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1. 发明专利

TW201300964A 微影裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201300964A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101108510
申请日：2012-03-13
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：沃格赫曼 , VOGEL, HERMAN , 勾森傑若恩杰若德 , GOSEN, JEROEN GERARD , 帕休斯巴特迪南 , PAARHUIS, BART DINAND , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 李景高 , LI, JINGGAO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70908 , G03F7/70866
摘要：在一實施例中，一種裝置具有：一圖案化元件支撐件，其包括具有一第一流動限定表面之一第一平面器件；一第二平面器件，其包括面對該第一流動限定表面之一第二流動限定表面；一支撐件驅動器，其用以沿著某一方向相對於該第二平面器件線性地移動該支撐件，其中該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面具有在該第一流動限定表面與該第二流動限定表面之間的一或多個突出物及/或凹部，且其中該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面上之該突出物及/或凹部經配置以在垂直於流動之該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面之每單位寬度提供一流動阻力，相比於抵制垂直於該某一方向之流動之該流動阻力，抵制平行於該某一方向之流動之該流動阻力較低。該等流動限定表面可將氣流引導至產生熱之一驅動器部件上。
简体摘要：在一实施例中，一种设备具有：一图案化组件支撑件，其包括具有一第一流动限定表面之一第一平面器件；一第二平面器件，其包括面对该第一流动限定表面之一第二流动限定表面；一支撑件驱动器，其用以沿着某一方向相对于该第二平面器件线性地移动该支撑件，其中该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面具有在该第一流动限定表面与该第二流动限定表面之间的一或多个突出物及/或凹部，且其中该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面上之该突出物及/或凹部经配置以在垂直于流动之该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面之每单位宽度提供一流动阻力，相比于抵制垂直于该某一方向之流动之该流动阻力，抵制平行于该某一方向之流动之该流动阻力较低。该等流动限定表面可将气流引导至产生热之一驱动器部件上。

2. 发明专利

TWI434146B 微影裝置及利用微影裝置製造元件之方法有权
简体标题：微影设备及利用微影设备制造组件之方法
公开(公告)号：TWI434146B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW100108175
申请日：2011-03-10
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：勾森傑若恩杰若德 , GOSEN, JEROEN GERARD , 凡得烈安東尼奧喬漢那 , VAN DER NET, ANTONIUS JOHANNUS , 帕休斯巴特迪南 , PAARHUIS, BART DINAND , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 李景高 , LI, JINGGAO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70916

3. 发明专利

TWI465860B 微影裝置及元件製造方法有权
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI465860B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW101108510
申请日：2012-03-13
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：沃格赫曼 , VOGEL, HERMAN , 勾森傑若恩杰若德 , GOSEN, JEROEN GERARD , 帕休斯巴特迪南 , PAARHUIS, BART DINAND , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 李景高 , LI, JINGGAO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70908 , G03F7/70866

4. 发明专利

TW201202862A 微影裝置、照明系統、投影系統及利用微影裝置製造元件之方法 A LITHOGRAPHIC APPARATUS, AN ILLUMINATION SYSTEM, A PROJECTION SYSTEM AND A METHOD OF MANUFACTURING A DEVICE USING A LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
简体标题：微影设备、照明系统、投影系统及利用微影设备制造组件之方法 A LITHOGRAPHIC APPARATUS, AN ILLUMINATION SYSTEM, A PROJECTION SYSTEM AND A METHOD OF MANUFACTURING A DEVICE USING A LITHOGRAPHIC APPARATUS
公开(公告)号：TW201202862A
公开(公告)日：2012-01-16
申请号：TW100108175
申请日：2011-03-10
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML控股公司
发明人：勾森傑若恩杰若德 , 凡得烈安東尼奧喬漢那 , 帕休斯巴特迪南 , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , 李景高
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70916
摘要：提供一氣簾以將一微影裝置之一組件與受污染氣體分離。藉由一開口供應該氣簾。該開口處於該組件之一表面所接觸之一保護環境的一邊界處。該氣簾可將該組件與該裝置之一移動零件分離。
简体摘要：提供一气帘以将一微影设备之一组件与受污染气体分离。借由一开口供应该气帘。该开口处于该组件之一表面所接触之一保护环境的一边界处。该气帘可将该组件与该设备之一移动零件分离。

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