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1. 发明申请

WO2006020643A2 ION BEAM MEASUREMENT SYSTEMS AND METHODS FOR ION IMPLANT DOSE AND UNIFORMITY CONTROL 审中-公开
标题翻译：离子束测量系统和离子植入剂量和均匀性控制的方法
公开(公告)号：WO2006020643A2
公开(公告)日：2006-02-23
申请号：PCT/US2005/028278
申请日：2005-08-08
申请人： AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. , PETRY, Klaus , FERRARA, Joseph , BECKER, Klaus
发明人： PETRY, Klaus , FERRARA, Joseph , BECKER, Klaus
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/20 , H01J37/304 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/20235 , H01J2237/20242 , H01J2237/24528 , H01J2237/31703
摘要： Dosimetry systems and methods are also presented for measuring a scanned ion beam at a plurality of points along a curvilinear path at a workpiece location in a process chamber. An illustrated dosimetry system comprises a sensor and a mounting apparatus that supports support the sensor and selectively positions the sensor at a plurality of points along the curvilinear path, wherein the mounting apparatus can selectively position the sensor to point toward a vertex of the scanned ion beam.
摘要翻译：还提出了测量系统和方法，用于在处理室中的工件位置处沿着曲线路径的多个点处测量扫描离子束。所示的剂量测定系统包括传感器和安装设备，其支撑传感器并且选择性地将传感器定位在沿着曲线路径的多个点处，其中安装设备可以选择性地将传感器定位成朝向扫描离子束的顶点。

2. 发明申请

WO2006083886A3 ION SOURCE FOR USE IN AN ION IMPLANTER 审中-公开
公开(公告)号：WO2006083886A3
公开(公告)日：2006-08-10
申请号：PCT/US2006/003429
申请日：2006-01-31
申请人： AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. , BECKER, Klaus , BAER, Werner , PETRY, Klaus
发明人： BECKER, Klaus , BAER, Werner , PETRY, Klaus
IPC分类号： H01J37/317 , H01J27/02 , H01J37/08
摘要： An ion implanter (10) having a source (18), a workpiece support and a transport system for delivering ions from the source to an ion implantation chamber (16) that contains the workpiece support. The ion source has an arc chamber (110) for ionizing a source material routed into the arc chamber that defines an exit aperture (114) for routing ions to the transport system and including an arc chamber flange (120) attached to the arc chamber and including a first surface (122) that defines a gas inlet (124) which accepts gas from a source (30) and a gas outlet (130) which opens into the arc chamber. An arc chamber support includes a support flange (142) having a conforming surface (144) that sealingly engages the first surface of arc chamber flange at a region of the gas inlet and further includes a throughpassage (146) that aligns with the gas inlet. A gas supply line (26/126) routes gas from a gas source through the throughpassage of the support flange and into the gas inlet of said arc chamber flange.

3. 发明申请

WO2013013086A1 CURRENT LIMITER FOR HIGH VOLTAGE POWER SUPPLY USED WITH ION IMPLANTATION SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于离子植入系统使用的高压电源的电流限制
公开(公告)号：WO2013013086A1
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：PCT/US2012/047469
申请日：2012-07-19
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. , BECKER, Klaus , PETRY, Klaus , LUBICKI, Piotr
发明人： BECKER, Klaus , PETRY, Klaus , LUBICKI, Piotr
IPC分类号： H01J27/02 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/241 , H01J27/022 , H01J37/3171 , H01J2237/0203 , H01J2237/0206 , H02H9/02
摘要： Disclosed is a surge protection system for use with an ion source assembly. The system comprises a high voltage power source coupled in series with a thermionic diode or a thermionic triode and an ion source assembly. The high voltage power supply is enclosed in the pressure tank and drives the ion source assembly. The thermionic diode or triode is comprised of an insulating tube disposed between the ion source assembly enclosure and the output of the high voltage power supply and makes use of existing ion source assembly components to limit damage to the power supply during are failures of the ion source assembly..
摘要翻译：公开了一种用于离子源组件的浪涌保护系统。该系统包括与热电偶二极管或热离子三极管和离子源组件串联耦合的高压电源。高压电源封装在压力罐中并驱动离子源组件。热离子二极管或三极管由设置在离子源组件外壳和高压电源的输出之间的绝缘管组成，并且利用现有的离子源组件部件来限制在离子源故障期间对电源的损坏部件..

