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1. 发明申请

WO2012157922A3 유체 디스펜스 시스템의 유량 및 이상동작 검출 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2012157922A3
公开(公告)日：2012-11-22
申请号：PCT/KR2012/003758
申请日：2012-05-14
申请人： 주식회사 에이앤디코퍼레이션 , 김재달 , 김병섭 , 김용환
发明人： 김재달 , 김병섭 , 김용환
IPC分类号： G01F1/00 , G05D7/06 , G01F1/56 , G08B21/00
摘要： 본 발명은 반도체 제조공정이나 디스플레이 장치 산업 등에 사용되는 유체 디스펜스 시스템이 정상적으로 구동될 때 발생되는 배관의 고유 진동수를 근거로 비정상적으로 동작되는 이상 상태와 배관을 통해 공급되는 유량을 검출하도록 한 것이다. 이를 위해 티칭모드에서, 배관을 절단하지 않고 배관의 외부에 설치되어 유량을 감지하는 비접촉식 유량 변화 감지기의 출력신호를 근거로 정규화된 기준파형 범위를 설정해 두고, 운용모드에서는 상기 기준파형 범위를 근거로 디스펜싱되는 유체의 유량 및 각종 이상동작 상태를 종합적으로 분석하여 감지하도록 하였다.

2. 发明申请

WO2011052866A1 비절단식 유량 변화 감지기 및 이를 포함하는 디스펜싱 시스템 审中-公开
标题翻译：非侵入式流量计，包括其中的分配系统
公开(公告)号：WO2011052866A1
公开(公告)日：2011-05-05
申请号：PCT/KR2010/002618
申请日：2010-04-27
申请人： 주식회사 에이앤디코퍼레이션 , 김재달 , 김형석
发明人： 김재달 , 김형석
IPC分类号： G01F1/72 , G01F1/66
CPC分类号： G01F1/666 , G01H3/00
摘要： 본 발명에 따른 유량 변화 감지기는 배관의 외부에 부착되어 유체와는 비접촉하는 간접 센싱 방식에 의해 종래 기술의 단점인 유체와 직접 접촉할 때 발생하는 센서의 부식, 유체로의 오염 및 센서를 설치하기 위한 배관의 절단 또는 배관의 단부에 센서를 설치해야 하는 번거로운 점을 해결한다. 또한 유체가 흐르는 경로 상의 여러 부품인 펌프, 밸브 또는 필터의 이상 유무와 배관의 누수 등을 감지할 수도 있다. 본 발명에 의한 비절단식 유량 변화 감지기는 배관의 외부에 위치하며, 상기 배관 내부의 유체의 흐름에 따른 진동을 감지하여 전기 신호로 변환하는 감지 센서(110); 및 상기 전기 신호를 증폭시키는 증폭부(120)를 구비하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：根据本发明，流量计附接到管的外部，以在不接触流体的情况下进行间接感测，从而解决了与流体直接接触产生的现有技术的问题，例如传感器腐蚀，流体污染，以及必须切割管道以安装传感器或必须在管道的端部安装传感器的不便。流量计还可以沿着诸如泵，阀和过滤器的流体流动路径以及来自管道的泄漏等感测各种部件中的异常。根据本发明的非侵入性流量计包括：检测传感器（110），设置在管外部，用于检测由管内流体流动引起的振动，并将检测到的振动转换为电信号; 以及用于放大电信号的放大器（120）。

3. 发明申请

WO2012033284A2 연속공정이 가능한 챔버 시스템 审中-公开
标题翻译：腔室系统能够连续处理
公开(公告)号：WO2012033284A2
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：PCT/KR2011/005700
申请日：2011-08-03
申请人： 주식회사 에이앤디코퍼레이션 , 김재달 , 이강열
发明人： 김재달 , 이강열
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02101 , H01L21/67028
摘要： 본 발명은 연속공정이 가능한 챔버 시스템에 관한 것으로, 본 발명은 챔버와, 상기 챔버에 초순수와 세정약액을 선택적으로 공급하는 초순수공급부 및 세정약액 공급부와, 상기 챔버의 초순수와 세정약액을 배출하는 제1배출부와, 상기 챔버의 상부측에 초임계상태 가스를 공급하는 초임계공급부와, 상기 챔버의 상부측에 이소프로필알코올을 선택적으로 공급하는 IPA공급부와, 상기 초임계상태 가스를 배출하는 제2배출부를 포함한다. 이와 같은 구성의 본 발명은 하나의 챔버에서 습식세정, 초임계 세정 및 건조공정을 연속으로 처리할 수 있게 됨에 따라 보다 고집적 반도체의 효과적인 세정이 가능하며, 습식과 초임계 세정과정에서 웨이퍼를 이동시킬 필요가 없기 때문에 공정불량의 발생을 방지할 수 있는 효과가 있다.
摘要翻译：
本发明涉及到可能的腔室系统的连续方法，本发明提供了一种腔和纯水供给单元和所述清洗药液供应部及在腔室选择性地供给纯水和清洁药液的腔室超临界供应单元，用于向腔室的上侧供应超临界状态气体; IPA供应单元，用于向腔室的上侧选择性地供应异丙醇; 和用于排出超临界状态气体的第二排出部分。具有这种结构的本发明使湿法清洗，超临界清洗和干燥过程能够在一个腔室中连续进行，由此能够高效地清洁高度集成的半导体，这样可以防止工艺缺陷的发生。

