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1. 发明专利

TWI669483B 判定變形的方法、對準至一基板的方法、度量衡一基板的方法、校正一微影程序的方法、電腦程式及電腦程式產品有权
简体标题：判定变形的方法、对准至一基板的方法、度量衡一基板的方法、校正一微影进程的方法、电脑进程及电脑进程产品
公开(公告)号：TWI669483B
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：TW107121792
申请日：2018-06-26
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：荷西布斯愛多瑪莉亞 , HULSEBOS, EDO MARIA , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 班捷恩法蘭西斯科哥登法蘭德斯凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER
IPC分类号： G01B11/24 , G03F1/44

2. 发明专利

TW201723670A 控制微影裝置之方法及器件製造方法、用於微影裝置之控制系統及微影裝置审中-公开
简体标题：控制微影设备之方法及器件制造方法、用于微影设备之控制系统及微影设备
公开(公告)号：TW201723670A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105131895
申请日：2016-10-03
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：荷西布斯愛多瑪莉亞 , HULSEBOS, EDO MARIA , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 布林克夫拉夫 , BRINKHOF, RALPH , 賀里斯皮耶特賈克伯 , HERES, PIETER JACOB , 盧卡斯瓊恩凱傑爾 , LUCAS, JORN KJELD , 梵席斯洛克喬漢斯彼托斯 , VERHEES, LOEK JOHANNES PETRUS , 凡唐卡拉爾英格麗瑪格麗莎艾笛娜 , VAN DONKELAAR, INGRID MARGARETHA ARDINA , 班捷恩法蘭西斯科哥登法蘭德斯凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/705 , G03F9/7003
摘要：在一種控制一微影裝置之方法中，使用歷史效能量測(512)以計算關於一微影程序之一程序模型(PM)。量測(502)提供於一當前基板上之複數個對準標記之當前位置且使用該等當前位置以計算關於一當前基板之一基板模型。另外，使用(530)在處理先前基板時所獲得的歷史位置量測(522)與該等歷史效能量測以計算一模型映射(M)。應用(520)該模型映射以修改該基板模型。一起使用該程序模型及該經修改基板模型(SM') (PSM)來控制(508)該微影裝置。藉由避免該程序模型及該基板模型之相關分量之過校正或欠校正來改良疊對效能。該模型映射可為一子空間映射，且可在使用該模型映射之前縮減該模型映射之維度。
简体摘要：在一种控制一微影设备之方法中，使用历史性能量测(512)以计算关于一微影进程之一进程模型(PM)。量测(502)提供于一当前基板上之复数个对准标记之当前位置且使用该等当前位置以计算关于一当前基板之一基板模型。另外，使用(530)在处理先前基板时所获得的历史位置量测(522)与该等历史性能量测以计算一模型映射(M)。应用(520)该模型映射以修改该基板模型。一起使用该进程模型及该经修改基板模型(SM') (PSM)来控制(508)该微影设备。借由避免该进程模型及该基板模型之相关分量之过校正或欠校正来改良叠对性能。该模型映射可为一子空间映射，且可在使用该模型映射之前缩减该模型映射之维度。

3. 发明专利

TW201921100A 微影方法审中-公开
公开(公告)号：TW201921100A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133296
申请日：2018-09-21
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 荷西布斯愛多瑪莉亞 , HULSEBOS, EDO MARIA , 麥更亨力克斯喬漢那蘭伯特 , MEGENS, HENRICUS JOHANNES LAMBERTUS , 厄戴瑪尤米特柯瑞 , ERDAMAR, AHMET KORAY , 梵席斯洛克喬漢斯彼托斯 , VERHEES, LOEK JOHANNES PETRUS , 羅伊羅夫斯威廉賽納克里斯汀 , ROELOFS, WILLEM SEINE CHRISTIAN , 范戴凡溫蒂喬漢娜瑪汀娜 , VAN DE VEN, WENDY JOHANNA MARTINA , 亞古比薩德哈帝 , YAGUBIZADE, HADI , 希可利哈奇爾金 , CEKLI, HAKKI ERGUN , 布林克夫拉夫 , BRINKHOF, RALPH , 余陳清水 , VU, TRAN THANH THUY , 葛森邁可羅伯特 , GOOSEN, MAIKEL ROBERT , 凡特衛斯登得瑪尹克 , VAN T WESTEINDE, MAAIKE , 寇偉田 , KOU, WEITIAN , 里澤斯特拉馬諾克 , RIJPSTRA, MANOUK , 寇克斯馬泰斯 , COX, MATTHIJS , 班捷恩法蘭西斯科哥登法蘭德斯凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER
IPC分类号： G03F1/70 , G03F7/20
摘要：本發明揭示一種用於判定一感測器系統之一操作參數之一或多個最佳化值的方法，該感測器系統經組態以用於量測一基板之一屬性，該方法包含：判定關於複數個基板之一品質參數；判定針對該操作參數之複數個值使用該感測器系統所獲得的關於該複數個基板之量測參數；比較該品質參數之一基板間變化與該等量測參數之一映射之一基板間變化；及基於該比較判定該操作參數之該一或多個最佳化值。
简体摘要：本发明揭示一种用于判定一传感器系统之一操作参数之一或多个最优化值的方法，该传感器系统经组态以用于量测一基板之一属性，该方法包含：判定关于复数个基板之一品质参数；判定针对该操作参数之复数个值使用该传感器系统所获得的关于该复数个基板之量测参数；比较该品质参数之一基板间变化与该等量测参数之一映射之一基板间变化；及基于该比较判定该操作参数之该一或多个最优化值。

