专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2017026803A1 LCD 제조용 포토레지스트 박리액 조성물 审中-公开
标题翻译：用于LCD制造的光电剥离解决方案组合物
公开(公告)号：WO2017026803A1
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：PCT/KR2016/008810
申请日：2016-08-10
申请人： 엘티씨 (주)
发明人： 최호성 , 유광현 , 배종일 , 이종순 , 하상구 , 양혜성 , 한미연 , 이효진
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/311 , H01L21/02
CPC分类号： G03F7/42 , H01L21/02 , H01L21/311
摘要： 본 발명은 LCD 제조용 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것으로, TFT-LCD를 제조하기 위한 모든 공정에 사용할 수 있는 통합 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 전이 금속, 전위 금속 및 산화물 반도체 배선에 모두 적용 가능한 수계형 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것이다. 상기 수계형 포토레지스트 박리액 조성물은 (a) 전위 금속 및 금속 산화물 부식 방지제, (b) 전이 금속 부식 방지제, (c) 1차 알칸올 아민, (d) 환형 알코올, (e) 물, (f) 비 양자성 극성 유기 용제, (g) 양자성 극성 유기 용제를 포함하며, 하드 베이크(Hard Baked) 공정, 주입(Implant) 공정 및 건식 식각(Dry Etch) 공정의 진행 이후 발생하는 변형 포토레지스트에 대한 제거능력이 뛰어나며, 전위 금속인 알루미늄, 전이 금속인 구리 또는 은 및 금속 산화물 배선에 동시 적용할 수 있으며, 유기막 및 COA공정에 도입 가능하다.
摘要翻译：本发明涉及用于LCD制造的光致抗蚀剂剥离溶液组合物，以及能够用于制造TFT-LCD的所有工艺中的组合光致抗蚀剂剥离溶液组合物。更具体地，本发明涉及可应用于过渡金属，电位金属和氧化物半导体布线的全部的水性光致抗蚀剂剥离溶液组合物。水性光致抗蚀剂剥离溶液组合物包括：（a）潜在的金属和金属氧化物缓蚀剂; （b）过渡金属腐蚀抑制剂; （c）主链烷醇胺; （d）环状醇; （e）水; （f）非质子极性有机溶剂; 和（g）质子极性有机溶剂，其中光致抗蚀剂剥离溶液组合物具有优异的去除在硬烘烤工艺，植入工艺和干法蚀刻工艺已被实施之后被修饰的光致抗蚀剂的能力，同时加入铝（电位金属），铜或银（过渡金属）和金属氧化物布线，并可以引入有机膜和COA工艺。

2. 发明授权

KR101764577B1 LCD 제조용 포토레지스트 박리액 조성물 有权
标题翻译：用于LCD制造的光刻胶剥离剂组合物
公开(公告)号：KR101764577B1
公开(公告)日：2017-08-23
申请号：KR1020150114310
申请日：2015-08-13
申请人： 엘티씨 (주)
发明人： 최호성 , 유광현 , 배종일 , 이종순 , 하상구 , 양혜성 , 한미연 , 이효진
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/311 , H01L21/02
CPC分类号： G03F7/42 , H01L21/02 , H01L21/311
摘要： 본발명은 LCD 제조용포토레지스트박리액조성물에관한것으로, TFT-LCD를제조하기위한모든공정에사용할수 있는통합포토레지스트박리액조성물에관한것이다. 보다구체적으로, 전이금속, 전위금속및 산화물반도체배선에모두적용가능한수계형포토레지스트박리액조성물에관한것이다. 상기수계형포토레지스트박리액조성물은 (a) 전위금속및 금속산화물부식방지제, (b) 전이금속부식방지제, (c) 1차알칸올아민, (d) 환형알코올, (e) 물, (f) 비양자성극성유기용제, (g) 양자성극성유기용제를포함하며, 하드베이크(Hard Baked) 공정, 주입(Implant) 공정및 건식식각(Dry Etch) 공정의진행이후발생하는변형포토레지스트에대한제거능력이뛰어나며, 전위금속인알루미늄, 전이금속인구리또는은 및금속산화물배선에동시적용할수 있으며, 유기막및 COA공정에도입가능하다.
摘要翻译：本发明涉及用于LCD制造的光致抗蚀剂剥离剂组合物，以及可用于制造TFT-LCD的所有工艺中的集成光致抗蚀剂剥离剂组合物。更具体地说，本发明涉及适用于过渡金属，位错金属和氧化物半导体配线两者的水基光刻胶剥离液体组合物。（a）位错金属和金属氧化物腐蚀抑制剂，（b）过渡金属腐蚀抑制剂，（c）伯链烷醇胺，（d）环状醇，（G）质子性极性有机溶剂，其特征在于，其包含选自硬烘焙法，注入法和干法蚀刻法中的至少一种，可以同时施加到作为过渡金属的位错金属，铜或银和金属氧化物的铝上，并且可以被引入到有机膜和COA工艺中。

3. 发明公开

KR1020170019871A LCD 제조용 포토레지스트 박리액 조성물 有权
标题翻译：液晶显示工艺剥离液的液晶组合物
公开(公告)号：KR1020170019871A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：KR1020150114310
申请日：2015-08-13
申请人： 엘티씨 (주)
发明人： 최호성 , 유광현 , 배종일 , 이종순 , 하상구 , 양혜성 , 한미연 , 이효진
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/311 , H01L21/02
CPC分类号： G03F7/42 , H01L21/02 , H01L21/311
摘要： 본발명은 LCD 제조용포토레지스트박리액조성물에관한것으로, TFT-LCD를제조하기위한모든공정에사용할수 있는통합포토레지스트박리액조성물에관한것이다. 보다구체적으로, 전이금속, 전위금속및 산화물반도체배선에모두적용가능한수계형포토레지스트박리액조성물에관한것이다. 상기수계형포토레지스트박리액조성물은 (a) 전위금속및 금속산화물부식방지제, (b) 전이금속부식방지제, (c) 1차알칸올아민, (d) 환형알코올, (e) 물, (f) 비양자성극성유기용제, (g) 양자성극성유기용제를포함하며, 하드베이크(Hard Baked) 공정, 주입(Implant) 공정및 건식식각(Dry Etch) 공정의진행이후발생하는변형포토레지스트에대한제거능력이뛰어나며, 전위금속인알루미늄, 전이금속인구리또는은 및금속산화물배선에동시적용할수 있으며, 유기막및 COA공정에도입가능하다.
摘要翻译：本发明涉及用于LCD制造的光致抗蚀剂剥离溶液组合物，以及能够用于制造TFT-LCD的所有方法中的组合光致抗蚀剂剥离溶液组合物。更具体地，本发明涉及可应用于过渡金属，电位金属和氧化物半导体布线的全部的水性光致抗蚀剂剥离溶液组合物。水性光致抗蚀剂剥离溶液组合物包含：（a）潜在的金属和金属氧化物缓蚀剂; （b）过渡金属腐蚀抑制剂; （c）主要链烷醇胺; （d）环状醇; （e）水; （f）非质子极性有机溶剂; 和（g）质子极性有机溶剂，其中光致抗蚀剂剥离溶液组合物具有优异的去除在硬烘烤工艺，植入工艺和干法蚀刻工艺已被实施之后被修饰的光致抗蚀剂的能力，可以被应用同时加入铝（电位金属），铜或银（过渡金属）和金属氧化物布线，并可以引入有机膜和COA工艺。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式