4. 发明授权

KR101091443B1 기판 처리장치 및 방법 失效
标题翻译：基板处理装置及其方法
公开(公告)号：KR101091443B1
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：KR1020090033422
申请日：2009-04-17
申请人： 김재달
发明人： 김재달
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/205
摘要： 본 발명은 기판 처리장치 및 방법에 관한 것으로, 본 발명 기판 처리장치는, 원판형 본체에 마련되어 외부로부터 유체를 공급받는 유체공급관로와, 상기 유체공급관로에 마련되어 공급된 상기 유체를 로딩된 기판의 배면에 분사하여 상기 기판을 부상 및 회전시키는 다수의 노즐과, 상기 기판의 상면에 유체를 공급하는 유체공급관을 포함한다. 또한 본 발명 기판 처리방법은, 기판의 배면에 유체를 경사지게 분사하여 기판을 부상 및 회전시키고, 상기 부상 및 회전하는 기판의 상부에 상기 유체와 동종의 유체를 분사하여 기판의 배면과 상면을 동시에 처리한다. 이와 같은 본 발명은, 기판을 유체의 공급에 의해 부상 및 회전시키며, 기판을 모터에 의해 고속으로 회전시키지 않고도 기판을 처리시킬 수 있어, 구조를 단순화하고 고장발생요인을 제거하여 안정된 수율을 얻을 수 있는 효과가 있다.
기판, 처리, 부상

5. 发明授权

KR101391739B1 사파이어 기판의 표면 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：形成蓝宝石衬底表面图案的方法
公开(公告)号：KR101391739B1
公开(公告)日：2014-05-12
申请号：KR1020120110539
申请日：2012-10-05
申请人： 주식회사 에이앤디코퍼레이션
发明人： 이태복 , 배진한 , 김재달
IPC分类号： H01L33/20 , H01L33/22
摘要： 본 발명은, 사파이어 기판의 일부분 상에 상기 사파이어 기판의 식각 마스크 패턴을 복수개 형성하는 단계; 상기 식각 마스크 패턴을 식각하여 상기 식각 마스크 패턴의 크기를 축소하는 단계; 상기 축소된 식각 마스크 패턴을 이용하여 상기 사파이어 기판을 습식 식각함으로써 복수개의 표면 패턴을 형성하되, 상기 표면 패턴의 돌출한 구조물의 측면부는 제1 각도로 하향 경사진 제1 경사면부를 가지고, 상기 구조물 각각의 하단부 사이에는 하단 평면부가 형성되는 단계; 상기 축소된 식각 마스크 패턴을 제거하여 상기 구조물의 평탄한 상면부를 노출시키는 단계; 및 상기 노출된 평탄한 상면부를 습식 식각하여 상기 제1 경사면부 상에 제2 각도로 하향 경사진 제2 경사면부를 형성함으로써 최종적인 표면 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明包括形成多个在蓝宝石衬底的蚀刻掩模图案的，在蓝宝石基板的一部分的工序; 通过蚀刻蚀刻掩模图案来减小蚀刻掩模图案的尺寸; 但是，通过使用减少的蚀刻掩模图案通过湿法蚀刻，以形成多个的表面图案的蓝宝石衬底，在表面图案突出的结构的侧面具有第一角部向下倾斜第一斜面，每个结构下平面部分形成在下平面部分的下端部之间; 去除减少的蚀刻掩模图案以暴露结构的平坦上表面部分; 并且其特征在于包括：形成由第一倾斜表面部分向下游部分的湿蚀刻的平坦部分的暴露的上表面通过倾斜第二斜率的第二角度形成的最终表面图案的步骤。

