在用于半导体器件的形成，EUV（极紫外线; EUV）光刻工艺用的光sikidoe通波长，长波长光比极紫外辐射是光敏聚合物阻塞，图像包含相同 公开了使用抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物和方法。 光敏聚合物由权利要求1的式1表示。

使用加热或暴露于光并通过加热光致抗蚀剂图案表面后形成的光致抗蚀剂图案以形成图案的保护膜含有双重图案化技术在图案形成方法中，交联材料固化 Lt。 该光致抗蚀剂组合物包含3至30重量％的光敏聚合物; 基于100重量份的光敏聚合物，0.5至75重量份的由权利要求1的通式（1）和/或（2）表示的交联固化剂; 基于100重量份的光敏聚合物，0.05至15重量份的光酸产生剂; 和剩下的溶剂。

基于加热而无需添加剂聚合物固化所述自交联反应的苯酚是自引发抗蚀剂下层膜组合物，其包含聚合物和交联的。 酚类交联聚合物选自由式（1）表示的聚合物，由式（2）表示的聚合物和由式（3）表示的聚合物组成的组。

涉及一种压载水处理装置和方法，其目的在于，或为了管理船舶压载水的数量，以防止海洋生态系统的破坏或干扰从压载箱引入到压载舱 取决于目标可以排出压载水镇流器提供一种装置和方法，用于精确地控制生产杀真菌剂，数量的流动速率加入，通过电解去除。 用于实现该目的的本发明包括用于生产具有受控浓度的次氯酸钠的电解模块（4） 一种用于分离氢气的气液分离器（5） 一种微泡发生器（18），其通过用微量级使饱和水饱和而除去残余氯，同时混合还原剂; 用于产生涡流的涡流导流器19; 盐量计8，流量计9和残留氯仪10，一个供水泵（2），流量控制阀3，电解模块（4），残留氯计16，所述微泡发生器（ 18和用于控制供给泵15的控制系统12以及使用该控制系统的处理方法。