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1. 发明专利

KR102228536B1 KR102228536B1 - Stripper composition for removing photoresist and stripping method of photoresist using the same 有权
公开(公告)号：KR102228536B1
公开(公告)日：2021-03-15
申请号：KR1020170030564A
申请日：2017-03-10
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 박태문 , 정대철 , 이동훈 , 이우람 , 박만주 , 송현우
IPC分类号： G03F7/42 , C11D3/00 , C11D3/30 , C11D3/32 , C11D3/43 , C11D11/00
CPC分类号： G03F7/42 , C11D11/0047 , C11D3/0073 , C11D3/30 , C11D3/32 , C11D3/43
摘要： 본 발명은, 물이 포함된 수계 박리액으로서 유기계 박리액과 동등 수준 이상의 우수한 보관 안정성, 박리력 및 린스력을 나타낼 수 있고, 생식 독성 및 금속 부식성을 최소화할 수 있는 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다.

2. 发明申请

WO2014137173A1 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 사용한 포토레지스트의 박리방법 审中-公开
标题翻译：光电离子剥离器组合物及其使用方法剥离光刻胶
公开(公告)号：WO2014137173A1
公开(公告)日：2014-09-12
申请号：PCT/KR2014/001850
申请日：2014-03-06
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 정대철 , 이동훈 , 이우람 , 박태문
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/425
摘要： 본 발명은 생식 독성을 나타내는 N-메틸포름아미드 또는 N,N'-디메틸카복스아미드 등을 포함하지 않으면서도, 우수한 박리력 및 린스력을 나타낼 수 있고, 경시적 물성 저하를 최소화할 수 있는 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다. 상기 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물은 1종 이상의 아민 화합물; N, N'-디에틸카복스아미드; 및 알킬렌글리콜 또는 알킬렌글리콜 모노알킬에테르의 양자성 유기 용매를 포함한다.
摘要翻译：本发明涉及不含N-甲基甲酰胺，N，N'-二甲基甲酰胺等的光致抗蚀剂去除汽提剂组合物，显示出生殖毒性，但能够显示优异的汽提能力和漂洗能力，并能够最小化物理性质随时间变化; 以及使用该组合物剥离光致抗蚀剂的方法。光致抗蚀剂去除汽提器组合物包含：一种或多种类型的胺化合物; N，N'-二乙基甲酰胺; 和亚烷基二醇单烷基醚或亚烷基二醇的质子有机溶剂。

3. 发明申请

WO2022065842A1 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2022065842A1
公开(公告)日：2022-03-31
申请号：PCT/KR2021/012859
申请日：2021-09-17
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 박태문 , 이동훈 , 송현우 , 이우람
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은 포토레지스트에 대한 우수한 박리력을 가지면서 박리과정에서 하부 금속막에 대한 부식을 억제하고, 산화물을 효과적으로 제거할 수 있는 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다.

4. 发明申请

WO2016028057A1 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법 审中-公开
标题翻译：用于去除光刻胶的剥离组合物和剥离使用它的胶束的方法。
公开(公告)号：WO2016028057A1
公开(公告)日：2016-02-25
申请号：PCT/KR2015/008608
申请日：2015-08-18
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 박태문 , 정대철 , 이동훈 , 이우람 , 이현준 , 김주영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/42 , C11D3/0073 , C11D3/2068 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D3/32 , C11D3/373 , C11D3/43 , C11D11/0047 , G03F7/11 , G03F7/325 , G03F7/40 , G03F7/425 , G03F7/426 , H01L21/0206 , H01L21/0274 , H01L21/0276
摘要： 본 발명은， 중량평균 분자량 95 g/mol이상의 사슬형 아민 화합물; 중 량평균 분자량 90 g/mol 이하의 사슬형 아민 화합물; 고리형 아민 화합물; 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기가 질소에 1내지 2치환된 아 마이드계 화합물; 및 극성 유기 용매를 포함하고， 상기 중량평균 분자량 95 g/mol이상의 사슬형 아민 화합물 및 중량평균 분자량 90 g/mol 이하의 사슬 형 아민 화합물 간의 중량비가 1 : 1 내지 1 : 10인, 포토레지스트 제거용 스트 리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物及使用其的剥离光致抗蚀剂的方法，该汽提组合物包含：重均分子量为95g / mol以上的链胺化合物; 重均分子量为90g / mol以下的链胺化合物; 环胺化合物; 其中具有1至5个碳原子的直链或支链烷基被氮单价或二取代的酰胺类化合物; 和极性有机溶剂，其中重均分子量为95g / mol以上的链胺化合物与重均分子量为90g / mol以下的链胺化合物的重量比为1:1 至1:10。

