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2. 发明专利

TWI487954B 微影裝置及反射元件陣列有权
简体标题：微影设备及反射组件数组
公开(公告)号：TWI487954B
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：TW099120937
申请日：2010-06-25
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：比伊斯愛德溫喬漢 , BUIS, EDWIN JOHAN , 德弗里斯戈塞查理斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES
IPC分类号： G02B5/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B26/12 , G03F7/70075 , G03F7/70091

3. 发明专利

TWI490664B 平面馬達及包含該平面馬達的微影裝置有权
简体标题：平面马达及包含该平面马达的微影设备
公开(公告)号：TWI490664B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW101108922
申请日：2012-03-15
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：侯史文安東尹喬漢 , HOL, SVEN ANTOIN JOHAN , 比伊斯愛德溫喬漢 , BUIS, EDWIN JOHAN , 維珍依爾文 , WIJN, ERWIN
IPC分类号： G03F7/20 , H02K41/03
CPC分类号： H02K41/033 , G03F7/70758

4. 发明专利

TW201423283A 致動機構、光學裝置、微影裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：致动机构、光学设备、微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201423283A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102136606
申请日：2013-10-09
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：侯史文安東尹喬漢 , HOL, SVEN ANTOIN JOHAN , 比伊斯愛德溫喬漢 , BUIS, EDWIN JOHAN , 貝克司艾利卡馬力亞 , REKKERS, ERIK MARIA , 德弗瑞斯高斯查爾斯 , DE VRIES, GOSSE CHARLES , 布特馬哈寇 , BOTMA, HAKO , 凡丹姆莫芮那司喬漢斯馬利亞 , VAN DAM, MARINUS JOHANNES MARIA , 凡戈庫瑞門帕斯克 , VAN GORKOM, RAMON PASCAL , 凡沙特珍伯納德波萊奇莫斯 , VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70091 , G01C9/06 , G01C2009/066 , G02B7/1821 , G03F7/70116 , H01F7/0231 , H01F7/206 , H01H2051/2218 , H02K41/00
摘要：一種用以使(例如)一鏡面位移之致動器，其藉由使兩個電磁體中之電流變化而提供具有至少兩個自由度之移動。一移動部件包括一永久磁體，該永久磁體具有受到約束以遍及實質上處於垂直於該磁體之一磁化方向之一第一平面中之一工作區域而移動的一磁性面。該等電磁體具有實質上處於接近地平行於該第一平面之一第二平面中之極面，每一極面實質上填充由該移動磁體之該面橫穿之該區域的一象限。一光學位置感測器可經由該等電磁體之間的一中心空間而將一輻射光束引導於該移動磁體處。可使一光瞳鏡面元件中之琢面之大小在一周邊區中較小，但在一中心區中較大，藉此放寬聚焦要求。
简体摘要：一种用以使(例如)一镜面位移之致动器，其借由使两个电磁体中之电流变化而提供具有至少两个自由度之移动。一移动部件包括一永久磁体，该永久磁体具有受到约束以遍及实质上处于垂直于该磁体之一磁化方向之一第一平面中之一工作区域而移动的一磁性面。该等电磁体具有实质上处于接近地平行于该第一平面之一第二平面中之极面，每一极面实质上填充由该移动磁体之该面横穿之该区域的一象限。一光学位置传感器可经由该等电磁体之间的一中心空间而将一辐射光束引导于该移动磁体处。可使一光瞳镜面组件中之琢面之大小在一周边区中较小，但在一中心区中较大，借此放宽聚焦要求。

5. 发明专利

TW201243513A 平面馬達及包含該平面馬達的微影裝置 PLANAR MOTOR AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING SUCH PLANAR MOTOR 审中-公开
简体标题：平面马达及包含该平面马达的微影设备 PLANAR MOTOR AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING SUCH PLANAR MOTOR
公开(公告)号：TW201243513A
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：TW101108922
申请日：2012-03-15
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：侯史文安東尹喬漢 , 比伊斯愛德溫喬漢 , 維珍依爾文
IPC分类号： G03F , H02K
CPC分类号： H02K41/033 , G03F7/70758
摘要：一種平面馬達,其包含:一定子,其包含以具有一第一間距之一重複配置而配置之複數個定子磁極,該複數個定子磁極面對一移動平面之一第一側;及一原動機,其包含以具有一第二間距之一重複配置而配置之複數個原動機磁極,該複數個原動機磁極面對該移動平面之一第二相對側。該定子及該原動機中至少一者之該等磁極具備一繞組,以便回應於通過該各別繞組之一電流而變更該等定子磁極及該等原動機磁極中之該等各別磁極中之一磁場。該定子及該原動機中至少一者包含用於產生一磁場之一永久磁鐵,該磁場自該永久磁鐵經由該定子及該原動機之至少一各別磁極而延伸至該定子及該原動機中之另一者且返回延伸。該第一間距及該第二間距彼此相異,使得當該原動機之該等原動機磁極中之一者與該等定子磁極中之一者對準時,該原動機之該等其他原動機磁極與該等定子磁極不對準。
简体摘要：一种平面马达,其包含:一定子,其包含以具有一第一间距之一重复配置而配置之复数个定子磁极,该复数个定子磁极面对一移动平面之一第一侧;及一原动机,其包含以具有一第二间距之一重复配置而配置之复数个原动机磁极,该复数个原动机磁极面对该移动平面之一第二相对侧。该定子及该原动机中至少一者之该等磁极具备一绕组,以便回应于通过该各别绕组之一电流而变更该等定子磁极及该等原动机磁极中之该等各别磁极中之一磁场。该定子及该原动机中至少一者包含用于产生一磁场之一永久磁铁,该磁场自该永久磁铁经由该定子及该原动机之至少一各别磁极而延伸至该定子及该原动机中之另一者且返回延伸。该第一间距及该第二间距彼此相异,使得当该原动机之该等原动机磁极中之一者与该等定子磁极中之一者对准时,该原动机之该等其他原动机磁极与该等定子磁极不对准。

6. 发明专利

TW201107798A 微影裝置及反射單元陣列 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND AN ARRAY OF REFLECTIVE ELEMENTS 审中-公开
简体标题：微影设备及反射单元数组 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND AN ARRAY OF REFLECTIVE ELEMENTS
公开(公告)号：TW201107798A
公开(公告)日：2011-03-01
申请号：TW099120937
申请日：2010-06-25
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：比伊斯愛德溫喬漢 , 德弗里斯戈塞查理斯
IPC分类号： G02B , G03F
CPC分类号： G03F7/702 , G02B26/12 , G03F7/70075 , G03F7/70091
摘要：本發明揭示一種反射元件陣列，該等反射元件中之至少一者安裝於一座架上，該座架包含至少部分地位於一套筒內之一桿體。該桿體之一第一末端固定至該套筒之一第一末端，且該桿體之一第二末端係可移動的，該套筒包括一第一回彈可撓性部分，該第一回彈可撓性部分經組態以彎曲，以便允許發生該桿體之該第二末端之移動，其中該反射元件安裝於該套筒之該第一末端處，使得該套筒之彎曲導致該反射元件之旋轉。
简体摘要：本发明揭示一种反射组件数组，该等反射组件中之至少一者安装于一座架上，该座架包含至少部分地位于一套筒内之一杆体。该杆体之一第一末端固定至该套筒之一第一末端，且该杆体之一第二末端系可移动的，该套筒包括一第一回弹可挠性部分，该第一回弹可挠性部分经组态以弯曲，以便允许发生该杆体之该第二末端之移动，其中该反射组件安装于该套筒之该第一末端处，使得该套筒之弯曲导致该反射组件之旋转。

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