专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

EA034615B1 АППАРАТ ДЛЯ ПЛАЗМЕННОГО CVD 未知
公开(公告)号：EA034615B1
公开(公告)日：2020-02-27
申请号：EA201791415
申请日：2015-12-01
申请人： AGC INC
发明人： KAWAHARA HIROTOMO , MAESHIGE KAZUNOBU , AOMINE NOBUTAKA , HANEKAWA HIROSHI
IPC分类号： C23C16/503 , C23C16/44 , H01L21/31 , H01L21/365 , H05H1/46
摘要： Аппаратдляплазменного CVD включаетв себяисточникплазмы, соединенныйс источникомпитанияпеременноготокаилидвумяилиболееисточникамипитанияпеременноготока, выполненныйс возможностьюгенерацииплазмы; иматрицумагнитов, выполненнуюизмножествамагнитов. Источникплазмыимеетгруппуэлектродов, котораявыполненапосредствомрасположения n электродов (n являетсячетнымцелымчислом, большимилиравнымдвум), впорядкеномеровэлектродов. Каждыйизэлектродовгруппыэлектродовсоединенс источникомпитанияпеременноготока. Междусмежнымиэлектродамигруппыэлектродовобразованвыходпроточногоканаладлягаза-прекурсора. Матрицамагнитоврасположенатак, чтосеверныйполюсилиюжныйполюскаждогоизмагнитовобращенк источникуплазмы. Вматрицемагнитовпоменьшеймередляоднойпарыдвухсоседнихмагнитовобращенныек источникуплазмыполюсарасполагаютсятак, чтоявляютсяодинаковыми.

2. 发明专利

PL3135645T3 Podłoże szklane wyposażone w film powlekający i sposób wytwarzania podłoża szklanego wyposażonego w film powlekający 未知
公开(公告)号：PL3135645T3
公开(公告)日：2020-12-14
申请号：PL15783380
申请日：2015-04-21
申请人： AGC INC
发明人： HANEKAWA HIROSHI , AOMINE NOBUTAKA , KAWAHARA HIROTOMO , AOSHIMA YUKI , MAESHIGE KAZUNOBU
IPC分类号： C03C17/245 , B32B9/00 , B32B9/04 , B32B17/06 , C03C17/00 , C03C17/34 , C23C16/40 , C23C16/50 , C23C16/56 , G02B1/11

3. 发明专利

HUE038490T2 Védõréteg, reflexiós elem, valamint eljárás védõréteg gyártására 未知
公开(公告)号：HUE038490T2
公开(公告)日：2018-10-29
申请号：HUE14797913
申请日：2014-05-13
申请人： AGC INC
发明人： OKADA NAOKO , AOMINE NOBUTAKA , HANEKAWA HIROSHI , KAWAHARA HIROTOMO
IPC分类号： C03C17/09 , B32B9/00 , C03C17/36 , C23C14/06 , C23C14/10 , C23C14/16 , C23C14/18 , C23C14/34 , C23C16/40 , C23C16/42 , C23C16/50 , G02B1/10 , G02B1/14 , G02B5/08 , G02B19/00

4. 发明专利

HUE056964T2 Antireflexiós réteggel rendelkezõ üveglap 未知
公开(公告)号：HUE056964T2
公开(公告)日：2022-04-28
申请号：HUE16870662
申请日：2016-11-29
申请人： AGC INC
发明人： KAWAHARA HIROTOMO , SUZUKI KENICHI , AOMINE NOBUTAKA
IPC分类号： C03C17/34

5. 发明专利

ES2896077T3 Placa de vidrio con película antirreflectante 未知
公开(公告)号：ES2896077T3
公开(公告)日：2022-02-23
申请号：ES16870662
申请日：2016-11-29
申请人： AGC INC
发明人： KAWAHARA HIROTOMO , SUZUKI KENICHI , AOMINE NOBUTAKA
IPC分类号： C03C17/34 , G02B1/115
摘要： Una lámina de vidrio con una película antirreflectante, que comprende: una lámina de vidrio, una primera capa transparente de alto índice de refracción, situada sobre la lámina de vidrio, una primera capa transparente de bajo índice de refracción, situada sobre la primera capa transparente de alto índice de refracción, una segunda capa transparente de alto índice de refracción, situada sobre la primera capa transparente de bajo índice de refracción, y una segunda capa transparente de bajo índice de refracción, situada sobre la segunda capa transparente de alto índice de refracción, que tiene una turbidez después de calentar a una temperatura de 600 °C a 700 °C durante 15 minutos que es del 0,4 % o menor, y que tiene una reflectancia de luz visible medida por un lado de la segunda capa transparente de bajo índice de refracción, basada en la norma JIS R 3106, que es del 1,0 % o menor; en la que la primera capa transparente de alto índice de refracción está compuesta por un óxido de titanio dopado con un óxido de zirconio en una concentración de un 27 % a un 50 % en moles y el índice de refracción de la primera capa transparente de alto índice de refracción es 2,25 o mayor a una longitud de onda de 630 nm; la segunda capa transparente de alto índice de refracción está compuesta por un óxido de titanio dopado con un óxido de zirconio en una concentración de un 27 % a un 50 % en moles y el índice de refracción de la segunda capa transparente de alto índice de refracción es 2,25 o mayor a una longitud de onda de 630 nm; la primera capa transparente de bajo índice de refracción está compuesta principalmente por un óxido de silicio y la primera capa transparente de bajo índice de refracción tiene un índice de refracción que es menor que los de la primera capa transparente de alto índice de refracción y que los de la segunda capa transparente de alto índice de refracción; y la segunda capa transparente de bajo índice de refracción está compuesta por un óxido de silicio o por un óxido de silicio dopado con un óxido de zirconio.