6. 发明授权

KR101369305B1 고압처리기 장입용 장치 有权
标题翻译：高压处理装置装载装置
公开(公告)号：KR101369305B1
公开(公告)日：2014-03-06
申请号：KR1020110116320
申请日：2011-11-09
申请人： 주식회사 에이앤디코퍼레이션
发明人： 김재달 , 김재용 , 김치열
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/306 , H01L21/677
摘要： 본 발명은 고압처리기 장입용 장치에 관한 것으로, 다수의 웨이퍼의 일측 반원부의 서로 이격된 두 위치를 각각 지지하는 상하 배치된 다수의 지지돌출부가 마련된 한 쌍의 제1지지부와, 상기 다수의 웨이퍼의 타측 반원부의 서로 이격된 두 위치를 각각 지지하는 상하 배치된 다수의 지지돌출부가 마련된 한 쌍의 제2지지부와, 상기 제1지지부와 제2지지부의 상부와 하부에 각각 접하도록 위치하며, 각각 상하 관통된 통공이 마련된 상판과 하판을 포함하여, 상기 상판, 상기 제1지지부, 상기 제2지지부 및 상기 하판이 결합된 상태에서 고압처리기 내부로 공급된다. 본 발명은 다수의 웨이퍼가 장입된 상태의 카세트를 고압처리기에 로딩하여 고압처리를 수행하고, 처리가 완료된 웨이퍼들이 장입된 카세트를 고압처리기로부터 인출하도록 구성되어, 다수의 웨이퍼를 로딩 및 언로딩하는 시간을 단축함으로써, 생산성을 보다 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

7. 发明公开

KR1020120128176A 유체 디스펜스 시스템의 유량 및 이상동작 검출 방법 无效
标题翻译：检测流体分配系统流量和异常驱动的方法
公开(公告)号：KR1020120128176A
公开(公告)日：2012-11-27
申请号：KR1020110045829
申请日：2011-05-16
申请人： 주식회사 에이앤디코퍼레이션
发明人： 김재달 , 김병섭 , 김용환
IPC分类号： G01F1/00 , G05D7/06 , G01F1/34
CPC分类号： G01F1/66 , G01F1/666 , G01F25/0092
摘要： PURPOSE: A flow rate and abnormal operation detecting method of a fluid dispense system is provided to comprehensively analyze a flow rate and various kinds of abnormal operation states of a fluid being dispensed and to inform an analysis result to a system controlling unit or user, thereby enhancing a product quality. CONSTITUTION: A flow rate and abnormal operation detecting method of a fluid dispense system is as follows. When recording teaching wave data by monitoring output signals of a flow variation sensor installed in a fluid flowing a pipe as a non-contact type in a teaching mode(S401,S402,S405), the teaching wave data being input until reaching to a preset synchronous signal section is negated. When a recording section of the teaching wave data reaches the preset synchronous signal section, the teaching wave data is recorded until an accumulated sampling value is reached a preset value and this step; recording operation of sampling learning data is repeated until reaching to a preset number of occurrence(S407). Collected sampling values are statistically analyzed by recording the teaching wave data and a reliable range is modeled so that a reference waveform range is set(S409). Detection signals of the flow rate variation sensor are detected and the detection result is compared and analyzed with the reference waveform range. A flow rate discontinuously supplied through a pipe is detected or the abnormality existence of a flow rate path is determined based on the comparative analysis result so that an alarm is generated(S411). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) No(operation mode); (CC,EE,II,JJ,HH) Yes; (DD,FF,KK,GG) No; (LL) End; (S401) Teaching mode?; (S402) Real time basis monitoring; (S403) Trigger ON?; (S404) Recording data=0; (S405) Teaching wave data recording; (S406) ICV=limitaion value?; (S407) Repeat count=N times; (S408) Searching a maximum and minimum value; (S409) Setting reference wave form range; (S410) Alerting generation condition?; (S411) Alerting generation
摘要翻译：目的：提供一种流量分配系统的流量和异常运行检测方法，以全面分析被分配流体的流量和各种异常运行状态，并将分析结果通知给系统控制单元或用户，从而提高产品质量。构成：流量分配系统的流量和异常运行检测方法如下。当通过监视安装在以示教模式流动作为非接触型的管道的流体的流量变化传感器的输出信号记录教学波数据时（S401，S402，S405），输入教学波数据直到达到预设值同步信号部分被否定。当教学波数据的记录部分到达预设的同步信号部分时，记录教学波数据直到累积的采样值达到预设值并且该步骤; 重复采样学习数据的记录操作，直到达到预定的发生次数（S407）。通过记录教学波数据对收集的采样值进行统计分析，建立可靠的范围以设定参考波形范围（S409）。检测流量变化传感器的检测信号，并用参考波形范围比较和分析检测结果。检测通过管不连续供给的流量，或者基于比较分析结果确定流量路径的异常存在，从而产生报警（S411）。（附图标记）（AA）开始; （BB）否（运行模式）; （CC，EE，II，JJ，HH）是; （DD，FF，KK，GG）否; （LL）结束; （S401）教学模式？（S402）实时监控; （S403）触发ON？（S404）记录数据= 0; （S405）教学波数据录制; （S406）ICV =限制值（S407）重复计数= N次; （S408）搜索最大值和最小值; （S409）设定基准波形范围; （S410）警报发生条件？（S411）警报发生

