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1. 发明申请

WO2020043552A1 OPTISCHES SYSTEM ZUR VERWENDUNG IN EINER UNTERWASSERUMGEBUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2020043552A1
公开(公告)日：2020-03-05
申请号：PCT/EP2019/072261
申请日：2019-08-20
申请人： CARL ZEISS JENA GMBH , CARL ZEISS AG
发明人： KAISER, Andreas , SONDERMANN, Mario , BERNER, Andrea , LANGE, Hans , DÖRING, Dirk , WEBER, Uwe , HACKEL, Tobias
IPC分类号： G02B7/02 , G02B23/22 , G03B17/08 , G03B17/12 , G03B17/14
摘要： Es wird ein optisches System (10) zur Verwendung in einer Unterwasserumgebung vorgeschlagen, wobei das optische System (10) ein Gehäuse, das einen Innenraum (60) des optischen Systems (10) gegenüber der Umgebung (50) wasserdicht abgrenzt, und eine Linse (20) mit einer Außenoberfläche (24) umfasst, wobei das Gehäuse eine Fassung (40) aufweist, wobei die Linse (20) derart in der Fassung (40) aufgenommen ist, dass, wenn sich das optische System (10) in der Unterwasserumgebung befindet, die Außenoberfläche (24) der Linse (20) mit Wasser der Unterwasserumgebung in Fluidkontakt steht, wobei die Außenoberfläche (24) der Linse (20) eine gewölbte Form, insbesondere eine konvexe Form, vorzugsweise eine sphärisch-konvexe Form, aufweist, wobei die Linse (20) eine erste gewölbte, insbesondere sphärische, Kontaktfläche (28) und die Fassung (40) eine zweite Kontaktfläche (48) aufweist, wobei die Linse (20) derart in der Fassung (40) angeordnet ist, dass die erste Kontaktfläche (28) gegen die zweite Kontaktfläche (48) drückt, wenn der Druck der Umgebung (50) des optischen Systems (10) höher ist als der Druck in dem Innenraum (60) des optischen Systems (10).

2. 发明申请

WO2019001639A1 LITHOGRAPHIEBELICHTUNGSVORRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2019001639A1
公开(公告)日：2019-01-03
申请号：PCT/DE2018/100590
申请日：2018-06-27
申请人： CARL ZEISS JENA GMBH
发明人： SEMMLER, Ralph , DÖRING, Dirk , HUSEMANN, Christoph , JAHN, Dirk , KAISER, Andreas
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/22 , G02B27/00
CPC分类号： G02B13/22 , G02B27/0075 , G03F7/70241 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/70308
摘要： Die Erfindung betrifft eine Lithographiebelichtungsvorrichtung mit einer Belichtungseinheit (5) umfassend eine Bildgebermatrix (2), ein telezentrisches Objektiv (1) sowie einen Werktisch (4) mit einer Auflagefläche (4.1) zur relativen Anordnung und zum relativen Verfahren eines Substrats mit einer Fotolackschicht (3) zum Objektiv (1) in einer Verfahrrichtung (R), wobei die Bildgebermatrix (2) in eine Bildebene (BB) abgebildet wird, die zu einer durch die Auflagefläche (4.1) definierten Ebene (E) verkippt ist oder eine tatsächliche Länge des Schärfentiefebereichs (T) wenigstens 1,5 - fach größer ist, als die sich aus dem bildseitigen Öffnungswinkel (CCB) ergebende rechnerische Länge (I R ).

3. 发明申请

WO2020083763A1 OPTISCHES SYSTEM FÜR EIN UNTERWASSEROBJEKTIV 审中-公开
公开(公告)号：WO2020083763A1
公开(公告)日：2020-04-30
申请号：PCT/EP2019/078336
申请日：2019-10-18
申请人： CARL ZEISS JENA GMBH
发明人： KAISER-FEUERSTEIN, Andreas , DÖRING, Dirk , BERNER, Andrea , SONDERMANN, Mario
IPC分类号： G02B13/04 , G02B27/00
摘要： Optisches System für ein Unterwasserobjektiv mit einem Frontelement (1) und einem aus mehreren Linsen bestehenden Teilsystem (2), wobei das Frontelement (1) eine Negativlinse mit einer konvex gekrümmten Eintrittsfläche (1.1) mit einem ersten Radius (r 1 ), einer konkav gekrümmten Austrittsfläche (1.2) mit einem zweiten Radius (r 2 ) und einer Mittendicke (d) ist, eine Brechkraft in Luft F aufweist und aus einem Glas mit einer Brechzahl (n 1 ) besteht, wobei das Verhältnis zwischen der B rech kraft in Luft F, der Brechzahl (n 1 ) und der Mittendicke (d) folgende Bedingung F*n 1 *d ≤ -0,09 erfüllt, wobei - 0,1/mm ≤ F ≤ -0,002/mm, n 1 ≤ 2,0 und 5 mm ≤ d ≤ 50 mm ist.

4. 发明申请

WO2018115102A1 MIKROSKOP MIT WELLENFRONTMANIPULATOR 审中-公开
公开(公告)号：WO2018115102A1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：PCT/EP2017/083777
申请日：2017-12-20
申请人： CARL ZEISS JENA GMBH
发明人： ROTH, Eckhard , DÖRING, Dirk
IPC分类号： G02B7/08 , G02B21/36 , G02B27/00
CPC分类号： G02B21/367 , G02B7/08 , G02B27/0068
摘要： Es wird ein Mikroskop mit einem optischen Strahlengang und einem im optischen Strahlengang angeordneten Wellenfrontmanipulator mit wenigstens einem ersten optischen Element (101, 201) und einem zweiten optischen Element (103), welches derart relativ zum ersten optischen Element (101) angeordnet oder anzuordnen ist, dass sich beide optischen Elemente (101, 103) im Strahlengang befinden, wenn der Wellenfrontmanipulator im optischen Strahlengang angeordnet ist, zur Verfügung gestellt. Das erste optische Element (101) weist eine erste Freiformfläche (102,) auf, und das zweite optische Element (103) weist eine zweite Freiformfläche (104) auf. Dabei sind das erste optische Element (101) und das zweite optische Element (103) relativ zueinander bewegbar angeordnet. Das erste optische Element (101) weist eine Radialrichtung, eine zur Radialrichtung senkrecht verlaufende Umfangsrichtung und eine senkrecht zur Radialrichtung sowie zur Umfangsrichtung verlaufende Rotationsachse (RA) auf. Außerdem ist das erste optische Element um die Rotationsachse (RA) drehbar gelagert, und es ist ein auf das erste optische Element (101) zum Drehen des ersten optischen Elements (101) einwirkender Antrieb (107) vorhanden. Die erste Freiformfläche (102) variiert zumindest in Umfangsrichtung des ersten optischen Elements (101).

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