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    • 1. 发明公开
    • 폴리싱 패드 및 이를 사용하는 시스템 및 방법
    • 抛光垫和使用它们的系统和方法
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    • 폴리싱시스템은기재를수용및 보유하도록구성된제1 캐리어조립체및 폴리싱패드를포함한다. 폴리싱패드는상부주 표면, 및상부주 표면반대편에위치된하부주 표면과, 폴리싱패드의상부주 표면으로부터연장되는복수의폴리싱요소를포함한다. 시스템은폴리싱패드의상부표면과기재사이에배치된폴리싱용액을추가로포함한다. 폴리싱유체는유체성분, 및유체성분중에분산된복수의세라믹연마복합재를포함하며, 세라믹연마복합재는다공성세라믹매트릭스중에분산된개별연마입자를포함한다. 시스템은폴리싱패드를수용및 보유하도록구성된제2 캐리어조립체를추가로포함한다. 시스템은폴리싱패드가기재에대하여이동가능하여폴리싱작업을수행하도록구성된다.
    • 该抛光系统包括构造成接收并保持基板和抛光垫的第一载体组件。 抛光垫包括与主上表面相对定位的上主表面和下主表面以及从抛光垫的上表面延伸的多个抛光元件。 该系统还包括设置在抛光垫的上表面和基底之间的抛光溶液。 抛光液包括流体组分和分散在流体组分中的多个陶瓷磨料复合物,其中陶瓷磨料复合物包含分散在多孔陶瓷基质中的单独磨粒。 该系统还包括构造成接收和保持抛光垫的第二载体组件。 该系统被构造成使得抛光垫相对于基板可移动以执行抛光操作。