专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2017082529A1 내재적 기공성 고분자로 제조된 다공성 탄소 구조체를 포함하는 수처리용 막 및 이의 제조방법 审中-公开
标题翻译：一种用于水处理的膜的制备方法和包括从碳固有多孔的聚合物制成的多孔结构
公开(公告)号：WO2017082529A1
公开(公告)日：2017-05-18
申请号：PCT/KR2016/010174
申请日：2016-09-09
申请人： 한국화학연구원
发明人： 이규철 , 김병각 , 유영재 , 김용석 , 원종찬 , 김동균
IPC分类号： B01D71/02 , B01D67/00 , B01D61/02 , C02F1/44 , C02F103/08
CPC分类号： B01D61/02 , B01D67/00 , B01D71/02 , C02F1/44
摘要： 본 발명은 내재적 기공성 고분자로 제조된 다공성 탄소 구조체를 포함하는 수처리용 막 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 내재적 기공성 고분자가 탄화된 다공성 탄소 구조체를 포함하는 수처리용 막은 내재적 기공성 고분자로 제조된 다공성 고분자 필름을 탄화시켜, 다공성 구조의 높은 표면적을 갖고, 수투과성이 좋은 다공성 탄소 구조체를 가짐으로써, 우수한 수투과성과 염제거율을 나타내므로 주요 수처리 과정에서 역삼투압여과 또는 나노여과용 등으로 유용하게 사용될 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及包含由本征多孔聚合物制成的多孔碳结构的水处理膜及其制备方法。到根据本发明的本征多孔聚合物是碳化，制成的薄膜固有地用于水处理包括多孔碳结构的碳化物多孔聚合物的多孔聚合物膜，具有多孔结构的高比表面积，可以将透气性好多孔碳结构，它具有优异的透水性和脱盐率，可用于主要水处理过程中的反渗透过滤或纳滤。

2. 发明授权

KR101815578B1 중합 개시제로서의 옥심 카바메이트 물질 및 이를 포함하는 조성물 有权
公开(公告)号：KR101815578B1
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：KR1020170097224
申请日：2017-07-31
申请人： 한국화학연구원
发明人： 박영일 , 노승만 , 남준현 , 김진철 , 이규철 , 이태희
IPC分类号： C09D7/12 , C09D4/06
CPC分类号： C09D7/63 , C08K5/205 , C09D4/06
摘要： 본원발명은라디칼공급원, 특히중합개시제로서의옥심카바메이트화합물및 이를포함하는중합성조성물에관한것으로, 보다구체적으로는중합개시제로서옥심카바메이트화합물; 및에틸렌성불포화이중결합을가지는중합성화합물을포함하는것을특징으로하는중합성조성물에대한것이다. 본원발명에따른열이나광에서라디칼개시가가능한신규옥심카바메이트기반중합개시제및 이를포함하는조성물은코팅및 도료, 디스플레이등 산업전반에많이사용될수 있다.

3. 发明授权

KR101789529B1 내재적 기공성 고분자로 제조된 다공성 탄소 구조체를 포함하는 수처리용 막 및 이의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101789529B1
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：KR1020160116626
申请日：2016-09-09
申请人： 한국화학연구원
发明人： 이규철 , 김병각 , 유영재 , 김용석 , 원종찬 , 김동균
IPC分类号： B01D71/02 , B01D67/00 , B01D61/02 , C02F1/44 , C02F103/08
CPC分类号： B01D61/02 , B01D67/00 , B01D71/02 , C02F1/44
摘要： 본발명은내재적기공성고분자로제조된다공성탄소구조체를포함하는수처리용막 및이의제조방법에관한것이다. 본발명에따른내재적기공성고분자가탄화된다공성탄소구조체를포함하는수처리용막은내재적기공성고분자로제조된다공성고분자필름을탄화시켜, 다공성구조의높은표면적을갖고, 수투과성이좋은다공성탄소구조체를가짐으로써, 우수한수투과성과염제거율을나타내므로주요수처리과정에서역삼투압여과또는나노여과용등으로유용하게사용될수 있다.

