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1. 发明申请

WO2012150814A2 대면적 전사용 스탬프 및 이를 이용한 대면적 전사 장비 审中-公开
标题翻译：用于大面积图像转印的印章和使用相同的大面积图像传输设备
公开(公告)号：WO2012150814A2
公开(公告)日：2012-11-08
申请号：PCT/KR2012/003440
申请日：2012-05-02
申请人： 한국기계연구원 , 김재현 , 장봉균 , 김광섭 , 최현주 , 이학주 , 최병익 , 김경식
发明人： 김재현 , 장봉균 , 김광섭 , 최현주 , 이학주 , 최병익 , 김경식
IPC分类号： B41N7/06 , B41F16/00 , B29C59/04
CPC分类号： B41F1/46 , B41F1/42 , B41F17/001
摘要： 본 발명은 전사용 스탬프와 전사 장비에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 롤(roll)에 의해 대면적에 형성된 박막 소자를 밀착시켜 이송한 후 롤에 의해 이송된 박막 소자를 정렬시킴으로서 연속 공정이 가능한 대면적 전사용 스탬프와, 상기 스탬프의 표면 접촉력을 균일화 하여 전사 시 박막 소자의 손상을 최소화 하게 되는 대면적 전사용 스탬프를 이용한 대면적 전사 장비에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及用于图像传送和图像传送设备的印章。更具体地说，本发明涉及一种用于大面积图像转印的印模，其能够通过使用辊进行连续加工，以确保形成在大面积上的薄膜元件的紧密接触和移动，然后使薄膜元件已经通过滚动移动了; 以及使用大面积图像转印印模的大面积图像转印设备，该设备适于通过使印模的表面接触力均匀而使图像转印期间对薄膜元件的损伤最小化。

2. 发明申请

WO2011155808A2 프린팅 공정 시뮬레이션 장치 및 방법 审中-公开
标题翻译：打印过程模拟的装置和方法
公开(公告)号：WO2011155808A2
公开(公告)日：2011-12-15
申请号：PCT/KR2011/004315
申请日：2011-06-13
申请人： 한국기계연구원 , 김광섭 , 김재현 , 장봉균 , 이학주
发明人： 김광섭 , 김재현 , 장봉균 , 이학주
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G01N19/04
摘要： 본 발명은 프린팅 공정 시뮬레이션 장치 및 방법에 대한 것으로서, 더 상세하게는 프린팅 공정용 소재 사이의 점착 특성 및 이에 대한 공정 조건의 영향을 자동으로 조사해 주는 프린팅 공정 시뮬레이션 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 하중 감지 센서 등을 이용하여 스탬프, 잉크, 모재, 기판 사이의 점착 특성을 자동적으로 계산하는 것이 가능하다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于印刷工艺模拟的装置和方法，更具体地说，涉及一种印刷工艺模拟的装置和方法，该装置和方法自动研究印刷过程的材料之间的粘合特性以及工艺条件对粘合特性的影响。根据本发明，可以使用负载传感器等自动计算印模，油墨，基材和基板之间的粘合特性。

3. 发明申请

WO2010021528A2 계층화 구조물 및 그 제조 방법 审中-公开
标题翻译：分层结构及其制造方法
公开(公告)号：WO2010021528A2
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：PCT/KR2009/004702
申请日：2009-08-24
申请人： 한국기계연구원 , 김재현 , 이학주 , 현승민 , 최현주 , 최병익 , 김기돈 , 최대근
发明人： 김재현 , 이학주 , 현승민 , 최현주 , 최병익 , 김기돈 , 최대근
IPC分类号： B82B1/00 , B82B3/00
CPC分类号： B81C1/00095 , B33Y80/00 , B81B2207/056 , B81B2207/07 , B82Y30/00 , Y10T428/24479 , Y10T428/24851
摘要： 본 발명은 계층화 구조물의 형상, 그 형상에 따른 계층화 구조물의 공학적 효과, 그 공학적 효과의 증대 방법, 신규 소재 또는 부품에 대한 계층화 구조물의 응용 방법, 계층화 구조물의 대량 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 계층화 구조물 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 내부의 기지에 나노 스케일 영역의 특성 길이를 가지는 적어도 하나 이상의 나노 오브젝트가 일정한 패턴에 의해 배열된 것을 특징으로 하는 계층화 구조물을 포함한다. 본 발명에 따르면, 나노 스케일 영역에서 발생하는 우수한 특성을 거시적인 스케일 영역의 구조물에서도 활용할 수 있으며, 스케일이 서로 다른 구조물들을 상이한 스케일에 무관하게 간편히 연계할 수 있다.
摘要翻译：
本发明中的分层结构的形状，根据该形状，并且增加了工程效果的方法，该层状结构的一个新的材料或组件的应用方法中，层状结构的层状结构的工程效果大批量生产＆lt; 本发明包括在层状结构的层状结构，并因为它涉及到用于制备，其特征在于至少一个或多个纳米物体的过程被具有纳米尺度范围的特征长度的内基座的预定图案布置。根据本发明，可以在宏观尺度区域的结构中利用纳米尺度区域中出现的优异特性，并且不管尺度不同，具有不同尺度的结构可以容易地连接。

