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    • 8. 发明公开
    • 원격 고주파 유도결합 플라즈마를 이용하여 저온에서 성장된 고품질 육방 질화 붕소막과 그 제조방법
    • 使用远程高频电感耦合等离子体在低温下生长的高品质六硼化硼薄膜及其制造方法
    • KR1020170038499A
    • 2017-04-07
    • KR1020150137941
    • 2015-09-30
    • 한국과학기술연구원
    • 김명종조현진서태훈안석훈김수민손동익
    • H01L21/02H01L21/324H01L21/205
    • 본원발명은원격고주파유도결합플라즈마가적용된화학적기상증착방법을이용하여금속촉매표면위에고품질육방질화붕소막 (h-BN, Hexagonal Boron Nitride, White Graphene) 을성장시키는공정기술에대한것으로, 보다구체적으로는금속촉매를가열하여금속촉매표면의그레인크기를증가시키는어닐링단계; 어닐링된 금속촉매를육방질화붕소막제조온도로급속냉각하는금속촉매냉각단계; 육방질화붕소막의전구체를공급하는전구체공급단계; 원격고주파유도결합플라즈마를적용하여금속촉매위에육방질화붕소막을형성하는육방질화붕소막제조단계; 및상기육방질화붕소막을상온으로급속냉각하는육방질화붕소막냉각단계를포함하는것을특징으로하는원격고주파유도결합플라즈마를이용한육방질화붕소막의제조방법에대한것이다. 본원발명은기존의 1,000℃이상의높은온도에서화학기상증착법을적용하여제조되던육방질화붕소막을기존에비하여매우낮은온도인 500 내지 600 ℃에서도고품질로제조할수 있는장점이있다.
    • 本发明作为用于远程感应耦合等离子体的工艺技术是使用化学气相沉积工艺,以在高品质的六方氮化硼膜(的h-BN,六方氮化硼,白石墨烯)生长的金属催化剂的表面,具体而言施加更 加热金属催化剂以增加金属催化剂表面的晶粒尺寸的退火步骤; 将退火后的金属催化剂骤冷至氮化硼硼膜形成温度的金属催化剂冷却工序; 提供硼六叠氮化物膜的前体的前体供应步骤; 通过应用远程高频电感耦合等离子体在金属催化剂上形成六氟化硼膜来制备硼六键氮化硼膜的步骤; 并且本发明涉及使用远程感应耦合等离子体包含六方晶系氮化硼薄膜冷却的六方氮化硼薄膜快速冷却至室温步骤六方氮化硼膜的制造方法。 本发明具有产生六方氮化硼可在温度高于1000℃现有相比于常规优质甚至从500至600℃很低的温度下释放通过应用化学气相沉积工艺制备的膜的优点。