5. 发明申请

WO2020197014A1 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2020197014A1
公开(公告)日：2020-10-01
申请号：PCT/KR2019/013124
申请日：2019-10-07
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 박태문 , 이동훈 , 송현우 , 이우람
IPC分类号： G03F7/42 , C11D11/00 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D3/32 , C11D3/43
摘要： 본 발명은 포토레지스트에 대한 우수한 박리력을 가지면서 박리과정에서 하부 금속막에 대한 부식을 억제하고, 산화물을 효과적으로 제거할 수 있는 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다.

6. 发明申请

WO2016043451A1 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법 审中-公开
标题翻译：用于去除光刻胶的剥离组合物和使用它们剥离光刻胶的方法
公开(公告)号：WO2016043451A1
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：PCT/KR2015/009142
申请日：2015-08-31
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 박태문 , 정대철 , 이동훈 , 이우람 , 이현준 , 김주영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은, 1종 이상의 아민 화합물; 비양자성 극성 유기 용매 및 물 로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 용매; 양자성 극성 유기 용매; 및 20°C에서 25 mPa - s 내지 250 mPa - s의 동역학점도 (dynamic viscosity)를 가지며， 폴리에테르계 작용기가 도입된 폴리디메틸실록산 반복 단위를 20몰% 내지 70몰% 포함한 폴리에테르 변성 폴리디메틸실록산;을 포함하는， 포토레 지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和通过使用该光致抗蚀剂剥离光致抗蚀剂的方法，所述组合物包含：一种或多种胺化合物; 选自非质子极性有机溶剂和水的一种或多种溶剂; 质子极性有机溶剂; 和在20℃下的动态粘度为25〜250mPa·s的聚醚改性的聚二甲基硅氧烷，并且包含20-70mol％的引入聚醚的官能团的聚二甲基硅氧烷重复单元。

7. 发明申请

WO2014181992A1 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 사용한 포토레지스트의 박리방법 审中-公开
标题翻译：用于去除光刻胶的剥离组合物和使用其剥离光刻胶的方法
公开(公告)号：WO2014181992A1
公开(公告)日：2014-11-13
申请号：PCT/KR2014/003732
申请日：2014-04-28
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이우람 , 정대철 , 이동훈 , 박태문
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/306
CPC分类号： G03F7/425
摘要： 본 발명은 포토레지스트에 대한 우수한 제거 및 박리 성능을 나타내면서도, 구리 등을 함유한 하부막 상의 얼룩 또는 이물의 발생 또는 잔류를 효과적으로 억제할 수 있는 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법에 관한 것이다. 상기 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물은 1종 이상의 아민 화합물; 극성 유기 용매; 알킬렌글리콜계 용매; 및 부식 방지제를 포함하는 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其的剥离光致抗蚀剂的方法，其中用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物在除去和剥离光致抗蚀剂中表现出优异的性能，并且可以有效地抑制含铜的下部膜上的污渍喜欢从被生成或保留。用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物包含：至少一种胺化合物; 极性有机溶剂; 亚烷基二醇类溶剂; 和腐蚀抑制剂。