4. 发明申请

WO2010038963A2 계층화 구조물 제조 장치 审中-公开
标题翻译：分层结构制造设备
公开(公告)号：WO2010038963A2
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：PCT/KR2009/005527
申请日：2009-09-28
申请人： 한국기계연구원 , 김재현 , 이학주 , 현승민 , 한승우 , 최병익
发明人： 김재현 , 이학주 , 현승민 , 한승우 , 최병익
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/6836 , B29C47/067 , B29C2043/463 , H01L24/80 , H01L24/83 , H01L24/95 , H01L25/0652 , H01L2221/68359 , H01L2221/68368 , H01L2224/27312 , H01L2224/7565 , H01L2224/83192 , H01L2224/838 , H01L2224/95145 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01019 , H01L2924/01033 , H01L2924/01047 , H01L2924/01057 , H01L2924/01082 , H01L2924/1461 , Y10T156/1195 , Y10T156/1705 , Y10T156/1744 , H01L2924/00
摘要： 본 발명은 고성능의 미소유닛을 유연한 기판 상에 계층적으로 형성할 수 있는 대량 생산 제조장치인 계층화 구조물 제조 장치에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명의 계층화 구조물 제조 장치는, 단단한 재질의 더미기판(dummy substrate) 상에 구비된 미소유닛을 릴리스(release)하여 유연한 재질의 타겟기판(target substrate) 상에 적층하기 위한 계층화 구조물 제조 장치에 있어서, 상기 더미기판을 지지하여 평면이송시키는 이송스테이지; 및 상기 더미기판과 상기 타겟기판이 서로 압착되도록 상기 타겟기판을 감아 롤링시킴에 따라 상기 더미기판의 미소유닛이 상기 타겟기판에 적층되게 하는 메인롤러;를 포함하여 구성된다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于制造分层结构的设备，其是能够在柔性基板上分层形成高性能微单元的批量生产设备。为层叠于层叠结构形成本发明，虚拟衬底（伪衬底）的微笑单元释放的固体材料的装置的分层结构形成装置（释放）通过一个柔性材料的目标衬底（靶底物）设置在为此传送台，用于在平面中支撑和传送虚拟衬底; 它被配置成包括;和虚设基板和主辊沿锡金滚动卷绕目标衬底正在微笑的虚设基板的台的目标基板上，使得所述靶底物压在一起上被堆叠。

5. 发明专利

KR20210025140A KR20210025140A - Apparatus for transferring micro device 审中-公开
公开(公告)号：KR20210025140A
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：KR1020190104167A
申请日：2019-08-26
申请人： 한국기계연구원
发明人： 김재구 , 김재현 , 윤재성 , 김기홍 , 장성환
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67144 , H01L21/67098 , H01L21/67259
摘要： 본 발명은 타겟기판에 마이크로 소자가 안정적이고 균일하게 전사되도록 하여 공정의 수율을 개선할 수 있는 마이크로 소자 전사 장치를 제공함에 있다. 이를 위한 본 발명은 타겟기판에 마이크로 소자를 부착하는 마이크로 소자 전사 장치로서, 상기 타겟기판이 접촉 지지되는 제1 열접촉면이 형성된 제1 히팅블록을 구비하는 제1 히터유닛; 상기 마이크로 소자를 포함한 캐리어필름이 접촉 지지되는 제2 열접촉면이 형성된 제2 히팅블록을 구비하는 제2 히터유닛; 및 상기 제1 히터유닛과 연결되며, 상기 제1 히팅블록 및 상기 제2 히팅블록이 일직선 상에서 서로 마주하여 대향하도록 상기 제1 히터유닛의 위치를 정렬시키기 위한 제1 이동플랫폼;을 포함하는 특징을 개시한다.

