专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI536010B 評估結構的注意參數值重建品質之方法，檢測裝置及電腦程式產品有权
简体标题：评估结构的注意参数值重建品质之方法，检测设备及电脑进程产品
公开(公告)号：TWI536010B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW103127678
申请日：2014-08-12
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：莫沙維特詩為德伊曼 , MOSSAVAT, SEYED IMAN , 克瑞馬雨果奧格斯提納斯約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH , 谷真威稜珍 , GROOTJANS, WILLEM JAN , 凡力司特雅得安喬漢 , VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN
IPC分类号： G01N21/84 , G01B11/24
CPC分类号： G03F7/705 , G01N21/956 , G01N21/95607 , G03F7/70625 , G03F9/7092

2. 发明专利

TW201514469A 評估結構的注意參數值重建品質之方法，檢測裝置及電腦程式產品审中-公开
简体标题：评估结构的注意参数值重建品质之方法，检测设备及电脑进程产品
公开(公告)号：TW201514469A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103127678
申请日：2014-08-12
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：莫沙維特詩為德伊曼 , MOSSAVAT, SEYED IMAN , 克瑞馬雨果奧格斯提納斯約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH , 谷真威稜珍 , GROOTJANS, WILLEM JAN , 凡力司特雅得安喬漢 , VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN
IPC分类号： G01N21/84 , G01B11/24
CPC分类号： G03F7/705 , G01N21/956 , G01N21/95607 , G03F7/70625 , G03F9/7092
摘要：本發明提供用於評估一結構之一注意參數之一值之一重建品質的方法及檢測裝置及電腦程式產品，其可應用於(例如)顯微結構之度量衡中。重要的是，該重建提供該結構之一注意參數(例如，一臨界尺寸(CD))之一值，該值在該經重建值用以監視及/或控制一微影程序時係準確的。此為一種無需使用一掃描電子顯微鏡的藉由如下操作來評估一結構之一注意參數之一值之一重建品質的方式：使用結構之參數之經重建值來預測結構之該注意參數之值，且比較該注意參數之該等經預測值與該注意參數之該等經重建值。
简体摘要：本发明提供用于评估一结构之一注意参数之一值之一重建品质的方法及检测设备及电脑进程产品，其可应用于(例如)显微结构之度量衡中。重要的是，该重建提供该结构之一注意参数(例如，一临界尺寸(CD))之一值，该值在该经重建值用以监视及/或控制一微影进程时系准确的。此为一种无需使用一扫描电子显微镜的借由如下操作来评估一结构之一注意参数之一值之一重建品质的方式：使用结构之参数之经重建值来预测结构之该注意参数之值，且比较该注意参数之该等经预测值与该注意参数之该等经重建值。

3. 发明专利

TW201423084A 用於判定一結構之微影品質之方法與裝置审中-公开
简体标题：用于判定一结构之微影品质之方法与设备
公开(公告)号：TW201423084A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102141113
申请日：2013-11-12
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：谷真威稜珍 , GROOTJANS, WILLEM JAN , 麥更亨力克斯喬漢那蘭伯特 , MEGENS, HENRICUS JOHANNES LAMBERTUS , 克利司特喬齊 , KRIST, JOUKE , 格藍達米歌爾葛西亞 , GRANDA, MIGUEL GARCIA , 許路 , XU, LU
IPC分类号： G01N21/84 , G03F7/00
CPC分类号： G01N21/95607 , G01N21/47 , G01N2021/4792 , G01N2201/06113 , G01N2201/12 , G03F7/70133 , G03F7/70558 , G03F7/70625 , G03F7/70641
摘要：一種用於使用一週期性圖案(諸如，一光柵)來判定藉由一微影程序而產生之一結構之微影品質的方法，其偵測微影程序窗邊緣及最佳程序條件。一種方法具有如下步驟：602：在使用一光柵圖案的情況下使用一微影程序來印刷一結構；604：選擇用於照明之一第一特性，諸如，一偏振方向；606：運用具有該第一特性之入射輻射來照明該結構；608：偵測散射輻射；610：選擇用於該照明之一第二特性，諸如，一不同偏振方向；612：運用具有該第二特性之入射輻射來照明該結構；614：偵測散射輻射；616：旋轉一或多個角度解析光譜以使該等偏振對齊，因此校正該等偏振之不同定向；618：判定該等測定角度解析光譜之間的一差；及620：使用該經判定差來判定該結構之微影品質之一值。或者，代替使用第一特性及第二特性，可使用第一結構及第二結構以判定微影品質。或者，可使用非零階強度之偵測以判定微影品質。
简体摘要：一种用于使用一周期性图案(诸如，一光栅)来判定借由一微影进程而产生之一结构之微影品质的方法，其侦测微影进程窗边缘及最佳进程条件。一种方法具有如下步骤：602：在使用一光栅图案的情况下使用一微影进程来印刷一结构；604：选择用于照明之一第一特性，诸如，一偏振方向；606：运用具有该第一特性之入射辐射来照明该结构；608：侦测散射辐射；610：选择用于该照明之一第二特性，诸如，一不同偏振方向；612：运用具有该第二特性之入射辐射来照明该结构；614：侦测散射辐射；616：旋转一或多个角度解析光谱以使该等偏振对齐，因此校正该等偏振之不同定向；618：判定该等测定角度解析光谱之间的一差；及620：使用该经判定差来判定该结构之微影品质之一值。或者，代替使用第一特性及第二特性，可使用第一结构及第二结构以判定微影品质。或者，可使用非零阶强度之侦测以判定微影品质。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式