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1. 发明申请

WO2013089403A1 포토레지스트 조성물 审中-公开
标题翻译：光电组合物
公开(公告)号：WO2013089403A1
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：PCT/KR2012/010724
申请日：2012-12-11
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 여태훈 , 이상훈 , 김진선 , 윤주표 , 김동명 , 김진우 , 박경진 , 이선희 , 황치용
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/075 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0271 , G03F7/038 , G03F7/0755
摘要： 본 발명은 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판의 실리콘 질화막(SiNx) 상에 하프톤을 형성하는 공정을 포함하는 기판의 미세패턴형성용 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 포토레지스트 조성물은 상온 안정성이 뛰어나며, 변색이 적어 투과도가 우수하며, 실리콘 질화막과의 접착력이 우수하여 HMDS 공정을 생략하여도 미세화된 패턴의 현상공정시 유실이 발생하거나, 후공정시 패턴의 무너짐이 발생할 우려가 없다.
摘要翻译：本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更具体地说，涉及用于形成用于基材的精细图案的光致抗蚀剂组合物，其包括在基板的氮化硅（SiNx）层上形成半色调的工艺。本发明的光致抗蚀剂组合物在室温下具有优异的稳定性，对于良好的透过性几乎没有变色，并且具有良好的氮化硅层的粘附性，使得即使省略HMDS工艺，也不可能将层冲洗掉在精细图案的形成过程中或在随后的工艺中图案劣化的过程中。

2. 发明申请

WO2013100537A1 에이엠오엘이디용 폴리이미드계 포지티브 감광성 수지 조성물 审中-公开
标题翻译：基于聚酰胺的阳离子感光树脂组合物
公开(公告)号：WO2013100537A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/KR2012/011427
申请日：2012-12-26
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 여태훈 , 이상훈 , 김진선 , 윤주표 , 김동명 , 김진우 , 박경진 , 이선희 , 황치용 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/037 , G03F7/11 , H01L51/50
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/039 , H01L51/0018
摘要： 본 발명은 AMOLED(active-matrix organic light-emitting diode)용 폴리이미드계 포지티브 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 경질 곁사슬(rigid side chain)을 갖는 단량체를 사용함으로써 가스방출(outgassing)을 제어할 수 있을 뿐 아니라 내열성을 유지하면서도 패킹밀도(packing density)를 낮추어 경사각(taper angle)을 30-35°로 유지시킬 수 있는 폴리이미드계 포지티브 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于有源矩阵有机发光二极管（AMOLED）的聚酰亚胺系正性感光性树脂组合物，更具体地，涉及使用具有刚性侧链的单体的聚酰亚胺系正性感光性树脂组合物，从而能够控制除气，并且通过降低包装密度同时保持耐热性而将锥角保持在30-35度。

3. 发明授权

KR102025099B1 포토레지스트 조성물 有权
公开(公告)号：KR102025099B1
公开(公告)日：2019-09-25
申请号：KR1020120142518
申请日：2012-12-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 여태훈 , 이상훈 , 김진선 , 윤주표 , 김동명 , 김진우 , 박경진 , 이선희 , 황치용
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/032 , G03F7/26

