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1. 发明授权

KR101796331B1 감방사선성 수지 조성물 有权
标题翻译：敏感的辐射敏感树脂组合物
公开(公告)号：KR101796331B1
公开(公告)日：2017-11-09
申请号：KR1020127019858
申请日：2011-01-25
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 마츠다,야스히코 , 가와카미,다카노리 , 가사하라,가즈키 , 마루야마,겐
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/10 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要： 본발명은 [A] 하기식 (1)로나타내는화합물및 [B] 베이스수지가되는중합체를함유하는감방사선성수지조성물이다. 하기식 중 R은탄소수 3 내지 20의 1가의지환식탄화수소기인것이바람직하다. 하기식 중 M는술포늄양이온또는요오도늄양이온인것이바람직하다. [B] 중합체는하기식 (5)로나타내는구조단위또는식 (6)으로나타내는구조단위와, 하기식 (7)로나타내는구조단위를포함하는알칼리불용성또는알칼리난용성의중합체인것이바람직하다.
摘要翻译：本发明是一种含有聚合物和化合物[B]由下面的基树脂为代表的放射线敏感性树脂组合物[A]（1）。它是式R euntan价脂环式烃基的，为3〜20的数量少是优选的。在该式中，M优选为锍阳离子或碘鎓阳离子。 [B]所述的聚合物优选为下述式（5）和由结构单元表示的结构单元，或者通过在碱不溶性或碱不溶性聚合物的性下述式（7），其包括结构单元表示的通式（6）表示的基团。

2. 发明公开

KR1020120123377A 감방사선성 수지 조성물 有权
标题翻译：辐射敏感树脂组合物
公开(公告)号：KR1020120123377A
公开(公告)日：2012-11-08
申请号：KR1020127019858
申请日：2011-01-25
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 마츠다,야스히코 , 가와카미,다카노리 , 가사하라,가즈키 , 마루야마,겐
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/10 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08F220/10 , G03F7/0392 , H01L21/0271
摘要： 본 발명은 [A] 하기 식 (1)로 나타내는 화합물 및 [B] 베이스 수지가 되는 중합체를 함유하는 감방사선성 수지 조성물이다. 하기 식 중 R
1 은 탄소수 3 내지 20의 1가의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하다. 하기 식 중 M
+ 는 술포늄 양이온 또는 요오도늄 양이온인 것이 바람직하다. [B] 중합체는 하기 식 (5)로 나타내는 구조 단위 또는 식 (6)으로 나타내는 구조 단위와, 하기 식 (7)로 나타내는 구조 단위를 포함하는 알칼리 불용성 또는 알칼리 난용성의 중합체인 것이 바람직하다.

3. 发明授权

KR102063522B1 액침 노광용 감방사선성 수지 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 有权
公开(公告)号：KR102063522B1
公开(公告)日：2020-01-09
申请号：KR1020147026764
申请日：2013-03-21
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 미네기시,신야 , 가사하라,가즈키 , 호리,마사후미 , 요시다,마사후미 , 사토,미츠오 , 이케다,노리히코
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027

4. 发明公开

KR1020120027153A 감방사선성 수지 조성물 및 화합물 有权
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物和化合物
公开(公告)号：KR1020120027153A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：KR1020117024507
申请日：2010-05-14
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 마루야마,겐 , 니시노,고타 , 가사하라,가즈키 , 사카키바라,히로카즈
IPC分类号： C08F220/10 , C08F212/06 , G03F7/004 , C07C65/10
CPC分类号： C07C65/10 , C08F8/12 , C08F12/22 , C08F212/14 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/122 , Y10S430/126 , C08F212/06 , C08F220/10 , G03F7/0047 , C08F2220/1891 , C08F220/18
摘要： 본 발명은 (A) 산 해리성기 함유 수지와, (C) 화학식 1로 표시되는 화합물을 함유하는 감방사선성 수지 조성물이다.