4. 发明申请

WO2008051369A2 LOW-COST ELECTROSTATIC CLAMP WITH FAST DECLAMP TIME 审中-公开
标题翻译：低成本的静电夹钳具有快速减速时间
公开(公告)号：WO2008051369A2
公开(公告)日：2008-05-02
申请号：PCT/US2007/021614
申请日：2007-10-10
申请人： AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. , LAFONTAINE, Marvin , PHARAND, Michel , RUBIN, Leonard , BECKER, Klaus
发明人： LAFONTAINE, Marvin , PHARAND, Michel , RUBIN, Leonard , BECKER, Klaus
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6833 , H02N13/00
摘要： A method for manufacturing a semiconductor wafer electrostatic clamp, comprising providing a mounting plate, forming an insulative layer on an insulating portion of the mounting plate, forming a first electrode on a first portion of the mounting plate, forming a second electrode on a second portion of the mounting plate, forming a first segment having a first conductivity over the first electrode, forming a first region having a second conductivity over the first segment that creates an n-p type composite, forming a second segment having a third conductivity formed over the over the second electrode, forming a second region having a fourth conductivity formed over the second region that creates an p-n type composite.
摘要翻译：一种制造半导体晶片静电夹的方法，包括提供安装板，在安装板的绝缘部分上形成绝缘层，在安装板的第一部分上形成第一电极，在第二部分上形成第二电极在所述第一电极上形成具有第一导电性的第一区段，在所述第一区段上形成具有第二导电性的第一区域，所述第一区域在所述第一区段上形成np型复合材料，形成具有第三导电性的第二区段，在第二区域上形成具有第四导电性的第二区域，形成pn型复合材料的第二电极。

5. 发明授权

EP1844487B1 ION SOURCE FOR USE IN AN ION IMPLANTER 有权
标题翻译：离子源USE FOR A离子注入机
公开(公告)号：EP1844487B1
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：EP06734131.3
申请日：2006-01-31
申请人： AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
发明人： BECKER, Klaus , BAER, Werner , PETRY, Klaus
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/08 , H01J37/3171

6. 发明公开

EP1844487A2 ION SOURCE FOR USE IN AN ION IMPLANTER 有权
标题翻译：离子源USE FOR A离子注入机
公开(公告)号：EP1844487A2
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：EP06734131.3
申请日：2006-01-31
申请人： AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
发明人： BECKER, Klaus , BAER, Werner , PETRY, Klaus
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/08 , H01J37/3171
摘要： An ion implanter (10) having a source (18), a workpiece support and a transport system for delivering ions from the source to an ion implantation chamber (16) that contains the workpiece support. The ion source has an arc chamber (110) for ionizing a source material routed into the arc chamber that defines an exit aperture (114) for routing ions to the transport system and including an arc chamber flange (120) attached to the arc chamber and including a first surface (122) that defines a gas inlet (124) which accepts gas from a source (30) and a gas outlet (130) which opens into the arc chamber. An arc chamber support includes a support flange (142) having a conforming surface (144) that sealingly engages the first surface of arc chamber flange at a region of the gas inlet and further includes a throughpassage (146) that aligns with the gas inlet. A gas supply line (26/126) routes gas from a gas source through the throughpassage of the support flange and into the gas inlet of said arc chamber flange.

7. 发明公开

EP1779404A2 ION BEAM MEASUREMENT SYSTEMS AND METHODS FOR ION IMPLANT DOSE AND UNIFORMITY CONTROL 审中-公开
标题翻译：离子束测量系统和控制离子注入剂量和均匀性方法
公开(公告)号：EP1779404A2
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：EP05785056.2
申请日：2005-08-08
申请人： Axcelis Technologies, Inc.
发明人： PETRY, Klaus , FERRARA, Joseph , BECKER, Klaus
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/20 , H01J37/304 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/20235 , H01J2237/20242 , H01J2237/24528 , H01J2237/31703
摘要： Dosimetry systems and methods are also presented for measuring a scanned ion beam at a plurality of points along a curvilinear path at a workpiece location in a process chamber. An illustrated dosimetry system comprises a sensor and a mounting apparatus that supports support the sensor and selectively positions the sensor at a plurality of points along the curvilinear path, wherein the mounting apparatus can selectively position the sensor to point toward a vertex of the scanned ion beam.

8. 发明申请

WO2009138074A1 DREHVENTIL FÜR EINEN HYDRAULISCHEN SCHALTER 审中-公开
标题翻译：旋转阀的液压开关
公开(公告)号：WO2009138074A1
公开(公告)日：2009-11-19
申请号：PCT/DE2009/000682
申请日：2009-05-13
申请人： SCHAEFFLER KG , BECKER, Klaus , DAVIES, Stewart , WIEGMANN, Sebastian
发明人： BECKER, Klaus , DAVIES, Stewart , WIEGMANN, Sebastian
IPC分类号： F16K5/04
CPC分类号： F16K5/0442
摘要： Die Erfindung betrifft ein Drehventil (1), insbesondere für einen hydraulischen Schalter, umfassend ein Ventilgehäuse (2) sowie eine Schaltwelle (4), die durch zumindest zwei axial beabstandete Kugellager (5a, 5b) in dem Ventilgehäuse drehbar gelagert ist, wobei durch jedes Kugellager Radialkräfte übertragen werden können und durch beide Kugellager zusammen Axialkräfte in beiden Axialrichtungen übertragen werden können und wobei die Schaltwelle in einer ersten Position einen Hydraulikkanal (12) des Ventilgehäuses durch einen Hydraulikkanal (14) der Schaltwelle verbindet, und die Schaltwelle in einer zweiten, zur ersten verdrehten Position, den Hydraulikkanal des Ventilgehäuses nicht verbindet.
摘要翻译：本发明涉及一种旋转阀（1），尤其是用于一液压开关，其包括一阀壳体（2）和一个开关轴（4）由至少两个轴向隔开的球轴承（图5a，5b）可转动地安装在阀壳体中，每个其中球轴承的径向力可以传输和轴向负荷一起可在两个轴向方向上通过两个滚珠轴承被发送，并且其中所述开关轴在一第一位置的阀壳体的液压通道（12）由换档轴的液压通道（14）和在第二变速轴，用于连接，不连接在阀壳体第一扭绞线位置的液压通道。

