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    • 4. 发明公开
    • 수중 플라즈마 유도에 의한 비정형 식각계면 형성 방법
    • 通过水下等离子体感应形成原子蚀刻界面
    • KR1020170117256A
    • 2017-10-23
    • KR1020160044658
    • 2016-04-12
    • 한국세라믹기술원
    • 허승헌김성준안욱성최기인김선택이명규
    • H01J37/32C23C14/00H05H1/24
    • H01J37/32009C23C14/0005H05H1/24
    • 본발명은에너지원의조사방향등의조작없이도식각면을독특한불규칙패턴구조로형성시킬수 있으며, 그과정에서파티클오염이나식각부위주변에크랙이발생하지않도록하는수중플라즈마유도에의한비정형식각계면형성방법에관한것이다. 본발명은『(a) 일면에코팅막이형성된기판을물에넣는단계; (b) 상기기판의코팅막부분에플라즈마유도에너지원을조사하는단계; 및 (c) 상기에너지원의출력을높여플라즈마와함께직경 1㎜이상의기포가발생하도록하여, 비정형식각계면이형성되도록하는단계;를포함하는수중플라즈마유도에의한비정형식각계면형성방법』을제공한다.
    • 本发明是如何形成的,并且在操作蚀刻表面上形成,而不在能量源,感应,以防止在过程中出现的裂纹,向周围的颗粒污染和腐蚀区域表面水下等离子体的不规则蚀刻的这种照射方向鲜明不规则图案结构sikilsu Lt。 (A)将其一个表面上具有涂膜的基板置于水中; (b)用等离子体诱导能量源照射衬底涂层膜的一部分; 和(c),以确保气泡比直径1㎜与等离子体增加能量源的输出发生时,非晶蚀刻界面处形成;可以通过诱导含有水下等离子提供非晶蚀刻界面的形成方法” 。