(화학식 1 중, Z
- 는 화학식 2로 표시되는 1가의 음이온을 나타내고, M
+ 는 1가의 오늄 양이온을 나타냄)

(화학식 2 중, R
1 은 불소 원자로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄상 또는 분지상의 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상 또는 분지상의 알콕시기를 나타내고, n은 1 또는 2를 나타냄)
摘要翻译：辐射敏感性树脂组合物包含含酸解离基团的树脂和由以下通式（1）表示的化合物。其中Z-表示由通式（2）表示的一价阴离子，M +表示一价鎓阳离子，R1表示碳原子数1〜12的直链或支链烷基，被氟原子取代或未取代，或者直链或支链具有1至12个碳原子的烷氧基，n为1或2。

5. 发明授权

KR101701523B1 감방사선성 수지 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂图案形成方法
公开(公告)号：KR101701523B1
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：KR1020117005739
申请日：2009-09-10
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 니시무라,유키오 , 마츠다,야스히코 , 나카가와,히로키 , 후지사와,도모히사 , 하마,유카리 , 가사하라,가즈키
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041
摘要： 본발명의목적은, 얻어지는패턴형상이양호하고, 감도, 해상도, LWR, 현상결함, 패턴붕괴내성등의레지스트기본성능이우수하고, 액침노광시에워터마크결함및 버블결함을억제할수 있는충분한레지스트막표면의발수성을발현하는감방사선성수지조성물및 그것을사용한레지스트패턴형성방법을제공하는것이다. 본발명의수지조성물은, 산의작용에의해알칼리가용성이되는반복단위를포함하며, 불소원자를함유하는반복단위를포함하지않는수지 (A)와, 감방사선성산 발생제 (B)와, 산의작용에의해알칼리가용성이되는반복단위및 불소원자를함유하는반복단위를포함하는불소함유수지 (C)와, 락톤화합물 (D)를함유하고, 락톤화합물 (D)의함유량이수지 (A)를 100 질량부로한 경우 31 내지 200 질량부이다.
摘要翻译：辐射敏感性树脂组合物包括（A）包含由酸形成碱溶性但不包含含氟重复单元的重复单元的树脂，（B）光酸产生剂，（C）氟含有由于酸而成为碱溶性的重复单元和含氟重复单元的树脂，（D）内酯化合物，所述组合物中的内酯化合物（D）的含量为31〜200 相对于树脂（A）100质量份，为质量份。抗蚀剂图案形成方法利用辐射敏感性树脂组合物。辐射敏感性树脂组合物产生优异的图案形状，显示出优异的基础抗蚀剂性能（例如，灵敏度，分辨率，LWR，显影缺陷电阻和图案抗塌陷性），并且产生具有足够防水表面的抗蚀剂膜，其抑制液浸光刻过程中的水印缺陷和气泡缺陷。

6. 发明公开

KR1020120083285A 감방사선성 수지 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 중합체 및 중합성 화합물 有权
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，形成耐蚀图案的方法，聚合物和聚合物
公开(公告)号：KR1020120083285A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：KR1020127004184
申请日：2010-09-17
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 아사노,유스케 , 사토,미츠오 , 나카시마,히로미츠 , 가사하라,가즈키 , 오이즈미,요시후미 , 호리,마사후미 , 가와카미,다카노리 , 마츠다,야스히코 , 나카하라,가즈오
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , C08F20/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32 , C08F20/26 , G03F7/0045 , H01L21/0271
摘要： 본 발명은 산해리성기를 갖는 중합체 (A)와, 방사선 조사에 의해 산을 발생하는 산 발생제 (B)와, 하기 화학식 (x)로 표시되는 관능기 및 불소 원자를 갖는 중합체 (C)를 함유하고, 상기 중합체 (C)는 상기 중합체 (A)보다 불소 원자 함유량이 높은 중합체인 감방사선성 수지 조성물을 제공한다.

