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    • 8. 发明公开
    • MATERIAL SOURCE ARRANGMENT AND NOZZLE FOR VACUUM DEPOSITION
    • 用于真空沉积的材料源布置和喷嘴
    • EP3215650A1
    • 2017-09-13
    • EP14796078.5
    • 2014-11-07
    • Applied Materials, Inc.
    • BANGERT, StefanSCHÜßLER, UweDIEGUEZ-CAMPO, Jose Manuel
    • C23C14/12C23C14/56C23C16/455C23C14/24
    • C23C14/24C23C14/12C23C14/562C23C16/45578
    • A material source arrangement for depositing a material on a substrate in a vacuum deposition chamber is described. The material source arrangement includes a distribution pipe being configured to be in fluid communication with a material source providing the material to the distribution pipe; and at least one nozzle configured for guiding the material provided in the distribution pipe to the vacuum deposition chamber. The nozzle includes a thread for repeatedly connecting and disconnecting the nozzle to the distribution pipe. Further, a deposition apparatus for depositing material on a substrate including a material source arrangement, a nozzle for a material source arrangement, and a method for providing a distribution pipe and a nozzle for a material source arrangement are described.
    • 描述了用于在真空沉积室(110)中的基底(121)上沉积材料的材料源装置(100)。 所述材料源装置包括分配管(106),所述分配管(106)被构造成与将所述材料提供到所述分配管(106)的材料源(102)流体连通; 和至少一个喷嘴(200; 712),所述喷嘴被构造成用于将设置在分配管(106)中的材料引导至真空沉积室(110)。 喷嘴(200; 712)包括用于重复地将喷嘴连接到分配管和将喷嘴与分配管断开的螺纹。 此外,用于在包括材料源装置,用于材料源装置的喷嘴以及用于提供分配管(106)和喷嘴(200; 712)的方法的基板(121)上沉积材料的沉积装置(300) 描述了材料源装置(100)。