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1. 发明申请

WO2014067802A1 PATTERNING DEVICE SUPPORT, LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND METHOD OF CONTROLLING PATTERNING DEVICE TEMPERATURE 审中-公开
标题翻译：绘图设备支持，平面设备和控制设备温度的方法
公开(公告)号：WO2014067802A1
公开(公告)日：2014-05-08
申请号：PCT/EP2013/071933
申请日：2013-10-21
申请人： ASML HOLDING N.V. , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： EBERT, Earl , ONVLEE, Johannes , NAYFEH, Samir , SCHUSTER, Mark, , DELMASTRO, Peter , WARD, Christopher , VAN BOXTEL, Frank, , ALIKHAN, Abdullah , BURBANK, Daniel, , GALBURT, Daniel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70808 , G03F7/70858 , G03F7/70866
摘要： A patterning device support (1100) for controlling a temperature of a patterning device (1102) can include a movable component (1104). The movable component can include a gas inlet (1108) for supplying a gas flow across a surface of the patterning device and a gas outlet (1110) for extracting the gas flow. The patterning device support can also include a gas flow generator (1118) coupled to a duct (1114, 1116) for recirculating the gas flow from the gas outlet to the gas inlet.
摘要翻译：用于控制图案形成装置（1102）的温度的图案形成装置支撑件（1100）可以包括可移动部件（1104）。可移动部件可以包括用于提供穿过图案形成装置的表面的气流的气体入口（1108）和用于提取气体流的气体出口（1110）。图案形成装置支撑件还可以包括联接到管道（1114,1116）的气流发生器（1118），用于使气流从气体出口再循环到气体入口。

2. 发明申请

WO2014063871A1 PATTERNING DEVICE MANIPULATING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUSES 审中-公开
标题翻译：绘图设备操纵系统和平面设备
公开(公告)号：WO2014063871A1
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：PCT/EP2013/069547
申请日：2013-09-20
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , ASML HOLDING N.V.
发明人： VALENTIN, Christiaan , LOOPSTRA, Erik , WARD, Christopher , BURBANK, Daniel , SCHUSTER, Mark , GRAFFEO, Peter
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F7/70266 , G03F7/70433 , G03F7/707 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70825
摘要： A system (300) for supporting an exchangeable object (302) can include a movable structure (304) and an object holder (306) configured to be movable relative to the movable structure. The object holder can be configured to hold the exchangeable object. The system can also include a first actuator assembly (308) and second actuator assembly (316). The first actuator assembly can be configured to apply a force to the object holder to translate the exchangeable object generally along a plane. The second actuator assembly can be configured to apply a bending moment to the object holder. The exchangeable object can be a patterning device of a lithographic apparatus.
摘要翻译：用于支撑可更换物体（302）的系统（300）可以包括可移动结构（304）和被配置为相对于可移动结构可移动的物体保持器（306）。对象保持器可以被配置为保持可更换对象。系统还可以包括第一致动器组件（308）和第二致动器组件（316）。第一致动器组件可以被配置成向对象支架施加力，以大致沿着平面平移可交换对象。第二致动器组件可以被配置为向对象保持器施加弯矩。可交换对象可以是光刻设备的图案形成装置。

3. 发明申请

WO2014032897A1 REAL-TIME RETICLE CURVATURE SENSING 审中-公开
标题翻译：实时感应曲线感应
公开(公告)号：WO2014032897A1
公开(公告)日：2014-03-06
申请号：PCT/EP2013/066145
申请日：2013-08-01
申请人： ASML HOLDING N.V. , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： WARD, Christopher , LEENDERS, Martinus , SCHUSTER, Mark, , VALENTIN, Christiaan
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/24
CPC分类号： G03F7/70616 , G03F1/14 , G03F7/24 , G03F7/703 , G03F7/70783 , G03F7/7085 , G03F9/7026
摘要： A system and method that bends a reticle and senses a curvature of a bent reticle in real-time. The system includes movable reticle stage, reticle vacuum clamps, sensor systems, and reticle bender. The reticle bender comprises piezo actuators. The sensor systems comprises measurement targets and corresponding sensors. The sensors are attached to the movable reticle stage and the measurement targets are attached to the reticle clamps, the reticle bender, or on reticle surfaces. The system is configured to determine a width of the reticle or distance between measurement targets at opposing ends of the reticle, measure a first rotational angle at a first end of the reticle, and measure a second local rotational angle at a second end of the reticle that is opposite to the first end. Based on the width or distance and the first and second angles, a field curvature of the reticle is determined.
摘要翻译：弯曲掩模版并实时感测弯曲掩模版的曲率的系统和方法。该系统包括可动标线台，光罩真空夹，传感器系统和光罩弯曲机。光罩弯曲机包括压电致动器。传感器系统包括测量目标和相应的传感器。传感器连接到可动标线片台上，并且测量目标附着到标线夹，标线弯曲器或掩模版表面上。该系统被配置为确定掩模版的宽度或在掩模版的相对端处的测量目标之间的距离，测量在光罩的第一端处的第一旋转角度，并且在光罩的第二端处测量第二局部旋转角度这与第一端相反。基于宽度或距离以及第一和第二角度，确定掩模版的场曲率。