6. 发明专利

TW201719299A 微影設備及器件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201719299A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105122457
申请日：2016-07-15
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：班捷恩法蘭西斯科哥登法蘭德斯凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER , 荷西布斯愛多瑪莉亞 , HULSEBOS, EDO MARIA
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7046 , G03F7/70258 , G03F7/705 , G03F9/7069 , G03F9/7073 , G03F9/7088
摘要：本發明描述一種微影設備，該設備包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；及一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上，其中該設備進一步包含一對準系統，其經組態以針對存在於該基板上之一或多個對準標記進行以下操作：- 藉由應用各別複數個不同對準量測參數而執行用於該對準標記之複數個對準標記位置量測，藉此獲得用於該對準標記之複數個經量測對準標記位置；該設備進一步包含一處理單元，該處理單元經組態以進行以下操作：- 針對該複數個對準標記位置量測中之每一者判定作為一經預期對準標記位置與一經量測對準標記位置之間的一差之一位置偏差，該經量測對準標記位置係基於該各別對準標記位置量測予以判定；- 將一組函數定義為用於該等位置偏差之可能原因，該組函數包括表示該基板之一變形的一基板變形函數，及表示該一或多個對準標記之一變形的至少一個標記變形函數；- 產生一矩陣方程式PD=M*F，藉以將包含該等位置偏差之一向量PD設定為等於包含該基板變形函數及該至少一個標記變形函數之一向量F的由一權重係數矩陣M表示之一加權組合，藉以與該至少一個標記變形函數相關聯之權重係數取決於所應用對準量測而變化；- 判定用於該矩陣M之該等權重係數之一值；- 判定該矩陣M之一逆或偽逆矩陣，藉此獲得作為該等位置偏差之一加權組合的用於該基板變形函數之一值；- 應用該基板變形函數之該值以執行該目標部分與該經圖案化輻射光束之一對準。
简体摘要：本发明描述一种微影设备，该设备包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化器件，该图案化器件能够在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；及一投影系统，其经组态以将该经图案化辐射光束投影至该基板之一目标部分上，其中该设备进一步包含一对准系统，其经组态以针对存在于该基板上之一或多个对准标记进行以下操作：- 借由应用各别复数个不同对准量测参数而运行用于该对准标记之复数个对准标记位置量测，借此获得用于该对准标记之复数个经量测对准标记位置；该设备进一步包含一处理单元，该处理单元经组态以进行以下操作：- 针对该复数个对准标记位置量测中之每一者判定作为一经预期对准标记位置与一经量测对准标记位置之间的一差之一位置偏差，该经量测对准标记位置系基于该各别对准标记位置量测予以判定；- 将一组函数定义为用于该等位置偏差之可能原因，该组函数包括表示该基板之一变形的一基板变形函数，及表示该一或多个对准标记之一变形的至少一个标记变形函数；- 产生一矩阵方进程PD=M*F，借以将包含该等位置偏差之一矢量PD设置为等于包含该基板变形函数及该至少一个标记变形函数之一矢量F的由一权重系数矩阵M表示之一加权组合，借以与该至少一个标记变形函数相关联之权重系数取决于所应用对准量测而变化；- 判定用于该矩阵M之该等权重系数之一值；- 判定该矩阵M之一逆或伪逆矩阵，借此获得作为该等位置偏差之一加权组合的用于该基板变形函数之一值；- 应用该基板变形函数之该值以运行该目标部分与该经图案化辐射光束之一对准。

