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1. 发明专利

TWI639894B 用於圖案化製程的測量位置選擇有权
简体标题：用于图案化制程的测量位置选择
公开(公告)号：TWI639894B
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW105143791
申请日：2016-12-29
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：文德蘭恩漢斯 , VAN DER LAAN, HANS , 泰爾溫提波 , TEL, WIM TJIBBO , 喬錢森馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS , 亨奇史蒂芬 , HUNSCHE, STEFAN
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/66

2. 发明专利

TW201716877A 製程窗追蹤审中-公开
简体标题：制程窗追踪
公开(公告)号：TW201716877A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105118631
申请日：2016-06-14
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：泰爾溫提波 , TEL, WIM TJIBBO , 史達爾法蘭克 , STAALS, FRANK , 莫斯羅馬克約翰 , MASLOW, MARK JOHN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/70891
摘要：本文中揭示一種用於調整一微影製程之電腦實施方法，該微影製程之處理參數包含處理參數之一第一群組及處理參數之一第二群組，該方法包含：獲得處理參數之該第二群組之一改變；判定由處理參數之該第二群組之該改變引起的一子製程窗(PW)之一改變，其中該子PW係僅由處理參數之該第一群組展成；基於該子PW之該改變而調整處理參數之該第一群組。
简体摘要：本文中揭示一种用于调整一微影制程之电脑实施方法，该微影制程之处理参数包含处理参数之一第一群组及处理参数之一第二群组，该方法包含：获得处理参数之该第二群组之一改变；判定由处理参数之该第二群组之该改变引起的一子制程窗(PW)之一改变，其中该子PW系仅由处理参数之该第一群组展成；基于该子PW之该改变而调整处理参数之该第一群组。

4. 发明专利

TW201728991A 度量衡目標、方法和設備、電腦程式及微影系統审中-公开
简体标题：度量衡目标、方法和设备、电脑进程及微影系统
公开(公告)号：TW201728991A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW105138642
申请日：2016-11-24
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：泰爾溫提波 , TEL, WIM TJIBBO , 史達爾法蘭克 , STAALS, FRANK
IPC分类号： G03F1/44 , G03F7/20 , H01L21/66 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70683 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/70641 , G03F9/7026
摘要：本發明揭示一種基板，其包含用於疊對及焦點之量測之一組合式目標。該目標包含：一第一層，其包含一第一週期性結構；及一第二層，其包含疊對於該第一週期性結構之一第二週期性結構。該目標具有結構不對稱性，該結構不對稱性包含由該第一週期性結構與該第二週期性結構之間的非故意失配引起的一結構不對稱性分量、由該第一週期性結構與該第二週期性結構之間的一故意位置偏移引起的一結構不對稱性分量，及取決於在該基板上之該組合式目標之曝光期間之一焦點設定的一焦點相依結構不對稱性分量。本發明亦揭示一種用於形成此目標之方法，以及關聯微影及度量衡設備。
简体摘要：本发明揭示一种基板，其包含用于叠对及焦点之量测之一组合式目标。该目标包含：一第一层，其包含一第一周期性结构；及一第二层，其包含叠对于该第一周期性结构之一第二周期性结构。该目标具有结构不对称性，该结构不对称性包含由该第一周期性结构与该第二周期性结构之间的非故意失配引起的一结构不对称性分量、由该第一周期性结构与该第二周期性结构之间的一故意位置偏移引起的一结构不对称性分量，及取决于在该基板上之该组合式目标之曝光期间之一焦点设置的一焦点相依结构不对称性分量。本发明亦揭示一种用于形成此目标之方法，以及关联微影及度量衡设备。