4. 发明申请

WO2014005780A1 A LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHIC设备
公开(公告)号：WO2014005780A1
公开(公告)日：2014-01-09
申请号：PCT/EP2013/061560
申请日：2013-06-05
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , ASML HOLDING N.V.
发明人： WESTERLAKEN, Jan, , BLOKS, Ruud , DELMASTRO, Peter , LAURENT, Thibault , LEENDERS, Martinus , SCHUSTER, Mark , WARD, Christopher , VAN BOXTEL, Frank
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70916 , G03F7/70933
摘要： A lithographic apparatus has a support structure (MT) configured to support a patterning device (MA), the patterning device serving to pattern a radiation beam (B) according to a desired pattern and having a planar main surface (12) through which the radiation beam passes; an outlet opening (100) configured to direct a flow of a gas onto the patterning device; and an inlet opening (150) configured to extract the gas which has exited the outlet opening, wherein the outlet opening and inlet opening are in a facing surface facing the planar main surface of the patterning device.
摘要翻译：光刻设备具有被配置为支撑图案形成装置（MA）的支撑结构（MT），所述图案形成装置用于根据期望的图案对辐射束（B）进行图案化，并具有平面的主表面（12），辐射光束通过出口开口（100），其构造成将气体流引导到图案形成装置上; 以及入口开口（150），其构造成抽出已经离开出口的气体，其中出口开口和入口开口面对面向图案形成装置的平面主表面的面对的表面。

5. 发明申请

WO2014063874A1 PATTERNING DEVICE SUPPORT AND LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译：绘图设备支持和平面设备
公开(公告)号：WO2014063874A1
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：PCT/EP2013/069654
申请日：2013-09-23
申请人： ASML HOLDING N.V. , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： SINHAROY, Arindam , ROUX, Stephen , VAN DAMME, Jean-Philippe, , BURBANK, Daniel, , SCHUSTER, Mark, , HARRIS, Duncan , WARD, Christopher
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/707 , G03F7/70783
摘要： A patterning device support (200), for example, a patterning device (202) or substrate support, can be configured to release internal stresses of a patterning device loaded thereon. The patterning device support can include a positive pressuring generating interface (206a, 206b) or an acoustic vibration generating interface (206a, 206b), or can be configured to oscillate while at least a portion of patterning device is decoupled from the patterning device support. A method of transferring a patterning device between a patterning device handling apparatus and a patterning device support configured to move the patterning device can include positioning the patterning device onto a surface of the patterning device support, and performing a process that releases internal stress of the patterning device.
摘要翻译：图案形成装置支撑件（200），例如，图案形成装置（202）或基板支撑件可以构造成释放装载在其上的图案形成装置的内部应力。图案形成装置支撑件可以包括正压力生成界面（206a，206b）或声振动产生界面（206a，206b），或者可以被配置为在图案形成装置的至少一部分与图案形成装置支撑件分离的同时进行摆动。在图案形成装置处理装置和被构造成移动图案形成装置的图案形成装置支撑件之间传送图案形成装置的方法可以包括将图案形成装置定位在图案形成装置支撑件的表面上，并且执行释放图案形成装置的内部应力设备。

6. 发明申请

WO2013164145A1 ACTIVE TORSION MODE CONTROL FOR STAGE 审中-公开
标题翻译：主动扭矩模式控制
公开(公告)号：WO2013164145A1
公开(公告)日：2013-11-07
申请号：PCT/EP2013/056765
申请日：2013-03-28
申请人： ASML HOLDING N.V.
发明人： WARD, Christopher
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F7/7085 , G03F7/709
摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system, a substrate table, a projection system, and a sensor. The illumination system is configured to condition a radiation beam and a support constructed to support a patterning device. The patterning device is capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The substrate table is constructed to hold a substrate. The projection system is configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The sensor is configured to detect a shear stress along at least a portion of a length of the support and one or more actuators configured to apply one or more torsional mode dampening forces to the support to counteract the detected shear stress.
摘要翻译：光刻设备包括照明系统，衬底台，投影系统和传感器。照明系统被配置为调节辐射束和构造成支撑图案形成装置的支撑。图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束。衬底台被构造成保持衬底。投影系统被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上。传感器构造成沿着支撑件的长度的至少一部分检测剪切应力，以及一个或多个致动器被构造成将一个或多个扭转模式阻尼力施加到支撑件上以抵消检测到的剪切应力。

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