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热词
    • 1. 发明公开
    • 습식세정장치의 냉각구조
    • 冷站冷凝结构
    • KR1020090040783A
    • 2009-04-27
    • KR1020070106288
    • 2007-10-22
    • 주식회사 케이씨
    • 이태우이동성
    • H01L21/304
    • A cooling structure of a wet station is provided to prevent the deterioration of a partition by spraying the cooling water to a side of the partition supplied from a cooling water supply unit. A wet station includes a processing reservoir(200), a partition(100), and a cooling water supply unit(300). The process reservoir is a container receiving the processing solution and is formed with a size receiving the substrate to be cleaned. The partition partitions the interval of each processing reservoir and is arranged in an independent space. The cooling water supply unit is installed in the upper end of the partition and has a plurality of spray holes(310) for slantingly spraying the cooling water from the spot separated from the side of the partition to the partition. The cooling water supplied from the cooling water supply unit is sprayed to the partition through each spray hole. The cooling water sprayed to the partition flows down the partition and cools down the partition.
    • 提供湿站的冷却结构,以通过将冷却水喷射到从冷却水供应单元供应的隔板的一侧来防止隔板的劣化。 湿站包括处理容器(200),隔板(100)和冷却水供应单元(300)。 处理容器是容纳处理溶液的容器,并且形成有容纳待清洗基板的尺寸。 分区分隔每个处理容器的间隔,并排列在独立空间中。 冷却水供应单元安装在隔板的上端,并且具有多个喷洒孔(310),用于将冷却水从分隔开的一侧分隔开的位置倾斜地喷洒到隔板上。 从冷却水供给单元供给的冷却水通过各喷射孔喷射到隔壁。 喷洒在隔板上的冷却水沿着隔板向下流动并冷却隔板。
    • 2. 发明授权
    • 반도체 웨이퍼 재생장치
    • 半导体晶圆返修装置
    • KR100876918B1
    • 2009-01-09
    • KR1020070035914
    • 2007-04-12
    • 주식회사 케이씨
    • 박종수윤철남김세호이동성
    • H01L21/68H01L21/02
    • 본 발명은 반도체 웨이퍼 재생장치에 관한 것으로, 재생할 웨이퍼를 로딩하는 로딩수단과, 그 로딩수단에 의해 로딩된 웨이퍼를 이송하며, 그 이송되는 웨이퍼를 재생처리하는 처리수단과, 상기 처리부에서 처리된 웨이퍼를 언로딩하는 언로딩수단을 포함하는 반도체 웨이퍼 재생장치에 있어서, 상기 로딩수단은 재생할 웨이퍼를 상기 처리수단으로 로딩하되, 그 웨이퍼의 크기를 검출하는 센서를 더 포함하고, 상기 처리수단은 상기 로딩된 웨이퍼를 이송함과 아울러 상기 로딩수단의 센서에서 검출된 상기 웨이퍼의 크기 범위 내에서 미디어 분사노즐을 수평왕복 이동시켜 웨이퍼를 재생하도록 구성된다. 이와 같은 구성의 본 발명은 웨이퍼의 크기를 감지하여 그 웨이퍼의 크기에 따라 노즐의 이동폭을 조절함으로써, 웨이퍼 이외의 영역에 재생 미디어가 분사되는 것을 최소화하여 메쉬망 컨베이어의 수명 단축을 방지함과 아울러 미디어의 낭비를 방지할 수 있는 효과가 있다.