4. 发明公开

KR1020130079181A 에이엠오엘이디용 폴리이미드계 포지티브 감광성 수지 조성물 审中-实审
标题翻译：基于聚酰胺的阳离子感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020130079181A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：KR1020120149509
申请日：2012-12-20
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김동명 , 김병욱 , 윤혁민 , 김진우 , 황치용 , 여태훈 , 윤주표 , 김진선 , 이상훈 , 박경진 , 이선희
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/11 , H01L51/50
CPC分类号： C08G73/10 , H01L2227/323
摘要： PURPOSE: A polyimide-based positive photosensitive resin composition is provided to maintain a taper angle in 30-35 degree and to lower a packing density as maintaining a heat resistance and controlling an outgassing. CONSTITUTION: A polyimide-based positive photosensitive resin composition for active-matrix organic light-emitting diode (AMOLED) comprises polyimide precursor, hydroxystyrene polymer, photoactive compound and solvent. The polyimide precursor comprises a monomer of a chemical formula 1 or 2 below. Fromt the chemical formula, R1 is C1-18 alkyl and R2 is C1-10 alkyl group or alkoxy group. The hydroxystyrene polymer has the polystyrene conversion weight-average molecule weight (Mw) of 4000-20000. The inclination angle of the insulating ayer is 30-35 degree.
摘要翻译：目的：提供一种基于聚酰亚胺的正性感光性树脂组合物，以使锥角保持在30〜35度，降低包装密度，保持耐热性并控制除气。构成：用于有源矩阵有机发光二极管（AMOLED）的基于聚酰亚胺的正性感光性树脂组合物包含聚酰亚胺前体，羟基苯乙烯聚合物，光活性化合物和溶剂。聚酰亚胺前体包含下面化学式1或2的单体。根据化学式，R 1是C 1-18烷基，R 2是C 1-10烷基或烷氧基。羟基苯乙烯聚合物的聚苯乙烯换算重均分子量（Mw）为4000-20000。绝缘子的倾角为30-35度。

5. 发明授权

KR102034074B1 에이엠오엘이디용 폴리이미드계 포지티브 감광성 수지 조성물 有权
公开(公告)号：KR102034074B1
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：KR1020120149509
申请日：2012-12-20
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김동명 , 김병욱 , 윤혁민 , 김진우 , 황치용 , 여태훈 , 윤주표 , 김진선 , 이상훈 , 박경진 , 이선희
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/11 , H01L51/50

6. 发明公开

KR1020130067226A 포토레지스트 조성물 审中-实审
标题翻译：光电组合物
公开(公告)号：KR1020130067226A
公开(公告)日：2013-06-21
申请号：KR1020120142518
申请日：2012-12-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 여태훈 , 이상훈 , 김진선 , 윤주표 , 김동명 , 김진우 , 박경진 , 이선희 , 황치용
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/032 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/0047 , G03F7/032 , G03F7/075 , G03F7/26
摘要： PURPOSE: A photoresist composition is provided to improve stability at room temperature, permeability, and adhesion to a silicon nitride film by including an acryl-based copolymer, an isocyanate group containing silane coupling agent, and a photosensitizer. CONSTITUTION: A photoresist composition includes 10-30 weight% of an acryl-based copolymer of an average molecular weight within 4000-9000, 0.1-2 weight% of a silane coupling agent containing an isocyanate group on the end, 1-15 weight% of a photosensitizer, and the remaining amount of a solvent. The acryl-based copolymer is prepared by polymerizing 15-30 parts by weight of unsaturated carboxylic acid or an anhydride of the same, 15-30 parts by weight of an epoxy group containing an unsaturated compound, and 40-70 parts by weight of an olefin-based unsaturated compound. The composition is used to form micropatterns on a substrate. A method of forming micropatterns includes a process for forming halftone on the silicon nitride film of the substrate.
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂组合物以通过包括丙烯酸类共聚物，含异氰酸酯基的硅烷偶联剂和光敏剂来提高室温下的稳定性，渗透性和与氮化硅膜的粘合性。构成：光致抗蚀剂组合物包括10-30重量％的平均分子量在4000-9000之间的丙烯酸类共聚物，0.1-2重量％的末端含有异氰酸酯基团的硅烷偶联剂，1-15重量％的光敏剂和剩余量的溶剂。丙烯酸类共聚物通过使15-30重量份的不饱和羧酸或其酸酐，15-30重量份的含有不饱和化合物的环氧基和40-70重量份的烯烃类不饱和化合物。该组合物用于在基底上形成微图案。形成微图案的方法包括在基板的氮化硅膜上形成半色调的工艺。

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