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1. 发明专利

TW201708984A 對準系統审中-公开
简体标题：对准系统
公开(公告)号：TW201708984A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105109907
申请日：2016-03-29
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 保羅亞歷山卓 , POLO, ALESSANDRO , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 謝萊肯思安卓那斯裘漢斯漢德利克斯 , SCHELLEKENS, ADRIANUS JOHANNES HENDRIKUS , 亞甘尼基達斯特蓋瑞迪艾歐兒 , YEGANEGI DASTGERDI, ELAHE , 蔻妮威樂馬力朱立亞麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL , 寶賈特艾瑞克威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM , 休斯曼賽門雷納德 , HUISMAN, SIMON REINALD
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F7/70141
摘要：本發明提供一種用於判定一對準標記之位置之對準系統、方法及微影裝置，該對準系統包含：一第一系統，其經組態以產生該對準標記之相對於彼此旋轉大約180度的兩個重疊影像；及一第二系統，其經組態以自該兩個重疊影像之一強度之一空間分佈判定該對準標記之該位置。
简体摘要：本发明提供一种用于判定一对准标记之位置之对准系统、方法及微影设备，该对准系统包含：一第一系统，其经组态以产生该对准标记之相对于彼此旋转大约180度的两个重叠影像；及一第二系统，其经组态以自该两个重叠影像之一强度之一空间分布判定该对准标记之该位置。

2. 发明专利

TW201921147A 量測參數之方法及裝置审中-公开
简体标题：量测参数之方法及设备
公开(公告)号：TW201921147A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107131097
申请日：2018-09-05
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 休斯曼賽門雷納德 , HUISMAN, SIMON REINALD
IPC分类号： G03F7/20
摘要：本發明係關於一種判定施加至包含兩個特徵之一物件之一圖案化程序之一參數(例如該等兩個特徵之一疊對)之方法，其包含：用一輻射光束輻照該物件之該等兩個特徵且接收自該物件之該等兩個特徵散射之該輻射光束之至少一部分。該輻射光束之該至少一部分包含：包含至少一個繞射階之一第一部分及包含不同於該第一部分之一繞射階之至少一個繞射階之一第二部分。該方法進一步包含調節該第一部分與該第二部分之間的一相位差及組合該第一部分及該第二部分使得其進行干涉以產生一時間相依性強度信號。該方法進一步包含自該時間相依性強度信號之一對比度判定該圖案化程序之該參數。
简体摘要：本发明系关于一种判定施加至包含两个特征之一对象之一图案化进程之一参数(例如该等两个特征之一叠对)之方法，其包含：用一辐射光束辐照该对象之该等两个特征且接收自该对象之该等两个特征散射之该辐射光束之至少一部分。该辐射光束之该至少一部分包含：包含至少一个绕射阶之一第一部分及包含不同于该第一部分之一绕射阶之至少一个绕射阶之一第二部分。该方法进一步包含调节该第一部分与该第二部分之间的一相位差及组合该第一部分及该第二部分使得其进行干涉以产生一时间相依性强度信号。该方法进一步包含自该时间相依性强度信号之一对比度判定该图案化进程之该参数。

3. 发明专利

TW201820057A 位置感測器、微影裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：位置传感器、微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201820057A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106125006
申请日：2017-07-26
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：休斯曼賽門雷納德 , HUISMAN, SIMON REINALD , 麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 高爾登賽巴斯汀亞努斯安德里亞努斯 , GOORDEN, SEBASTIANUS ADRIANUS , 阿克布魯特都古 , AKBULUT, DUYGU , 保羅亞歷山卓 , POLO, ALESSANDRO
IPC分类号： G03F9/00
摘要：一微影裝置中之一種對準感測器包含一光學系統(500；600)，其經組態以遞送、收集及處理選擇性地在一第一波帶(例如500奈米至900奈米)中及/或在一第二波帶(例如1500奈米至2500奈米)中之輻射。該第一波帶及該第二波帶之該輻射共用該光學系統之至少某一部分中的一共同光學路徑(506至508；606)，而該第一波帶之該輻射係由一第一處理子系統(552a)處理且該第二波帶(552b)之該輻射係由一第二處理子系統處理。該等處理子系統在一個實例中包含自參考干涉計(556a/556b；656a/656b)。該第二波帶之該輻射允許經由諸如碳硬式光罩之一不透明層(308)來量測標記。每一處理子系統之光學塗層及其他組件可根據該各別波帶予以定製，而不完全複製該光學系統。
简体摘要：一微影设备中之一种对准传感器包含一光学系统(500；600)，其经组态以递送、收集及处理选择性地在一第一波带(例如500奈米至900奈米)中及/或在一第二波带(例如1500奈米至2500奈米)中之辐射。该第一波带及该第二波带之该辐射共享该光学系统之至少某一部分中的一共同光学路径(506至508；606)，而该第一波带之该辐射系由一第一处理子系统(552a)处理且该第二波带(552b)之该辐射系由一第二处理子系统处理。该等处理子系统在一个实例中包含自参考干涉计(556a/556b；656a/656b)。该第二波带之该辐射允许经由诸如碳硬式光罩之一不透明层(308)来量测标记。每一处理子系统之光学涂层及其他组件可根据该各别波带予以定制，而不完全复制该光学系统。

