distribution (48) taking the determined influence on the blurring into account.
摘要翻译：提供了一种确定检测表面（42）上的强度分布（48）的边界（50）的方法，所述强度分布（48）是在通过光学系统（12）并被记录之后由电磁辐射产生的通过用于测量辐射的波前分布的波前测量装置（10）。强度分布（48）由于杂散辐射（32b，32c，32d）在边界区域（50）中模糊。该方法包括以下步骤：识别与波前测量装置（10）的配置相关的参数并影响杂散辐射的产生，确定所识别的参数对所记录的强度分布的模糊的影响（48）并且考虑到对模糊的确定的影响，从记录的强度分布（48）确定强度分布的边界（50）。

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