会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 3. 发明专利
    • Composiciones cosméticas o dermatológicas fotoestables
    • ES2582485T3
    • 2016-09-13
    • ES05786945
    • 2005-09-19
    • BASF SE
    • MÜLLER STEFANHERZOG BERNDQUASS KATJA
    • A61K8/35A61K8/40A61K8/37A61K8/41A61K8/97A61P17/16A61Q5/02A61Q5/12A61Q17/04
    • Uso de una cantidad eficaz fotoestabilizante de un agente estabilizante (a), que es 2-etilhexil 2-ciano,3,3- difenilacrilato de fórmula**Fórmula** para mejorar la estabilidad con respecto a la radiación UV de una composición cosmética o dermatológica que comprende una combinación de filtros UV de al menos un derivado de dibenzoilmetano (b) y de al menos un derivado de 2-hidroxibenzofenona amino-sustituido (c); en donde el derivado de 2-hidroxibenzofenona (c) corresponde a la fórmula**Fórmula** R1 y R2, independientemente uno del otro son hidrógeno; alquilo C1-C30; alquenilo C2-C10; cicloalquilo C3-C10; o cicloalquenilo C3-C10; o R1 y R2 juntos forman, con el átomo de nitrógeno al cual están unidos, un miembro del anillo heterocíclico de 5- o 6- miembros; R3 y R4, independientemente uno del otro, son cada uno alquilo C1-C20; alquenilo C2-C10; cicloalquilo C3-C10; cicloalquenilo C3-C10; alcoxi C1-C12; alcoxicarbonilo (C1-C20); alquilamino C1-C12; dialquilamino (C1-C12); un radical arilo o un heteroarilo que es opcionalmente sustituido; o un sustituyente que se solubiliza en agua seleccionado de un grupo carboxilato, un grupo sulfonato o un residuo de amonio; X es hidrógeno; -COOR5; o -CONR6R7; R5, R6 y R7, independientemente uno del otro, son hidrógeno; alquilo C1-C20; alquenilo C2-C10; cicloalquilo C3-C10; cicloalquenilo C3-C10, -(Y'O)0-Z'; o arilo; Y' es -(CH2)2-; -(CH2)3-; -(CH2)4-; o -CH-(CH3)-CH2-; Z' es -CH2-CH3; -CH2-CH2CH3; -CH2CH2-CH2-CH3 o -CH(CH3)-CH3; n es un número entero desde 0 a 3; y o es un número entero desde 1 a 2.