4. 发明公开

KR1020170056420A 내재적 기공성 고분자로 제조된 다공성 탄소 구조체를 포함하는 수처리용 막 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：一种用于水处理的膜的制备方法和包括从碳固有多孔的聚合物制成的多孔结构
公开(公告)号：KR1020170056420A
公开(公告)日：2017-05-23
申请号：KR1020160116626
申请日：2016-09-09
申请人： 한국화학연구원
发明人： 이규철 , 김병각 , 유영재 , 김용석 , 원종찬 , 김동균
IPC分类号： B01D71/02 , B01D67/00 , B01D61/02 , C02F1/44 , C02F103/08
CPC分类号： B01D61/02 , B01D67/00 , B01D71/02 , C02F1/44
摘要： 본발명은내재적기공성고분자로제조된다공성탄소구조체를포함하는수처리용막 및이의제조방법에관한것이다. 본발명에따른내재적기공성고분자가탄화된다공성탄소구조체를포함하는수처리용막은내재적기공성고분자로제조된다공성고분자필름을탄화시켜, 다공성구조의높은표면적을갖고, 수투과성이좋은다공성탄소구조체를가짐으로써, 우수한수투과성과염제거율을나타내므로주요수처리과정에서역삼투압여과또는나노여과용등으로유용하게사용될수 있다.
摘要翻译：本发明涉及含有由本征多孔聚合物制成的多孔碳结构的水处理膜及其制造方法。到根据本发明的本征多孔聚合物是碳化，制成的薄膜固有地用于水处理包括多孔碳结构的碳化物多孔聚合物的多孔聚合物膜，具有多孔结构的高比表面积，可以将透气性好多孔碳结构通过具有，由于优异的透明度，可以表现出高氯酸脱除率可从主水处理过程反渗透过滤或毫微过滤等是有用的。

5. 发明授权

KR100974955B1 사이클로알킬 피롤 및 아졸을 가지는 피페라진 유도체 및그의 염, 및 이를 포함하는 약학 조성물 失效
标题翻译：具有环丙基吡咯烷酮及其盐及其盐的哌嗪衍生物及包含其的药物组合物
公开(公告)号：KR100974955B1
公开(公告)日：2010-08-09
申请号：KR1020080015671
申请日：2008-02-21
申请人： 한국화학연구원
发明人： 최일영 , 임희종 , 이규철 , 박우규 , 공재양
IPC分类号： C07D401/08 , A61K31/497
摘要： 본 발명은 사이클로알킬 피롤 및 아졸을 가지는 피페라진 유도체 및 그의 염, 및 이를 포함하는 정신질환의 예방 또는 치료용 약학 조성물에 관한 것으로, 본 발명의 피페라진 유도체는 도파민 Ｄ4 수용체에 대하여 우수한 길항 작용을 나타내므로 정신질환의 예방 또는 치료제로서 유용하게 사용될 수 있다:

상기 식에서,
R
1 은 , 이고
(여기서, X는 수소, 할로겐, C
1-6 알킬, C
1-6 알콕시 또는 사이아노이고;
R은 수소, 또는 할로겐, 나이트로, C
1-6 알킬, C
1-6 알콕시 또는 사이아노로 치환되거나 치환되지 않은 페닐이다.);
R
2 는 할로겐, C
1-6 알킬, C
1-6 알콕시 또는 사이아노로 치환되거나 치환되지 않은 페닐 또는 벤질이고;
n은 1 내지 3의 정수이다.

6. 发明公开

KR1020090090457A 사이클로알킬 피롤 및 아졸을 가지는 피페라진 유도체 및그의 염, 및 이를 포함하는 약학 조성물 失效
标题翻译：具有环丙基吡咯烷酮及其盐及其盐的哌嗪衍生物及包含其的药物组合物
公开(公告)号：KR1020090090457A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：KR1020080015671
申请日：2008-02-21
申请人： 한국화학연구원
发明人： 최일영 , 임희종 , 이규철 , 박우규 , 공재양
IPC分类号： C07D401/08 , A61K31/497
摘要： A piperazine derivative is provided to treat schizophrenia by antagonism to dopamine D4 receptor. A piperazine derivative is denoted by the chemical formula 1. In the chemical formula 1, R1 is structural formula a, b, c, d, e, or f, and X is hydrogen, halogen, C1-6 alkyl, C1-6 alkoxy or cyano. A method for producing the piperazine derivative of the chemical formulal Ia: a step of reacting hydrazine in substituted acetone phenone to generate hydrazone and reacting ammonium acetate to produce pyrrole ring of the chemical formula III; a step of reacting with cycloalkane under the presence of catalyst to produce a cycloalkine pyrrole; and a step of reacting reductive amination with substituted or non-substituted piperazine to produce a compound of the chemical formula Ia.
摘要翻译：提供哌嗪衍生物通过拮抗多巴胺D4受体来治疗精神分裂症。哌嗪衍生物由化学式1表示。在化学式1中，R 1为结构式a，b，c，d，e或f，X为氢，卤素，C 1-6烷基，C 1-6烷氧基或氰基。制备化学式Ia的哌嗪衍生物的方法：使肼在取代的丙酮苯酮中反应生成腙并使乙酸铵反应生成化学式III的吡咯环的步骤; 在催化剂存在下与环烷烃反应生成环烷基吡咯的步骤; 以及使还原胺化与取代或未取代的哌嗪反应以产生化学式Ia的化合物的步骤。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式