8. 实用新型

KR2019860006830U 다용도 다출력 자동 타이머 无效
标题翻译：多功能多输出自动定时器
公开(公告)号：KR2019860006830U
公开(公告)日：1986-06-25
申请号：KR2019840011419
申请日：1984-11-13
申请人： 김재달 , 허준두
发明人： 김재달 , 허준두
IPC分类号： H03K17/28

9. 发明公开

KR1020140046551A 사파이어 기판의 표면 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：形成SAPPHIRE底物表面形态的方法
公开(公告)号：KR1020140046551A
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：KR1020120110539
申请日：2012-10-05
申请人： 주식회사 에이앤디코퍼레이션
发明人： 이태복 , 배진한 , 김재달
IPC分类号： H01L33/20 , H01L33/22
CPC分类号： H01L21/32139 , G03F1/80 , H01L21/0273 , H01L33/22
摘要： The method according to the present invention comprises: forming a plurality of etch mask patterns for a sapphire substrate on a portion of the sapphire substrate; etching the etch mask pattern to reduce the size thereof; wet-etching the sapphire substrate by using the etch mask pattern with the reduced size to form a plurality of surface patterns, wherein a side portion of a structure protruding on the surface pattern has a first inclined surface portion which is inclined downwardly at a first angle and a lower planar portion is formed between bottom portions of structures; removing the etch mask pattern with the reduced size to expose a planar upper surface of the structure; and wet-etching the exposed planar upper surface to form a second inclined surface portion which is inclined downwardly at a second angle on the first inclined surface portion, such that a final surface pattern is formed.
摘要翻译：根据本发明的方法包括：在蓝宝石衬底的一部分上形成用于蓝宝石衬底的多个蚀刻掩模图案; 蚀刻蚀刻掩模图案以减小其尺寸; 通过使用具有减小的尺寸的蚀刻掩模图案来湿法蚀刻蓝宝石衬底以形成多个表面图案，其中在表面图案上突出的结构的侧部具有第一倾斜表面部分，该第一倾斜表面部分以第一角度向下倾斜并且在结构的底部之间形成下平面部分; 去除具有减小的尺寸的蚀刻掩模图案以暴露结构的平面上表面; 湿式蚀刻暴露的平面上表面，形成在第一倾斜表面部分以第二角向下倾斜的第二倾斜表面部分，从而形成最终的表面图案。

10. 发明授权

KR101203383B1 비절단식 유량 변화 감지기 및 이를 포함하는 디스펜싱 시스템 有权
标题翻译：非切割型流量检测器和分配系统包括它
公开(公告)号：KR101203383B1
公开(公告)日：2012-11-23
申请号：KR1020100106718
申请日：2010-10-29
申请人： 주식회사 에이앤디코퍼레이션
发明人： 김재달 , 김형석
IPC分类号： G01F1/72 , G01F1/66
摘要： 본 발명에 따른 유량 변화 감지기는 배관의 외부에 부착되어 유체와는 비접촉하는 간접 센싱 방식에 의해 종래 기술의 단점인 유체와 직접 접촉할 때 발생하는 센서의 부식, 유체로의 오염 및 센서를 설치하기 위한 배관의 절단 또는 배관의 단부에 센서를 설치해야 하는 번거로운 점을 해결한다. 또한 유체가 흐르는 경로 상의 여러 부품인 펌프, 밸브 또는 필터의 이상 유무와 배관의 누수 등을 감지할 수도 있다.
본 발명에 의한 비절단식 유량 변화 감지기는 배관의 외부에 위치하며, 상기 배관 내부의 유체의 흐름에 따른 진동을 감지하여 전기 신호로 변환하는 감지 센서(110); 및 상기 전기 신호를 증폭시키는 증폭부(120)를 구비하는 것을 특징으로 한다.

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