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1. 发明申请

WO2005040925A1 EUV-PROJEKTIONSOBJEKTIV MIT SPIEGELN AUS MATERIALIEN MIT UNTERSCHIEDLICHEM VORZEICHEN DER STEIGUNG DER TEMPERATURABHÄNGIGKEIT DES WÄRMEAUSDEHNUNGSKOEFFIZIENTEN NAHE DER NULLDURCHGANGSTEMPERATUR 审中-公开
标题翻译：具有不同标牌材料接近零隧道温度的热膨胀系数的温度依赖性的斜率MIRROR EUV投影镜头
公开(公告)号：WO2005040925A1
公开(公告)日：2005-05-06
申请号：PCT/EP2003/010761
申请日：2003-09-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DINGER, Udo , EISERT, Frank , KOEHLER, Stefan , OCHSE, Andreas , ZELLNER, Johannes , LOWISCH, Martin , LAUFER, Timo
发明人： DINGER, Udo , EISERT, Frank , KOEHLER, Stefan , OCHSE, Andreas , ZELLNER, Johannes , LOWISCH, Martin , LAUFER, Timo
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , G02B1/00 , G02B5/0891 , G02B7/181 , G03F7/70891 , G21K1/062 , G21K2201/065
摘要： Ein Projektionsobjektiv (1) für kurze Wellenlängen, insbesondere für Wellenlängen λ
摘要翻译：投影透镜（1），用于短的波长，特别是对于波长的λ<具有多个反射镜（M1，M2，M3，M4，M5和M6），其位于精确地定位于光轴（5）的157纳米，提供。反射镜（M1，M2，M3，M4，M5和M6）包括多层涂层。至少两种不同的反射镜的材料作为温度的在过零的热膨胀系数的范围内的功能，特别是在尺寸的符号，不同之处设置系数的热膨胀的斜率。

2. 发明申请

WO2010025798A1 PROTECTION MODULE FOR EUV LITHOGRAPHY APPARATUS, AND EUV LITHOGRAPHY APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV光刻设备的保护模块和EUV光刻设备
公开(公告)号：WO2010025798A1
公开(公告)日：2010-03-11
申请号：PCT/EP2009/005588
申请日：2009-08-01
申请人： CARL ZEISS SMT AG , EHM, Dirk, Heinrich , LAUFER, Timo , BANNEY, Ben , KUGLER, Jens , NIEKEN, Ulrich , KELLER, Franz
发明人： EHM, Dirk, Heinrich , LAUFER, Timo , BANNEY, Ben , KUGLER, Jens , NIEKEN, Ulrich , KELLER, Franz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70883 , G03F7/70916 , G03F7/70983
摘要： In EUV lithography apparatus (10), it is proposed, in order to lengthen the lifetime of contamination- sensitive components, to arrange them in a protection module. The protection module comprises a housing (23-29) having at least one opening (37-47), in which at least one component (13a, 13b, 15, 16, 18, 19) is arranged and at which one or more gas feeds (30-36) are provided in order to introduce a gas flow into the housing (23-29), which emerges through the at least one opening (37-47). In order to effectively prevent contaminating substances from penetrating into the protection module, a light source (48-56) is arranged at the at least one opening (37-47), which light source illuminates the opening (37-47) with one or more wavelengths by which the contaminating substances can be dissociated before they penetrate through the opening (37-47).
摘要翻译：在EUV光刻设备（10）中，提出为了延长污染敏感元件的使用寿命，将其安置在保护模块中。保护模块包括具有至少一个开口（37-47）的壳体（23-29），其中布置有至少一个部件（13a，13b，15,16,18,19），并且一个或多个气体提供进料（30-36）以便将气流引入到通过至少一个开口（37-47）出现的壳体（23-29）中。为了有效地防止污染物质渗透到保护模块中，光源（48-56）布置在至少一个开口（37-47）处，该光源照射开口（37-47），其中一个或污染物质在穿透开口（37-47）之前可以分解的更多波长。