9. 发明申请

WO2006042624A1 BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG FÜR MIKROSKOPE 审中-公开
标题翻译：照明装置显微镜用
公开(公告)号：WO2006042624A1
公开(公告)日：2006-04-27
申请号：PCT/EP2005/010471
申请日：2005-09-28
申请人： CARL ZEISS JENA GMBH , SCHADWINKEL, Harald , NOLTE, Andreas , BECKER, Klaus , MÜLLER-WIRTS, Thomas
发明人： SCHADWINKEL, Harald , NOLTE, Andreas , BECKER, Klaus , MÜLLER-WIRTS, Thomas
IPC分类号： G02B21/06
CPC分类号： G02B21/082
摘要： Beleuchtungseinrichtung für Mikroskope, welche lösbar mit dem Mikroskop verbunden ist und mindestens eine nichtklassische Leuchtquelle wie z.B. LED, Laser o.ä aufweist und wobei das Mikroskop über ein Bedienelement zur Einstellung der Helligkeit der Beleuchtung verfügt, und bei der die Helligkeit der nichtklassischen Leuchtquelle mittels diesem Bedienelement eingestellt wird.
摘要翻译：为显微镜的照明装置，其可释放地连接到所述显微镜和至少一种非经典的光源，例如具有LED，激光器或者类似的，并且其中所述显微镜具有调整照明的亮度的控制元件，和非经典的光源的亮度由该操作元件来调节。

10. 发明申请

WO2013037877A1 SOLARSTRAHLUNGSEMPFÄNGER MIT EINEM EINTRITTSFENSTER AUS QUARZGLAS SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES EINTRITTSFENSTERS 审中-公开
标题翻译：带票窗口从石英玻璃和方法太阳辐射接收器用于生产入口窗
公开(公告)号：WO2013037877A1
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：PCT/EP2012/067927
申请日：2012-09-13
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , BECKER, Klaus , HOFMANN, Achim , HÜNERMANN, Michael , SCHENK, Christian
发明人： BECKER, Klaus , HOFMANN, Achim , HÜNERMANN, Michael , SCHENK, Christian
IPC分类号： F24J2/07 , F24J2/50 , C03B20/00 , C30B15/10
CPC分类号： F24S10/40 , C03B19/09 , C03B19/095 , C03B29/02 , C03B2201/02 , C03B2201/04 , C03C3/06 , C03C4/08 , F24S20/20 , F24S80/52 , F24S2080/503 , Y02E10/41
摘要： Übliche Solarstrahlungsempfänger sind mit einer Kammer zwecks Durchleitung eines Arbeitsgases ausgestattet, das zur Wärmeaufnahme an einem Absorber für Solarstrahlung entlang geleitet wird. Der Absorber ist mit einem kuppelförmigen Eintrittsfenster aus Quarzglas versehen, bei dem die dem Absorber zugewandte Innenseite beim bestimmungsgemäßen Einsatz eine nominale Innentemperatur Ti von mindestens 950 °C, vorzugsweise mindestens 1000 °C, annimmt, wohingegen die dem Absorber abgewandte Außenseite der Umgebung ausgesetzt ist und der Gefahr einer Entglasung unterliegt. In der Erfindung geht es darum, den bekannten Solarstrahlungsempfänger so zu modifizieren, dass eine hohe Absorbertemperatur einstellbar ist und damit eine hohe Effizienz der solarthermischen Aufheizung ermöglicht wird, und zwar ohne eine Vergrößerung der Gefahr einer Entglasung im Bereich der Außenseite des Eintrittsfensters.
摘要翻译：常规的太阳能辐射接收器配备有用于工作气体，其被沿着传导到太阳辐射的吸收器的热吸收的通路的腔室。吸收体的区域的外侧设置有由石英玻璃构成的圆顶状入射窗，其中，所述预期使用期间面对内部的吸收体的一侧，至少950℃的标称内部温度T℃，优选至少1000℃，接受，而远离吸收体被暴露并且受反玻璃化的风险。在本发明中，它涉及到修改已知的太阳辐射接收器，使得高吸收温度是可调节的，因而太阳能热加热的高效率是可能的，而不入射窗外侧增加的区域的失透的风险。

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