6. 发明专利

SG11202112745RA REFLECTIVE MASK BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY 未知
公开(公告)号：SG11202112745RA
公开(公告)日：2021-12-30
申请号：SG11202112745R
申请日：2020-05-20
申请人： AGC INC
发明人： KAWAHARA HIROTOMO , HANEKAWA HIROSHI , UNO TOSHIYUKI , AKITA MASAFUMI
IPC分类号： G03F1/24 , G03F7/20
摘要： A reflective mask blank for EUV lithography includes a substrate and, formed on or above the substrate in the following order, a reflective layer for reflecting EUV light, a protective layer for the reflective layer, an absorption layer for absorbing EUV light, and a hard mask layer. The protective layer contains ruthenium (Ru), the absorption layer contains tantalum (Ta), the hard mask layer contains chromium (Cr) and at least one of nitrogen (N) and oxygen (O), and the hard mask layer has a film density of from 3.00 g/cm3 to 5.40 g/cm3.

7. 发明专利

HUE049078T2 Plazmaforrás plazma CVD berendezéshez, valamint eljárás árucikknek a plazmaforrás használatával történõ gyártására 未知
公开(公告)号：HUE049078T2
公开(公告)日：2020-09-28
申请号：HUE13850259
申请日：2013-10-23
申请人： AGC INC
发明人： KAWAHARA HIROTOMO , AOMINE NOBUTAKA , MAESHIGE KAZUNOBU , AOSHIMA YUKI , HANEKAWA HIROSHI
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/31 , H05H1/24

8. 发明专利

SA515370141B1 غشاء واقي، عضو عاكس، وطريقة لإنتاج غشاء واقي 未知
公开(公告)号：SA515370141B1
公开(公告)日：2019-04-10
申请号：SA515370141
申请日：2015-11-12
申请人： ASAHI GLASS CO LTD , AGC INC
发明人： OKADA NAOKO , AOMINE NOBUTAKA , KAWAHARA HIROTOMO , HANEKAWA HIROSHI
摘要： يتعلقالاختراعالحاليبغشاءواقي protective film موضوععلىجزءعلويمنغشاءمعدني metal film لحمايةالغشاءالمعدنيموضوععلىركيزةزجاجية glass substrate. الغشاءالواقييتضمنغشاءسيليكا silica film. غشاءالسيليكالهمعاملانطفاء extinction coefficient "k" أقلمنأويساوي 1 × 10-4،مؤشرانحرافي refractive index "n" أكبرمنأويساوي 1.466 عندطولموجيقدره 632 نانومتر،ومحتوىكربون carbon content أقلمنأويساوي 3 ٪ذري.

9. 发明专利

PL3385236T3 Płyta szklana z powłoką antyrefleksyjną 未知
公开(公告)号：PL3385236T3
公开(公告)日：2022-01-31
申请号：PL16870662
申请日：2016-11-29
申请人： AGC INC
发明人： KAWAHARA HIROTOMO , SUZUKI KENICHI , AOMINE NOBUTAKA
IPC分类号： C03C17/34 , G02B1/115

10. 发明专利

ES2821481T3 Sustrato de vidrio equipado con película de revestimiento y método para producir el sustrato de vidrio equipado con película de recubrimiento 未知
公开(公告)号：ES2821481T3
公开(公告)日：2021-04-26
申请号：ES15783380
申请日：2015-04-21
申请人： AGC INC
发明人： HANEKAWA HIROSHI , AOMINE NOBUTAKA , KAWAHARA HIROTOMO , AOSHIMA YUKI , MAESHIGE KAZUNOBU
IPC分类号： C03C17/245 , B32B9/00 , B32B9/04 , B32B17/06 , C03C17/00 , C03C17/34 , C23C16/40 , C23C16/50 , C23C16/56 , G02B1/11
摘要： Un método para producir un sustrato de vidrio provisto con una película de revestimiento, que comprende una etapa de formación de una capa que contiene TiO2 sobre un sustrato de vidrio mediante el método de CVD de plasma a baja temperatura usando un material formador de película que contiene al menos un miembro seleccionado del grupo formado por un material de titanio de tipo alcóxido, un material de titanio de tipo amida y un material de titanio de tipo haluro, mediante la aplicación de potencia eléctrica a una fuente de plasma mediante una fuente de energía para producir una densidad de potencia del plasma de al menos 55 kW/m a una velocidad de formación de película de 15 a 200 nm-m/min, en donde la fuente de plasma es una fuente de plasma lineal, en donde la unidad [kW/m] de la densidad de potencia del plasma representa una energía eléctrica [kW] aplicada por 1 m de la fuente de plasma, y en donde la unidad [nm-m/min] de la velocidad de formación de película representa el espesor de la película [nm] de la capa que contiene TiO2 obtenida cuando un sustrato de vidrio se mueve a una velocidad de 1 m/min en una dirección en ángulo recto con la dirección longitudinal de la fuente de plasma lineal.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式