3. 发明申请

WO2010031526A1 OPTICAL ASSEMBLY WITH A TEMPERATURE -CONTROL DEVICE 审中-公开
标题翻译：光学组件与温度调节器件
公开(公告)号：WO2010031526A1
公开(公告)日：2010-03-25
申请号：PCT/EP2009/006638
申请日：2009-09-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHÖPPACH, Armin , LAUFER, Timo
发明人： SCHÖPPACH, Armin , LAUFER, Timo
IPC分类号： G02B7/00 , G02B7/18
CPC分类号： G02B7/1815 , G03F7/70825 , G03F7/70891
摘要： A temperature-control device (19) is used for controlling the temperature of an optical assembly (16) with at least one optical body (17), the temperature of which is to be controlled, with at least one optical surface (18) which can be acted upon by a heat flow. The temperature-control device (19) has a heat sink (20) to receive a heat flow (21), which is emitted by the optical body (17) or a transmission body which is in thermal connection with the optical body (17). The heat sink (20) is arranged adjacent to a peripheral region (22) of the optical surface (18). The temperature-control device (19) has a heating mechanism (28) with at least one heating body (29), which is arranged adjacent to the optical body (17). The heating body (29) is connected via a physical heat bridge (32) to the heat sink (20).
摘要翻译：温度控制装置（19）用于利用具有至少一个光学表面（18）至少一个光学表面（18）来控制具有至少一个光学体（17）的光学组件（16）的温度，其中温度控制装置可以被热流作用。温度控制装置（19）具有散热器（20），用于容纳由光学体（17）发射的热流（21）或与光学体（17）热连接的透光体，。散热器（20）被布置成与光学表面（18）的周边区域（22）相邻。温度控制装置（19）具有加热机构（28），其具有与光学体（17）相邻的至少一个加热体（29）。加热体（29）经由物理热桥（32）连接到散热器（20）。

4. 发明申请

WO2004092843A2 PROJEKTIONSOBJEKTIV, MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER HALBLEITERSCHALTUNG 审中-公开
标题翻译：投影透镜微光刻投射曝光设备和方法用于制造半导体电路
公开(公告)号：WO2004092843A2
公开(公告)日：2004-10-28
申请号：PCT/EP2004/002308
申请日：2004-03-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FEHR, Jean-Noel , LAUFER, Timo
发明人： FEHR, Jean-Noel , LAUFER, Timo
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70958
摘要： Ein Projektionsobjektiv für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage (10) hat mehrere optische Elemente (M1 bis M6) und Temperiermittel (34, 36) zum Einstellen einer zumindest annähernd homogenen Temperatur in wes nigstens einem der optischen Elemente (M6). Dieses wenigstens eine optische Element (M6) enthält ein Material, dessen thermischer Ausdehnungskoeffizient (α) bei einer Nulldurchgangs-Temperatur (T o ) ein Betragsminimum hat. Mit den Temperiermitteln (34, 36) lässt sich als Temperatur zumin dest annähernd die Nulldurchgangs-Temperatur (T o ) zumindest in einem Bereich des Materials, und zwar insbesondere einem Bereich in der Nähe einer Projektionslicht (161, 162) ausgesetzten Oberfläche (46), einstellen. Ein verschwindender oder betragsmässig wenigstens minimaler thermischer Ausdehnungskoeffizient bei der Temperatur T o ist deswegen vorteilhaft, weil auf diese Weise weder kleinere Temperaturschwankungen des gesamten optischen Elements (M6) noch Inhomogenitäten der Temperaturverteilung innerhalb des optischen Elements (M6) zu einer nennenswerten thermischen Verformung des Elements (M6) und damit zu Abbildungsfehlern führen können.
摘要翻译：用于微光刻投射曝光设备（10）的投影透镜具有的多个光学元件（M1-M6）和温度控制（34，36），用于在WES调节至少近似均匀的温度的nigstens光学元件（M6）中的一个。此至少一个光学元件（M6）包括在过零点温度热膨胀系数（阿尔法）（要）具有最小量的材料。随着回火（34,36）可以是至少近似的零交叉温度（To）的至少在材料的区域中，尤其是在投影光（161，162）的暴露表面（46），其为温度的附近的区域，设置。消失或在该温度下至少最小的热膨胀系数的大小为是有利的，因为以这种方式既不在光学元件（M6）内的温度分布的整个光学元件（M6）或不均匀性的微小的温度变化（于构件M6的显著热变形），并可能导致像差如此。

5. 发明申请

WO2004015477A1 OPTISCHE KOMPONENTE UMFASSEND EIN MATERIAL MIT EINEM NULLDURCHGANG DER THERMISCHER LÄNGSAUSDEHNUNG 审中-公开
标题翻译：光学元件包括材料带有过零点的纵向热膨胀
公开(公告)号：WO2004015477A1
公开(公告)日：2004-02-19
申请号：PCT/EP2003/007038
申请日：2003-07-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LAUFER, Timo , FEHR, Jean-Noel , KIRCHNER, Harald
发明人： LAUFER, Timo , FEHR, Jean-Noel , KIRCHNER, Harald
IPC分类号： G02B7/18
CPC分类号： G02B7/181 , G03F7/70233 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/06
摘要： Die Erfindung betrifft eine optische Komponente, insbesondere für elektromagnetische Strahlung einer Wellenlänge λ ≤ 193 nm, insbesondere im Bereich 5 nm ≤ λ ≤ 20 nm, die sich durch Absorbtion auf eine Maximaltemperatur T max erwärmt, umfassend wenigstens ein Material umfasst, das einen temperaturabhängigen thermischen Längsausdehnungskoeffizienten von α ( T 0 ) = 0 bei einer vorgegebenen Temperatur T 0 aufweist. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die vorgegebene Temperatur T 0 derart gewählt wird, dass die Temperatur T 0 ungefähr der Maximaltemperatur T max , auf die die optische Komponente erwärmt wird, entspricht.
摘要翻译：本发明涉及一种光学元件，在波长为λ的特定电磁辐射<= 193纳米，特别是在范围为5nm <=拉姆达<=包括包括20纳米，它是由吸收加热至最高温度Tmax，具有至少一个材料热膨胀α（T0）的温度依赖性系数= 0具有，在预定温度T0。本发明的特征在于，所述预定温度T0被选择，以使温度T0大致对应于最大温度Tmax，在其上的光学部件进行加热。