5. 发明专利

TW201527895A 微影裝置、元件製造方法及相關資料處理裝置與電腦程式產品审中-公开
简体标题：微影设备、组件制造方法及相关数据处理设备与电脑进程产品
公开(公告)号：TW201527895A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103138809
申请日：2014-11-07
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：希可利哈奇爾金 , 柳星蘭 , LIU, XING LAN , 史拉特伯恩唐恩毛瑞斯 , SLOTBOOM, DAAN MAURITS , 泰爾溫提波 , TEL, WIM TJIBBO , 凡德山登史帝芬柯尼里斯李歐朵魯斯 , VAN DER SANDEN, STEFAN CORNELIS THEODORUS , 凡哈倫理查喬哈奈法蘭西卡斯 , VAN HAREN, RICHARD JOHANNES FRANCISCUS
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要：一種微影裝置(LA)，其將一圖案重複性地施加至橫越一基板(W)之目標部分(場，C)。在施加該圖案之前，一對準感測器(AS)量測該基板之平面中之標記之位置，且一位階感測器(LS)量測在垂直於該基板之該平面之一方向上之高度偏差。該裝置將該圖案施加至該基板，同時(a)使用由該對準感測器量測之該等位置來定位該經施加圖案，及(b)使用由該位階感測器量測之該等高度偏差來聚焦該圖案。該裝置經進一步配置(c)以基於該等測定高度偏差之導數而計算及應用該經施加圖案之該定位之校正。可基於場內及/或場間來計算該等校正。該等校正可基於該等所觀測之高度偏差與先前在該同一基板上所量測之高度偏差之間的改變。
简体摘要：一种微影设备(LA)，其将一图案重复性地施加至横越一基板(W)之目标部分(场，C)。在施加该图案之前，一对准传感器(AS)量测该基板之平面中之标记之位置，且一位阶传感器(LS)量测在垂直于该基板之该平面之一方向上之高度偏差。该设备将该图案施加至该基板，同时(a)使用由该对准传感器量测之该等位置来定位该经施加图案，及(b)使用由该位阶传感器量测之该等高度偏差来聚焦该图案。该设备经进一步配置(c)以基于该等测定高度偏差之导数而计算及应用该经施加图案之该定位之校正。可基于场内及/或场间来计算该等校正。该等校正可基于该等所观测之高度偏差与先前在该同一基板上所量测之高度偏差之间的改变。

6. 发明专利

TWI397779B 降低波前像差之方法及電腦程式產品有权
简体标题：降低波前像差之方法及电脑进程产品
公开(公告)号：TWI397779B
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW096122345
申请日：2007-06-21
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：溫提波泰爾 , TEL, WIM TJIBBO , 佛利克安德利安史托菲爾絲 , STOFFELS, FREERK ADRIAAN , 羅倫提斯卡特利納斯喬力斯瑪 , JORRITSMA, LAURENTIUS CATRINUS , 塔莫優特狄克 , UITTERDIJK, TAMMO , 瓊斯威爾莫斯德克拉克 , DE KLERK, JOHANNES WILHELMUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/72 , G03B27/53 , G03F7/70125 , G03F7/70258 , G03F7/706 , G03F7/70891

7. 发明专利

TWI620007B 用於轉印圖案之方法和系統有权
简体标题：用于转印图案之方法和系统
公开(公告)号：TWI620007B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW105144086
申请日：2016-12-30
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：泰爾溫提波 , TEL, WIM TJIBBO , 瓦倫湯瑪士 I , WALLOW, THOMAS I.
IPC分类号： G03F1/70 , H01L21/027 , G06F17/50
CPC分类号： G03F1/36 , G03F1/80 , G06F17/5068 , G06F2217/12 , H01L21/0334