8. 发明申请

WO2016159707A1 증류 장치 审中-公开
标题翻译：蒸馏装置
公开(公告)号：WO2016159707A1
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：PCT/KR2016/003387
申请日：2016-04-01
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 이시내 , 이성규 , 이상범 , 이성호 , 김정석 , 신준호 , 정대철 , 장용희 , 박태문 , 이현직
IPC分类号： H01L21/02 , B01D3/32
CPC分类号： B01D3/141 , B01D3/32 , B01D5/0063 , G03F7/425 , H01L21/02 , H01L27/1288
摘要： 본 출원의 증류 장치에 의하면, 포토레지스트의 박리 공정에서 사용된 폐스트리퍼 및 박리된 포토레지스트 수지를 포함하는 원료의 정제 과정에서 발생하는 에너지 손실을 최소화 할 수 있으며, 2기의 증류탑을 사용하여 정제하는 경우보다 증류 장치의 설치 비용을 줄일 수 있으므로, 공정의 경제성을 향상시킬 수 있다.
摘要翻译：根据本申请的蒸馏装置可以将包括用于光致抗蚀剂剥离过程中的废弃汽提器的原料和剥离的光致抗蚀剂树脂的原料净化过程的能量损耗最小化，并且可以降低蒸馏装置的安装成本，与当使用两个蒸馏塔进行纯化时，从而提高了该方法的经济效率。

9. 发明申请

WO2016080627A1 포토레지스트 박리 장치 및 이를 이용한 포토레지스트 박리 방법 审中-公开
标题翻译：光电子剥离装置和使用相同的光电子剥离方法
公开(公告)号：WO2016080627A1
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：PCT/KR2015/007200
申请日：2015-07-10
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 박태문 , 정대철 , 이동훈 , 이우람 , 이현준 , 김주영
IPC分类号： G03F7/34
CPC分类号： G03F7/34
摘要： 본 발명은， 포토레지스트 제거용 스트리퍼 저장 탱크, 표면에 포토레지스트가 형성된 기판을 이동시키는 기판 이동구， 상기 기판 이동구로 포토레지스트 제거용 스트리퍼를 분사하는 스트리퍼 분사구 및 상기 저장 탱크에서 상기 스트리퍼 분사구로 포토레지스트 제거용 스트리퍼를 이송하는 스트리퍼 전달구를 포함하는 박리부; 상기 박리부의 상부에 위치하고， 상기 박리부에서 증발된 물질을 냉각하는 냉각장치; 및 상기 냉각 장치에서 냉각된 물질을 포토레지스트 제거용 스트리퍼 저장 탱크 또는 박리부로 이송하는 반송구；를 포함하는 포토레지스트 박리 장치 및 이를 이용한 포토레지스트 박리방법에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及光致抗蚀剂剥离装置和使用其的光致抗蚀剂剥离方法，光致抗蚀剂剥离装置包括：剥离部分，其包括用于除去光致抗蚀剂的剥离器储存罐;基板移动装置，其用形成在表面上的光刻胶移动基板一种汽提器注入装置，其向衬底移动装置中注入用于除去光致抗蚀剂的汽提器;以及汽提器传送装置，其将用于将光致抗蚀剂从储罐移除到汽提器喷射装置的汽提器; 冷却装置，其冷却在汽提部分中蒸发的材料; 以及转移装置，其将由冷却装置冷却的材料转移到用于除去光致抗蚀剂或剥离部分的剥离器储存罐。

10. 发明申请

WO2016027986A1 포토레지스트용 스트리퍼 폐액의 재생 방법 审中-公开
标题翻译：用于剥离污水的废水再生方法
公开(公告)号：WO2016027986A1
公开(公告)日：2016-02-25
申请号：PCT/KR2015/007199
申请日：2015-07-10
申请人： 주식회사 엘지화학
发明人： 박태문 , 정대철 , 이동훈 , 이우람 , 이현준 , 김주영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은， 1종 이상의 아민 화합물 40 중량 % 내지 75 중량 %， 알킬렌글리콜 화합물 20 중량 % 내지 55 중량 % 및 첨가제 1 중량 % 내지 10 중량 %를 포함한 재생 용액을 포토레지스트용 스트리퍼 폐액의 정제액과 접촉시키는 단계;를 포함하는， 포토레지스트용 스트리퍼 폐액의 재생 방법에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于剥离光致抗蚀剂废水的再生方法，该方法包括一种用于将用于光致抗蚀剂的汽提废水的净化流体与包含40-75重量％的一种或多种胺化合物的再生溶液接触的步骤，20-55重量％的亚烷基二醇化合物和1-10重量％的添加剂。

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