4. 发明专利

TW201809921A 輻射源审中-公开
简体标题：辐射源
公开(公告)号：TW201809921A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106118984
申请日：2017-06-08
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：庫馬尼蒂希 , KUMAR, NITISH , 休斯曼賽門雷納德 , HUISMAN, SIMON REINALD
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , G02F1/365
CPC分类号： G03F9/7065 , G02F1/365 , G02F2001/3528
摘要：一種用於一對準標記量測系統之超連續譜輻射源包含：一輻射源；照明光學件；複數個波導；及收集光學件。該輻射源可操作以產生一脈衝式輻射光束。該照明光學件經配置以接收該脈衝式泵輻射光束且形成複數個脈衝式子光束，每一脈衝式子光束包含該脈衝式輻射光束之一部分。該複數個波導中之每一者經配置以接收該複數個脈衝式子光束光束中之至少一者且加寬彼脈衝式子光束之一光譜以便產生一超連續譜子光束。該收集光學件經配置以自該複數個波導中之每一者接收該超連續譜子光束且將其組合以便形成一超連續譜輻射光束。
简体摘要：一种用于一对准标记量测系统之超连续谱辐射源包含：一辐射源；照明光学件；复数个波导；及收集光学件。该辐射源可操作以产生一脉冲式辐射光束。该照明光学件经配置以接收该脉冲式泵辐射光束且形成复数个脉冲式子光束，每一脉冲式子光束包含该脉冲式辐射光束之一部分。该复数个波导中之每一者经配置以接收该复数个脉冲式子光束光束中之至少一者且加宽彼脉冲式子光束之一光谱以便产生一超连续谱子光束。该收集光学件经配置以自该复数个波导中之每一者接收该超连续谱子光束且将其组合以便形成一超连续谱辐射光束。

5. 发明专利

TWI666528B 超連續譜輻射源及包含其之光學量測系統、對準標記量測系統及微影裝置有权
简体标题：超连续谱辐射源及包含其之光学量测系统、对准标记量测系统及微影设备
公开(公告)号：TWI666528B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW106118984
申请日：2017-06-08
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：庫馬尼蒂希 , KUMAR, NITISH , 休斯曼賽門雷納德 , HUISMAN, SIMON REINALD
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , G02F1/365

6. 发明专利

TW201837623A 度量衡感測器、微影裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：度量衡传感器、微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201837623A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW106141721
申请日：2017-11-30
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：高爾登賽巴斯汀亞努斯安德里亞努斯 , GOORDEN, SEBASTIANUS ADRIANUS , 帕迪尼特許 , PANDEY, NITESH , 阿克布魯特都古 , AKBULUT, DUYGU , 保羅亞歷山卓 , POLO, ALESSANDRO , 休斯曼賽門雷納德 , HUISMAN, SIMON REINALD
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
摘要：本發明揭示一種度量衡感測器系統，諸如一種位置感測器。該系統包含：一光學收集系統，其經組態以自一基板上之一度量衡標記收集繞射或散射輻射，該經收集輻射包含至少一個參數敏感信號及不參數敏感之雜訊信號；一處理系統，其可操作以處理該經收集輻射；及一模組殼體。一光學導引件被提供用於將與該雜訊信號分離之該至少一個參數敏感信號自該處理系統導引至該殼體外部之一偵測系統。一偵測器偵測經分離之該至少一個參數敏感信號。用於阻擋零階輻射之一遮蔽件及/或一縮微光學系統可提供於該光學導引件與該偵測器之間。
简体摘要：本发明揭示一种度量衡传感器系统，诸如一种位置传感器。该系统包含：一光学收集系统，其经组态以自一基板上之一度量衡标记收集绕射或散射辐射，该经收集辐射包含至少一个参数敏感信号及不参数敏感之噪声信号；一处理系统，其可操作以处理该经收集辐射；及一模块壳体。一光学导引件被提供用于将与该噪声信号分离之该至少一个参数敏感信号自该处理系统导引至该壳体外部之一侦测系统。一侦测器侦测经分离之该至少一个参数敏感信号。用于阻挡零阶辐射之一屏蔽件及/或一缩微光学系统可提供于该光学导引件与该侦测器之间。

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