7. 发明专利

TWI623826B 微影設備及器件製造方法有权
简体标题：微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI623826B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW105122457
申请日：2016-07-15
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：班捷恩法蘭西斯科哥登法蘭德斯凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER , 荷西布斯愛多瑪莉亞 , HULSEBOS, EDO MARIA
IPC分类号： G03F9/00

8. 发明专利

TW201712447A 微影裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201712447A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105121931
申请日：2016-07-12
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：班捷恩法蘭西斯科哥登法蘭德斯凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER , 丹伯夫艾瑞傑佛瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 凡哈倫理查喬哈奈法蘭西卡斯 , VAN HAREN, RICHARD JOHANNES FRANCISCUS , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICUIUS ALOYSIUS JACOBUS , 伊瑪亞力山大 , YPMA, ALEXANDER , 呂林納艾琳娜安娜多麗弗娜 , LYULINA, IRINA ANATOLIEVNA , 荷西布斯愛多瑪莉亞 , HULSEBOS, EDO MARIA , 希可利哈奇爾金 , 柳星蘭 , LIU, XING LAN , 梵席斯洛克喬漢斯彼托斯 , VERHEES, LOEK JOHANNES PETRUS , 卡拉多維克托艾曼紐 , CALADO, VICTOR EMANUEL , 凡迪傑克里昂保羅 , VAN DIJK, LEON PAUL
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7092 , G03F7/70508 , G03F7/70633 , G03F9/7046
摘要：本發明描述一種特性化複數個基板之一變形之方法。該方法包含如下步驟：-針對複數n個不同對準量測參數λ及針對複數個基板量測對準標記之一位置；-將一位置偏差判定為該n個對準標記位置量測與一標稱對準標記位置之間的差；-將該等位置偏差分組成資料集；-判定一平均資料集；-自該等資料集減去該平均資料集以獲得複數個可變資料集；-對該等可變資料集執行一盲源分離方法，藉此將該等可變資料集分解成表示該等可變資料集之主成份之本徵晶圓之一集合；-將本徵晶圓之該集合細分成標記變形本徵晶圓之一集合及基板變形本徵晶圓之一集合。
简体摘要：本发明描述一种特性化复数个基板之一变形之方法。该方法包含如下步骤：-针对复数n个不同对准量测参数λ及针对复数个基板量测对准标记之一位置；-将一位置偏差判定为该n个对准标记位置量测与一标称对准标记位置之间的差；-将该等位置偏差分组成数据集；-判定一平均数据集；-自该等数据集减去该平均数据集以获得复数个可变数据集；-对该等可变数据集运行一盲源分离方法，借此将该等可变数据集分解成表示该等可变数据集之主成份之本征晶圆之一集合；-将本征晶圆之该集合细分成标记变形本征晶圆之一集合及基板变形本征晶圆之一集合。

9. 发明专利

TWI519905B 微影裝置及器件製造方法有权
简体标题：微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI519905B
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW102138803
申请日：2013-10-25
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：荷西布斯愛多瑪莉亞 , HULSEBOS, EDO MARIA
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70483 , G03F7/70516 , G03F7/70775 , G03F7/709

10. 发明专利

TW201418901A 微影裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201418901A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102138803
申请日：2013-10-25
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：荷西布斯愛多瑪莉亞 , HULSEBOS, EDO MARIA
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70483 , G03F7/70516 , G03F7/70775 , G03F7/709
摘要：一種方法，其涉及：自為微影裝置之部件之一感測器獲得與該微影裝置之振動有關之第一校準振動資料；及獲得第二校準振動資料，該第二校準振動資料為該微影裝置之第一參數資料之一分量。自該第一校準振動資料及該第二校準振動資料計算一篩選，該篩選係使得當應用於該第一校準振動資料時，其輸出較緊密地與該第二校準振動資料相關。接著，可將該篩選應用於使用該第一感測器而獲得之振動資料以在微影程序期間獲得該第一參數資料之一振動分量之一估計。
简体摘要：一种方法，其涉及：自为微影设备之部件之一传感器获得与该微影设备之振动有关之第一校准振动数据；及获得第二校准振动数据，该第二校准振动数据为该微影设备之第一参数数据之一分量。自该第一校准振动数据及该第二校准振动数据计算一筛选，该筛选系使得当应用于该第一校准振动数据时，其输出较紧密地与该第二校准振动数据相关。接着，可将该筛选应用于使用该第一传感器而获得之振动数据以在微影进程期间获得该第一参数数据之一振动分量之一估计。

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