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    • 2. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER MEDIZINISCHEN VORRICHTUNG ODER EINER VORRICHTUNG MIT STRUKTURELEMENTEN, VERFAHREN ZUM MODIFIZIEREN DER OBERFLÄCHE EINER MEDIZINISCHEN VORRICHTUNG ODER EINER VORRICHTUNG MIT STRUKTURELEMENTEN, MEDIZINISCHE VORRICHTUNG UND SCHICHTVERBUND MIT EINEM SUBSTRAT
    • 方法用于生产医用设备或结构部件,方法用于修改医疗设备的表面或与结构元件,医疗设备和复合层基板的设备的设备
    • WO2015011253A1
    • 2015-01-29
    • PCT/EP2014/066006
    • 2014-07-25
    • ACQUANDAS GMBH
    • LIMA DE MIRANDA, Rodrigo
    • G03F7/00G03F7/20G03F7/40A61F2/82A61L27/06
    • G03F7/40A61B17/32A61B2017/00526A61F2/82A61L31/022A61L31/088A61L2400/16A61L2420/02G03F7/00G03F7/0035G03F7/0037G03F7/201H01L21/00
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer medizinischen Vorrichtung (1) mit Strukturelementen (2), umfassend folgende Verfahrensschritte: das Bereitstellen eines Substrates (3); Optionales Abscheiden einer Schicht aus einem Opfermaterial (4) auf dem Substrat (3); das Auftragen einer Fotolackschicht (5) auf das Substrat (3), insbesondere auf die Opfermaterialschicht (4), und Strukturieren der Fotolackschicht (5) gemäß der Form der herzustellenden Strukturelemente (2), so dass erste Freiräume (6) gebildet werden, die auf der Substrat (3) abgewandten Seite offen sind und durch Seitenflächen (7) der Fotolackschicht (5) begrenzt werden, wobei ein Winkel (8) zwischen den Seitenflächen (7) und dem Substrat (3) eingestellt wird; das Abscheiden von Opfermaterial (9), so dass in den ersten Freiräumen (6) erste Maskenelemente (10) aus Opfermaterial (9) gebildet werden, die an die Innenkontur (13) der ersten Freiräume (6) angepasst sind; das Entfernen der Fotolackschicht (5), so dass zweite Freiräume (11) zwischen den ersten Maskenelementen (10) gebildet werden; das Abscheiden, insbesondere physikalisches Gasphasenabscheiden, eines ersten Materials (12) der herzustellenden Vorrichtung (1) in den zweiten Freiräumen (11) und auf der Oberseite (33) der ersten Maskenelemente (10) und Abtragen des Opfermaterials (4, 9) und/oder Durchführen weiterer Prozessschritte.
    • 本发明涉及一种用于制造医疗器械(1)具有结构单元(2),包括以下步骤:提供衬底(3); 可选在衬底上沉积牺牲材料(4)的层(3); 牺牲材料层(4)在基片(3)上施加光致抗蚀剂层(5),特别是,和图案化所述光致抗蚀剂层(5)根据所述结构的形状(2),使得第一自由空间(6)中形成的元件, 是衬底(3)上的背向侧是开放的,并通过侧表面(7)的光致抗蚀剂层(5)是有限的,其中的角度(8)的侧表面(7)和(3)被设定在基板之间; 沉积牺牲材料(9),使得第一自由空间(6)第一掩模元件(10)由牺牲材料(9),其适于将所述内轮廓(13)形成上述第一自由空间(6); 除去,以使第一掩模元件(10)之间的第二自由空间(11)形成光致抗蚀剂层(5); 沉积,特别是,物理气相沉积,所述装置的第一材料(12),以在所述第二自由空间(11)产生(1)和在所述第一掩模元件的上侧(33)(10)和除去牺牲材料(4,9)和/ 或执行进一步的处理步骤。