    • 3. 发明公开
    • 기판세정용 분사노즐
    • 用于洗涤衬底的喷嘴喷嘴和喷射清洁溶液的方法
    • KR1020070045674A
    • 2007-05-02
    • KR1020050102226
    • 2005-10-28
    • 주식회사 케이씨
    • 김석주이동성
    • H01L21/304
    • 본 발명은 기판세정용 분사노즐 및 세정액 분사방법에 관한 것으로, 세정액이 분사되는 슬릿이 형성되어 세정액을 분사하는 노즐부와, 상기 슬릿의 양단에서 기판의 너비에 따라 소정각도로 설치되어 기판으로 분사되는 세정액을 가이드하는 가이드부를 포함하는 기판세정용 분사노즐 및 세정액 분사방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 간편한 구성에 의해 세정액이 기판의 전체 너비에 분사되므로 기판 표면에 고르게 세정가능하고 분사시 세정액의 너비 감소를 감안하여 복잡한 설계값을 적용하지 않아도 되므로 제작편의성이 향상되며 기판의 너비에 적정한 크기로 제작되므로 경제적이라는 효과가 있다.
      세정액, 분사노즐, 노즐부, 가이드부, 슬릿
    • 5. 发明公开
    • 슬릿코터의 예비토출장치
    • 初步调配装置
    • KR1020090056136A
    • 2009-06-03
    • KR1020070123163
    • 2007-11-30
    • 주식회사 케이씨
    • 김종길장범권이동성
    • B05C11/10B05C21/00
    • B05C11/028B05C21/00
    • A preliminary dispensing apparatus of a slit coater is provided to lower manufacturing costs by performing preliminary dispensing of a nozzle successively and repetitively and to facilitate maintenance and administration of the apparatus itself. A preliminary dispensing apparatus of a slit coater includes a supporting plate(100) providing contact surface which is movable to a straight line in a state being connected with the discharge edge of the slit nozzle(10); a spray nozzle spraying cleansing solution to the upper surface of the supporting plate; a wiper(300) which wipes off washing solution while moved in a state being connected the upper surface of the supporting plate; and a reservoir(400) installed at the lower part by including a space part storing cleansing solution flowing from the upper side of the supporting plate and is installed at the lower side of the supporting plate.
    • 提供了一种狭缝式涂布机的初步分配装置,通过连续地重复地喷射喷嘴并且便于维护和管理装置本身来降低制造成本。 狭缝涂布机的初步分配装置包括:支撑板(100),其在与狭缝喷嘴(10)的排出边缘连接的状态下提供可移动到直线的接触表面; 喷雾喷嘴将清洁溶液喷射到支撑板的上表面; 擦拭器(300),其在与支撑板的上表面连接的状态下移动时擦拭洗涤溶液; 以及通过包括存储从支撑板的上侧流动的清洁溶液的空间部分而安装在下部的储存器(400),并且安装在支撑板的下侧。
    • 7. 发明授权
    • 박판형 인쇄회로기판의 이송장치
    • 用于传输薄印刷电路板的装置
    • KR100881333B1
    • 2009-02-02
    • KR1020070088473
    • 2007-08-31
    • 주식회사 케이씨
    • 김세호임석택이동성
    • H05K13/02
    • H05K13/0061H05K13/0417
    • A transfer apparatus of a thin printed circuit board is provided to prevent damage of a pattern layer for electric circuit by preventing a contact between a substrate edge part and the pattern layer for electric circuit in a substrate transfer process. A transfer apparatus of a thin printed circuit board(100) includes a transfer unit(200). The transfer unit clamps an edge part(120) of the printed circuit board and transfers a printed circuit board. A pattern layer(110) for electric circuit is not formed in the edge part. The transfer unit prevents the sag of the printed circuit board by applying the tension to the printed circuit board. The transfer unit is a transfer roller(210). The transfer roller is installed at both sides of the printed circuit board. The transferring roller pressurizes an upper side and a lower side of the printed circuit board. A helix pattern of helix is formed in the transferring roller. The helix pattern is directed in left and right sides of the printed circuit board. Accordingly, the tension is applied to the left and right directions of the printed circuit board.