6. 发明专利

KR102230701B1 KR102230701B1 - Meta structure with zero elastic modulus section and method of designing meta structure with zero elastic modulus section 有权
公开(公告)号：KR102230701B1
公开(公告)日：2021-03-22
申请号：KR1020190069765A
申请日：2019-06-13
申请人： 한국기계연구원 , 재단법인 파동에너지 극한제어 연구단
发明人： 장봉균 , 김재현 , 원세정 , 이학주 , 이승모 , 김광섭
IPC分类号： B41F16/00
CPC分类号： B41F16/00 , B41F16/002 , B41F16/0066
摘要： 본 발명의 일실시예는 일정한 변형구간에서 동일한 응력을 가질 수 있는 제로 탄성계수 구간을 가지는 메타구조체 및 제로 탄성계수 구간을 가지는 메타구조체 설계방법을 제공한다. 여기서, 제로 탄성계수 구간을 가지는 메타구조체는 제1유닛 그리고 제2유닛을 포함한다. 제1유닛은 좌굴(Buckling) 가능한 구조로 형성되고, 응력 변형률 관계에서 음의 탄성계수를 가지는 구간을 포함한다. 제2유닛은 제1유닛에 이웃하게 배치되고, 응력 변형률 관계에서 양의 탄성계수를 가지는 구간을 포함한다. 제1유닛의 음의 탄성계수와 제2유닛의 양의 탄성계수의 합성에 의해, 미리 설정된 타깃변형구간에서 제로 탄성계수를 가진다.

7. 发明申请

WO2012138091A3 데이터 전송 방법 및 사용자 장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2012138091A3
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：PCT/KR2012/002468
申请日：2012-04-02
申请人： 엘지전자 주식회사 , 김태현 , 김래영 , 김재현 , 김현숙
发明人： 김태현 , 김래영 , 김재현 , 김현숙
IPC分类号： H04B7/26 , H04W88/06
摘要： 본 명세서는 다중의 무선 액세스 기술(Radio Access Technology)을 지원하는 사용자 장치(User Equipment)에서의 방법을 제공한다. 상기 방법은 서버로부터 시스템간 라우팅 정책(Inter-System Routing Policy)에 대한 정보를 수신하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 정보는 필터 규칙 정보를 포함하고, 상기 필터 규칙 정보는 도메인 정보 및 컨텐츠 타입 정보 중 하나 이상과, 상기 사용자 장치에 의해서 지원되는 액세스 기술 또는 액세스 네트워크들이 우선 순위에 따라 정리된 리스트를 포함할 수 있다. 상기 방법은 전송할 데이터 트래픽은 상기 필터 규칙 정보에 따라 결정되는 하나 이상의 액세스 기술 또는 네트워크를 이용하여 전송하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 어느 하나의 액세스 기술 또는 네트워크를 통해 전송되는 데이터 트래픽은 상기 라우팅 정책에 정의된 APN(Access Point Name) 으로 전달되는 데이터가 그 대상일 수 있다.

8. 发明申请

WO2011105678A1 임피던스 정합 장치 审中-公开
标题翻译：阻抗匹配装置
公开(公告)号：WO2011105678A1
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：PCT/KR2010/008269
申请日：2010-11-23
申请人： 주식회사 플라즈마트 , 김재현 , 이상원 , 이용관
发明人： 김재현 , 이상원 , 이용관
IPC分类号： H05H1/46 , H03H7/40
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32091 , H01J37/32183 , H03H7/40 , H05H2001/4682
摘要： 본 발명은 임피던스 정합 장치를 개시한다. 이 임피던스 정합 장치는 플라즈마 부하에 임피던스 정합시킨다. 이 임피던스 정합 장치는 제1 주파수로 동작하는 제1 주파수 RF 전원부의 출력을 상기 플라즈마 부하에 전달하는 제1 주파수 임피던스 정합 회로부, 및 제1 주파수보다 큰 제2 주파수로 동작하는 제2 주파수 RF 전원부의 출력을 플라즈마 부하에 전달하는 제2 주파수 임피던스 정합 회로부를 포함한다. 제1 주파수 임피던스 정합 회로부는 T 형 정합회로를 포함하고, 제2 주파수 임피던스 정합회로부는 표준 L형 정합회로 또는 Π형 정합회로를 포함한다.
摘要翻译：阻抗匹配装置技术领域本发明涉及阻抗匹配装置。阻抗匹配装置将阻抗与等离子体负载相匹配。阻抗匹配装置包括：第一频率阻抗匹配电路单元，其将以第一频率工作的第一频率RF电源单元的输出传送到等离子体负载; 以及第二频率阻抗匹配电路单元，其将以比第一频率高的第二频率工作的第二频率RF电源单元的输出传送到等离子体负载。第一频率阻抗匹配电路单元包括T型匹配电路，第二频率阻抗匹配电路单元包括标准L型匹配电路或π型匹配电路。