[화학식 (x) 중, R
1 은 알칼리 해리성기를 나타내고, A는 산소 원자(단, 방향환, 카르보닐기 및 술폭실기에 직결하는 것을 제외함), 이미노기, -CO-O-* 또는 -SO
2 -O-*("*"은 R
1 에 결합하는 결합손을 나타냄)를 나타냄]

7. 发明公开

KR1020110057154A 감방사선성 수지 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物和耐蚀图案形成方法
公开(公告)号：KR1020110057154A
公开(公告)日：2011-05-31
申请号：KR1020117005739
申请日：2009-09-10
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 니시무라,유키오 , 마츠다,야스히코 , 나카가와,히로키 , 후지사와,도모히사 , 하마,유카리 , 가사하라,가즈키
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , G03F7/004 , G03F7/0045 , H01L21/027 , H01L21/0271
摘要： 본 발명의 목적은, 얻어지는 패턴 형상이 양호하고, 감도, 해상도, LWR, 현상 결함, 패턴 붕괴 내성 등의 레지스트 기본 성능이 우수하고, 액침 노광시에 워터마크 결함 및 버블 결함을 억제할 수 있는 충분한 레지스트막 표면의 발수성을 발현하는 감방사선성 수지 조성물 및 그것을 사용한 레지스트 패턴 형성 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 수지 조성물은, 산의 작용에 의해 알칼리 가용성이 되는 반복 단위를 포함하며, 불소 원자를 함유하는 반복 단위를 포함하지 않는 수지 (A)와, 감방사선성 산 발생제 (B)와, 산의 작용에 의해 알칼리 가용성이 되는 반복 단위 및 불소 원자를 함유하는 반복 단위를 포함하는 불소 함유 수지 (C)와, 락톤 화합물 (D)를 함유하고, 락톤 화합물 (D)의 함유량이 수지 (A)를 100 질량부로 한 경우 31 내지 200 질량부이다.
摘要翻译：辐射敏感性树脂组合物包括（A）包含由酸形成碱溶性但不包含含氟重复单元的重复单元的树脂，（B）光酸产生剂，（C）氟含有由于酸而成为碱溶性的重复单元和含氟重复单元的树脂，（D）内酯化合物，所述组合物中的内酯化合物（D）的含量为31〜200 相对于树脂（A）100质量份，为质量份。抗蚀剂图案形成方法利用辐射敏感性树脂组合物。辐射敏感性树脂组合物产生优异的图案形状，显示出优异的基础抗蚀剂性能（例如，灵敏度，分辨率，LWR，显影缺陷电阻和图案抗塌陷性），并且产生具有足够防水表面的抗蚀剂膜，其抑制液浸光刻过程中的水印缺陷和气泡缺陷。

8. 发明公开

KR1020170098173A 감방사선성 조성물 및 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：辐射敏感组合物和图案形成方法
公开(公告)号：KR1020170098173A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：KR1020170020292
申请日：2017-02-15
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 가사하라,가즈키
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0043 , B32B5/16 , G03F7/0045 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/2037 , G03F7/322 , G03F7/38
摘要： 해상도가우수한패턴을고감도로형성할수 있는감방사선성조성물및 패턴형성방법의제공을목적으로한다. 본발명의감방사선성조성물은, 금속산화물을주성분으로하는입자와, 감방사선성산 발생체와, 유기용매를함유하고, 상기금속산화물을구성하는금속원자가, 아연, 붕소, 알루미늄, 갈륨, 탈륨, 게르마늄, 안티몬, 비스무트, 텔루륨또는이들의조합인제1 금속원자를포함하고, 상기감방사선성산 발생체로부터발생하는산의반데르발스부피가 2.0×10㎥이상이고, 또한조성물중의전체금속원자에대한상기제1 금속원자의함유율이 50원자% 이상이다. 본발명의패턴형성방법은, 기판에상술한당해감방사선성조성물을도공함으로서막을형성하는공정과, 상기막을노광하는공정과, 상기노광된막을현상하는공정을구비한다.
摘要翻译：并且提供能够以高分辨率和高灵敏度形成图案的辐射敏感组合物和图案形成方法。本发明的放射线敏感性组合物，主要由金属氧化物构成的粒子，辐射城山发生体和含有有机溶剂，并构成金属氧化物，锌，硼，铝，镓，铊的金属原子，和锗，锑，铋，碲，或该酸的范德华体积包括从所述放射线产生城山2.0×至少10㎥的重新开始的第一金属原子，并产生体的组合，还以在组合物中的所有金属原子第一金属原子的含量为50原子％以上。图案形成在本发明的方法，通过涂布上述到基底上的辐射敏感组合物技术中，并暴露在成膜的膜的工序，和显影所述曝光的膜的步骤。