    • 提供薄印刷电路板的传送装置,以防止在基板转印处理中通过防止基板边缘部分和电路图案层之间的接触来损坏电路图案层。 薄印刷电路板(100)的传送装置包括传送单元(200)。 传送单元夹持印刷电路板的边缘部分(120)并传送印刷电路板。 在边缘部分中不形成用于电路的图案层(110)。 转印单元通过向印刷电路板施加张力来防止印刷电路板的下垂。 转印单元是转印辊(210)。 转印辊安装在印刷电路板的两侧。 转印辊对印刷电路板的上侧和下侧加压。 在转印辊中形成螺旋形螺旋图案。 螺旋图案指向印刷电路板的左侧和右侧。 因此,张力被施加到印刷电路板的左右方向。
    • 9. 发明授权
    • 반도체 웨이퍼 재생장치
    • 半导体滤波器的装置
    • KR100852884B1
    • 2008-08-19
    • KR1020070035919
    • 2007-04-12
    • 주식회사 케이씨
    • 박종수윤철남김세호이동성
    • H01L21/02
    • A rework device for semiconductor wafer is provided to prevent an outflow of particles to an outside by isolating a regeneration space of a wafer from the outside. A rework chamber provides a rework space isolated from external air. A turntable unit(300) includes a plurality of wafer fixing parts(310) formed at an upper periphery part thereof. The turntable unit performs a rotating operation and a stopping operation to supply a wafer(100) as a rework target to the inside of the rework chamber and to draw the reworked wafer from the rework chamber. An injection nozzle is positioned in the inside of the rework chamber to inject a media onto the wafer supplied from the turntable unit.
    • 提供一种用于半导体晶片的返修装置,以通过从外部隔离晶片的再生空间来防止颗粒流出到外部。 返修室提供与外部空气隔离的返修空间。 转盘单元(300)包括形成在其上周边部分的多个晶片固定部(310)。 转盘单元执行旋转操作和停止操作,以将作为返工目标的晶片(100)提供到返工室的内部,并且从返工室抽出返工晶片。 注射喷嘴位于返修室的内部,以将介质注入从转盘单元供应的晶片上。
    • 10. 发明授权
    • 세정기의 봉 히터 장치 및 그 봉 히터의 돌출 방지 방법
    • 洗涤器的棒加热器装置和防止棒加热器突出的方法
    • KR100616243B1
    • 2006-08-28
    • KR1020050064616
    • 2005-07-18
    • 주식회사 케이씨곽성재
    • 정석기곽성재이동성
    • B08B3/10B08B3/08
    • 본 발명은 세정기의 봉 히터 장치 및 그 봉 히터의 돌출 방지 방법에 관한 것으로, 전원의 인가에 따라 열을 발생시키는 봉 히터와, 봉 히터의 노출을 방지하는 튜브를 포함하는 세정기의 봉 히터 장치에 있어서, 상기 봉 히터와 튜브의 사이에는 적어도 하나 또는 둘 이상의 공기유출구가 마련되도록 구성된다. 이와 같이 구성된 본 발명은 봉 히터와 튜브의 사이에 공기유출구를 마련하여, 그 봉 히터와 튜브 사이에 습기가 잔존하고, 그 습기가 기화되어 압력이 증가하는 경우에도 그 기화된 공기 압력을 해소할 수 있어, 봉 히터의 돌출을 방지함으로써, 봉 히터의 돌출에 따르는 열전달 효율 저하를 방지하는 효과가 있다.
    • 本发明是棒加热器和洗衣机包括用于防止所述杆加热器,其涉及棒加热器和防止清洗机的杆加热器方法的挤出曝光的管的杆加热器装置中,通过功率的施加产生热 棒加热器和管之间至少有一个或两个或多个出气口。 构建作为本发明如上所述是通过提供棒加热器和所述管之间的空气出口,水分保持杆加热器和管之间,并且水分被蒸发,即使解决了蒸发的空气压力时的压力增加 因此防止了棒状加热器的突起,由此防止了由于棒状加热器的突出而引起的热传递效率的降低。