6. 发明公开

EP1664933A1 EUV-PROJEKTIONSOBJEKTIV MIT SPIEGELN AUS MATERIALIEN MIT UNTERSCHIEDLICHEM VORZEICHEN DER STEIGUNG DER TEMPERATURABHÄNGIGKEIT DES WÄRMEAUSDEHNUNGSKOEFFIZIENTEN NAHE DER NULLDURCHGANGSTEMPERATUR 审中-公开
标题翻译：具有不同标牌材料接近零隧道温度的热膨胀系数的温度依赖性的斜率MIRROR EUV投影镜头
公开(公告)号：EP1664933A1
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：EP03755564.6
申请日：2003-09-27
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： DINGER, Udo , EISERT, Frank , KOEHLER, Stefan , OCHSE, Andreas , ZELLNER, Johannes , LOWISCH, Martin , LAUFER, Timo
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , G02B1/00 , G02B5/0891 , G02B7/181 , G03F7/70891 , G21K1/062 , G21K2201/065
摘要： The invention relates to a projection lens (1) for short wavelengths, in particular, for wavelengths μ

7. 发明申请

WO2012013748A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013748A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062997
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein at least one reflective optical element comprises a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature, and wherein the body of the optical element is semitransparent to IR radiation. Further, the body comprises a coating on or on almost its entire surface, wherein the coating reflects IR radiation inside the body.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV光的曝光功率，其中至少一个反射光学元件包括在零交叉温度下具有温度依赖的热膨胀系数为零的材料，并且其中所述光学元件的主体与IR辐射半透明。此外，主体包括在其整个表面上或之上的涂层，其中涂层反射体内的IR辐射。

8. 发明申请

WO2020057873A1 BAUGRUPPE EINES OPTISCHEN SYSTEMS, INSBESONDERE IN EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE, SOWIE VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES SOLCHEN OPTISCHEN SYSTEMS 审中-公开
公开(公告)号：WO2020057873A1
公开(公告)日：2020-03-26
申请号：PCT/EP2019/071928
申请日：2019-08-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , LAUFER, Timo
发明人： LAUFER, Timo
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18 , G02B26/08
摘要： Die Erfindung betrifft eine Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein Verfahren zum Betreiben eines solchen optischen Systems. Gemäß einem Aspekt weist eine erfindungsgemäße Baugruppe eine Spiegelanordnung aus einer Mehrzahl von Spiegelelementen (101, 102, 103,... ) und eine Heizvorrichtung zum Einbringen einer Heizleistung in die Spiegelanordnung auf, wobei diese Heizleistung über die Spiegelanordnung hinweg lokal variabel einstellbar ist; wobei die Spiegelelemente (101, 102, 103,...) auf einem gemeinsamen Träger (110) angeordnet sind, wobei die Baugruppe ferner eine Wärmesenke (140) aufweist, und wobei zwischen dem Träger (110) und der Wärmesenke (140) ein Abschnitt (145) von erhöhtem thermischem Widerstand vorgesehen ist.

9. 发明申请

WO2012013747A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013747A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062996
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system with at least two reflective optical elements each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein the bodies of at least two reflective optical elements comprise a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at respective zero cross temperatures, and wherein the absolute value of the difference between the zero cross temperatures is more than 6K.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，其具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件均包括主体和反射表面，用于在掩模版上将物场投射到基板上的图像场上，如果投影透镜曝光 EUV光的功率，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有温度依赖的热膨胀系数的材料，其在相应的零交叉温度下为零，并且其中零交叉温度之间的差的绝对值更多超过6K。

10. 发明申请

WO2012013746A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013746A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062995
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A mirror comprising a body and a reflective surface, the body comprising a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature T 0k- Further, at least a part of the surface of the body comprises a wire grid for electrically resistive heating of the body and the mirror is adapted for a projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light.
摘要翻译：一种包括主体和反射表面的反射镜，所述主体包括具有温度依赖的热膨胀系数的材料，其在零交叉温度T0k为零。此外，主体的表面的至少一部分包括用于本体和反射镜的电阻加热适用于EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，用于将掩模版上的物场投影到基板上的图像场上，如果投影透镜以曝光量曝光 EUV灯。

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