9. 发明申请

WO2010140870A3 반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2010140870A3
公开(公告)日：2010-12-09
申请号：PCT/KR2010/003615
申请日：2010-06-04
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 이준경 , 장유진 , 한동우 , 김정식 , 이정열 , 이재우 , 김덕배 , 김재현
发明人： 이준경 , 장유진 , 한동우 , 김정식 , 이정열 , 이재우 , 김덕배 , 김재현
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 노광 마스크 없이 단순 노광에 의하여 2차 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있는 이중 노광 패터닝 공정을 이용한, 반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법이 개시된다. 상기 반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법은, 피식각층이 형성된 반도체 기판 상에 제1 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 제1 포토레지스트 패턴을 110 내지 220℃로 가열(하드닝 베이크)하여 층간 거울막을 형성하는 단계; 상기 결과물 상에 제2 포토레지스트막을 형성하는 단계; 및 상기 제2 포토레지스트막에 노광 마스크 없이 제2 포토레지스트막의 문턱에너지(Threshold Energy; E th )보다 낮은 값의 에너지를 갖는 광(저에너지 광)으로 노광 및 현상 공정을 수행하여, 상기 제1 포토레지스트 패턴 사이에 층간 거울막의 난반사에 의한 제2 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.

10. 发明申请

WO2010077098A2 프로판디올 제조용 촉매의 제조 방법 및 그를 이용한 프로판디올의 제조 방법 审中-公开
标题翻译：制备丙二醇的催化剂的制备方法以及生产丙二醇的方法
公开(公告)号：WO2010077098A2
公开(公告)日：2010-07-08
申请号：PCT/KR2009/007973
申请日：2009-12-30
申请人： 지에스칼텍스 주식회사 , 서울대학교 산학협력단 , 정광섭 , 김재현 , 조정희 , 정상철 , 전영선 , 장준호 , 이종협 , 오석일 , 김남동
发明人： 정광섭 , 김재현 , 조정희 , 정상철 , 전영선 , 장준호 , 이종협 , 오석일 , 김남동
IPC分类号： B01J23/26 , B01J23/72 , B01J23/755 , C07C31/20
CPC分类号： B01J23/86 , B01J23/868 , B01J35/002 , B01J37/031 , C07C29/60 , C07C31/205
摘要： 프로판디올 제조용 촉매의 제조 방법 및 그를 이용한 프로판디올의 제조 방법이 개시된다. 프로판디올 제조용 촉매의 제조 방법은 글리세롤로부터 프로판디올을 생산하는 단일 반응 과정에 첨가되는 촉매의 제조 방법으로서, 적어도 일종의 금속 전구체 화합물을 용매에 용해시켜 금속 전구체 용액을 준비하는 단계; 상기 금속 전구체 용액의 pH를 조절하여 침전물을 형성하는 단계; 상기 침전물을 숙성시키는 단계; 상기 숙성된 침전물을 여과하고 건조하는 단계; 및 상기 건조된 침전물을 하소하는 단계를 포함한다.
摘要翻译：公开了生产丙二醇的方法和使用该方法生产丙二醇的方法。一种生产被加入到催化剂用于生产由甘油丙二醇丙二醇的制造方法的一个单一的反应步骤中的催化剂的方法，该方法包括：通过在溶剂中溶解一种金属前体化合物的制备至少一个金属前体溶液; 调节金属前体溶液的pH以形成沉淀物; 老化沉淀物; 过滤和老化老化的沉淀物; 并煅烧干燥的沉淀。

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