8. 发明专利

TW201717256A 用於製程窗定義之度量衡方法审中-公开
简体标题：用于制程窗定义之度量衡方法
公开(公告)号：TW201717256A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105131427
申请日：2016-09-29
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：泰爾溫提波 , TEL, WIM TJIBBO , 喬錢森馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/70683 , G03F7/70641
摘要：本發明揭示一種方法，該方法涉及：量測針對一製程參數之值的一第一範圍設計之一第一度量衡目標；量測針對同一製程參數之值的一第二範圍設計之一第二度量衡目標，該第二範圍不同於該第一範圍且該第二度量衡目標具有與該第一度量衡目標不同的一實體設計；及自根據該量測該第一度量衡目標判定之該第一範圍中的該製程參數之一值及自根據該量測該第二度量衡目標判定之該第二範圍中的該製程參數之一值來導出製程窗資料。
简体摘要：本发明揭示一种方法，该方法涉及：量测针对一制程参数之值的一第一范围设计之一第一度量衡目标；量测针对同一制程参数之值的一第二范围设计之一第二度量衡目标，该第二范围不同于该第一范围且该第二度量衡目标具有与该第一度量衡目标不同的一实体设计；及自根据该量测该第一度量衡目标判定之该第一范围中的该制程参数之一值及自根据该量测该第二度量衡目标判定之该第二范围中的该制程参数之一值来导出制程窗数据。

9. 发明专利

TW201629617A 用於倍縮光罩最佳化之方法與裝置审中-公开
简体标题：用于倍缩光罩最优化之方法与设备
公开(公告)号：TW201629617A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW105102946
申请日：2016-01-29
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：泰爾溫提波 , TEL, WIM TJIBBO , 喬錢森馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS , 史達爾法蘭克 , STAALS, FRANK , 普麗緹絲克里斯多弗 , PRENTICE, CHRISTOPHER , 迪皮兒羅倫特麥可馬歇爾 , DEPRE, LAURENT MICHEL MARCEL , 貝特曼喬哈奈馬可斯瑪麗亞 , BELTMAN, JOHANNES MARCUS MARIA , 渥克曼羅伊 , WERKMAN, ROY , 威爾登伯格裘簡賽巴斯汀 , WILDENBERG, JOCHEM SEBASTIAAN , 摩斯艾佛哈德斯柯奈利斯 , MOS, EVERHARDUS CORNELIS
IPC分类号： G03F1/36
CPC分类号： G03F1/70 , G03F1/22 , G03F1/36 , G06T7/0006 , G06T2207/30148
摘要：本發明係關於一種方法，其包括判定用於一微影成像系統中之一基板之構形資訊；基於該構形資訊判定或估計該微影成像系統之一影像場中之複數個點之成像誤差資訊；基於該成像誤差資訊調適一圖案化器件之一設計。在一實施例中，基於一微影成像系統之一影像場中之複數個點之成像誤差資訊使計量目標之複數個位置最佳化，其中該最佳化涉及使描述該成像誤差資訊之一成本函數最小化。在一實施例中，基於跨越該影像場的成像要求之差異對位置進行加權。
简体摘要：本发明系关于一种方法，其包括判定用于一微影成像系统中之一基板之构形信息；基于该构形信息判定或估计该微影成像系统之一影像场中之复数个点之成像误差信息；基于该成像误差信息调适一图案化器件之一设计。在一实施例中，基于一微影成像系统之一影像场中之复数个点之成像误差信息使计量目标之复数个位置最优化，其中该最优化涉及使描述该成像误差信息之一成本函数最小化。在一实施例中，基于跨越该影像场的成像要求之差异对位置进行加权。

10. 发明专利

TWI418924B 影像感測器、微影曝光裝置、影像偵測方法、電腦程式產品及圖案化設備有权
简体标题：影像传感器、微影曝光设备、影像侦测方法、电脑进程产品及图案化设备
公开(公告)号：TWI418924B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：TW097116377
申请日：2008-05-02
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：史達爾法蘭克 , STAALS, FRANK , 傑瑞羅夫 , LOF, JOERI , 艾瑞克羅勒夫洛卜史塔 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 溫提波泰爾 , TEL, WIM TJIBBO , 畢瑞其莫斯特 , MOEST, BEARRACH
IPC分类号： G03B27/58 , G03B27/80
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70483 , G03F9/7088

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