专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

2. 发明申请

WO2016169890A1 LITHOGRAPHIC METHOD AND APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光刻方法和装置
公开(公告)号：WO2016169890A1
公开(公告)日：2016-10-27
申请号：PCT/EP2016/058544
申请日：2016-04-18
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： BASELMANS, Johannes, Jacobus, Matheus , DE BUCK, Pieter, Bart, Aloïs , VANROOSE, Nico , IMPONENTE, Giovanni , STAS, Roland, Johannes, Wilhelmus , KAUR, Chanpreet , DOWNES, James, Robert
IPC分类号： G03F7/20 , G01M11/02
CPC分类号： G03F7/706 , G01M11/0242 , G01M11/0257 , G03F7/70866
摘要： A method comprising illuminating a patterning device (ΜΑ') comprising a plurality of patterned regions (15a-15c) of which each patterns a measurement beam (17a-17c), projecting, with a projection system (PL), the measurement beams onto a sensor apparatus (21) comprising a plurality of detector regions (25a-25c), making a first measurement of radiation when the patterning device and the sensor apparatus are positioned in a first relative configuration, moving at least one of the patterning device and the sensor apparatus so as to change the relative configuration of the patterning device to a second relative configuration, making a second measurement of radiation when the patterning device and the sensor apparatus are positioned in the second relative configuration in which at least some of the plurality of detector regions receive a different measurement beam to the measurement beam which was received at the respective detector region in the first relative configuration and determining aberrations caused by the projection system.
摘要翻译：一种方法，包括照亮包括多个图案化区域（15a-15c）的图案形成装置（15a-15c），图案形成区域（15a-15c）中的每一个图案化测量光束（17a-17c），用投影系统（PL）将测量光束投射到传感器装置（21），包括多个检测器区域（25a-25c），当图案形成装置和传感器装置位于第一相对构造中时，进行辐射的第一测量，移动图案形成装置和传感器中的至少一个设备，以便将图案形成装置的相对配置改变为第二相对配置，当图案形成装置和传感器装置位于第二相对配置中时，对辐射进行第二测量，其中多个检测器区域接收不同的测量光束到在第一相对配置中在相应检测器区域接收的测量光束并确定由投影系统引起的像差。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式