9. 发明授权

KR101733251B1 감방사선성 수지 조성물 有权
公开(公告)号：KR101733251B1
公开(公告)日：2017-05-08
申请号：KR1020117005620
申请日：2009-09-10
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 에바타,다쿠마 , 나카가와,히로키 , 마츠다,야스히코 , 가사하라,가즈키 , 호시코,겐지 , 나카시마,히로미츠 , 이케다,노리히코 , 사카이,가오리 , 하라다,사키
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/10 , C08L33/04 , G03F7/027
CPC分类号： C08F20/28 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： 본발명은중합체 (A), 감방사선성산 발생제 (B), 산확산억제제 (C) 및용제 (D)를함유하고, 상기중합체 (A)가하기화학식 (a-1)로표시되는반복단위 (a-1)을가지는중합체이며, 상기산 확산억제제 (C)가하기화학식 (C-1)로표시되는염기 (C-1) 및광 분해성염기 (C-2) 중의 1종이상의염기를함유하는감방사선성수지조성물에관한것이다.[화학식 (a-1) 중에서 R은서로독립적으로수소원자등을나타내고, R은화학식 (a')으로표시되는 1가의기이고, R는탄소수 1 내지 5의쇄상탄화수소기등을나타내고, A는탄소수가 1 내지 30인 2가의쇄상탄화수소기등을나타내고, m 및 n은 0 내지 3의정수(단, m+n=1 내지 3)를나타내고, 화학식 (C-1) 중에서 R, R은서로독립적으로탄소수가 1 내지 20인 1가의쇄상탄화수소기등을나타내며, 2개의 R가결합하여환 구조를형성할수 있음]

10. 发明公开

KR1020160004200A 레지스트 하층막 형성용 폴리실록산 조성물 및 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：用于形成下层膜的多晶硅组合物和图案形成方法
公开(公告)号：KR1020160004200A
公开(公告)日：2016-01-12
申请号：KR1020150092020
申请日：2015-06-29
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 세코,도모아키 , 가사하라,가즈키 , 세리자와,류이치 , 데이,사토시
IPC分类号： G03F7/09 , C09D183/04 , C08L83/04
摘要： [과제] 다층레지스트프로세스에있어서, 레지스트하층막에있어서의결함의발생을억제할수 있는레지스트하층막형성용폴리실록산조성물및 이레지스트하층막형성용폴리실록산조성물을사용하는패턴형성방법의제공을목적으로한다. [해결수단] 본발명은, 폴리실록산및 산발생제를함유하는레지스트하층막형성용폴리실록산조성물이며, 상기산 발생제가오늄양이온및 산음이온을포함하고, 상기오늄양이온이지환구조, 지방족복소환구조, 쇄상치환기를갖는방향환구조또는이들의조합을포함하는것을특징으로한다. 상기오늄양이온이지환구조, 지방족복소환구조또는이들의조합을포함하면좋다. 상기산 음이온을구성하는원자의원자량의합으로서는 350 이하가바람직하다.
摘要翻译：本发明涉及用于形成抗蚀剂下层膜的聚硅氧烷组合物，其能够防止在多层抗蚀剂工艺中的抗蚀剂下层膜的缺陷。本发明还涉及使用聚硅氧烷组合物形成抗蚀剂下层膜的图案形成方法。本发明的聚硅氧烷组合物包含聚硅氧烷和酸产生剂，其中酸产生剂包括鎓阳离子和酸性阴离子，鎓阳离子包括取代的结构，脂族杂环结构，具有链取代基的芳环结构，或结构的组合。鎓阳离子有利于包含取代的结构，脂族杂环结构或结构的组合，并且构成酸性阴离子的原子的总原子量希望小于或等于350。

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