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1. 发明申请

WO2022154226A1 이차 전지 제조 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2022154226A1
公开(公告)日：2022-07-21
申请号：PCT/KR2021/015829
申请日：2021-11-03
申请人： 엘지전자 주식회사
发明人： 채병수 , 이창헌
IPC分类号： H01M10/04
摘要： 본 실시예에 따른 이차 전지 제조 방법은, 다수의 단위 셀을 적층하여 단위 셀 유닛을 제조하는 셀 유닛 제조 공정; 및 상기 셀 유닛 제조 공정에서 제조된 다수의 단위 셀 유닛을 적층하여, 단위 셀 모듈을 제조하는 셀 모듈 제조 공정을 포함하고, 상기 셀 유닛 제조 공정과 상기 셀 모듈 제조 공정은 독립적으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

2. 发明申请

WO2012026741A2 오디오 신호 처리 방법 및 장치 审中-公开
标题翻译：用于处理音频信号的方法和设备
公开(公告)号：WO2012026741A2
公开(公告)日：2012-03-01
申请号：PCT/KR2011/006222
申请日：2011-08-23
申请人： 엘지전자 주식회사 , 이창헌 , 정규혁 , 김락용 , 전혜정 , 이병석 , 강인규
发明人： 이창헌 , 정규혁 , 김락용 , 전혜정 , 이병석 , 강인규
IPC分类号： G10L19/00 , G11B20/10
CPC分类号： G10L19/008 , G10L19/02 , G10L19/038 , G10L19/04 , G10L2019/0005
摘要： 본 발명은, 복수의 스펙트럴 계수들에 해당하는 입력 오디오 신호를 수신하는 단계; 상기 입력 신호의 에너지를 근거로 하여, 상기 스펙트럴 계수들 중에서 특정 스펙트럴 계수의 위치를 지시하는 위치 정보를 획득하는 단계; 상기 위치 정보 및 상기 스펙트럴 계수들을 이용하여 형태 벡터를 생성하는 단계; 상기 형태 벡터에 대응하는 코드북을 탐색함으로써, 코드북 인덱스를 결정하는 단계; 및, 상기 코드북 인덱스 및 상기 위치 정보를 전송하는 단계를 포함하고, 상기 형태 벡터는, 상기 스펙트럴 계수들로부터 선택된 부분을 이용하여 생성되고, 상기 선택된 부분은, 상기 위치 정보에 근거하여 선택된 것임을 특징으로 하는 오디오 신호 처리 방법을 개시한다.
摘要翻译：＆lt; p num =“0000”＆gt;本发明包括：接收对应于多个频谱系数的输入音频信号; 基于输入信号的能量获得指示频谱系数中的特定频谱系数的位置的位置信息; 使用位置信息和频谱系数生成形状矢量; 通过搜索与表单矢量对应的码本来确定码本索引; 并且基于位置信息来选择码本索引和位置信息，其中使用从频谱系数中选择的部分来生成形状矢量，并且选择的部分被选择。“

3. 发明申请

WO2011118977A2 오디오 신호 처리 방법 및 장치 审中-公开
标题翻译：用于处理音频信号的方法和设备
公开(公告)号：WO2011118977A2
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：PCT/KR2011/001989
申请日：2011-03-23
申请人： 엘지전자 주식회사 , 정규혁 , 김대환 , 이창헌 , 김락용 , 전혜정 , 이병석 , 강인규
发明人： 정규혁 , 김대환 , 이창헌 , 김락용 , 전혜정 , 이병석 , 강인규
IPC分类号： G10L19/12
CPC分类号： G10L19/04 , G10L19/06 , G10L19/22 , G10L19/24
摘要： 본 발명은 오디오 신호의 현재 프레임에 대해서 스펙트럼 분석을 수행함으로써, 상기 현재 프레임이 제1 대역 및 제2 대역을 복수의 대역들 중 어디에 해당하는지를 나타내는 대역폭 정보를 결정하는 단계; 상기 대역폭 정보를 근거로, 현재 프레임에 대응하는 차수 정보를 결정하는 단계; 상기 현재 프레임에 대해 선형-예측 분석을 수행함으로써, 제1 차수의 제1셋 선형-예측 변환 계수를 생성하는 단계; 상기 제1 셋 선형-예측 변환 계수를 벡터-양자화함으로써, 제1셋 인덱스를 생성하는 단계; 상기 현재 프레임에 대해 선형-예측 분석을 수행함으로써, 상기 차수 정보에 따라서, 제2 차수의 제2 셋 선형-예측 변환 계수를 생성하는 단계; 및, 상기 제2 셋 선형-예측 변환 계수가 생성된 경우, 상기 제1 셋 인덱스 및 상기 제2 셋 선형-예측 변환 계수를 이용하여 제2셋 차분에 대해 벡터-양자화를 수행하는 단계를 포함하는 오디오 신호 처리 방법을 개시한다.
摘要翻译：通过对音频信号的当前帧执行频谱分析，本发明确定指示当前帧是对应于第一频带还是第二频带的带宽信息步骤; 基于带宽信息确定与当前帧对应的度信息; 对当前帧执行线性预测分析以产生第一组第一组线性预测变换系数; 通过矢量量化第一组线性预测变换系数产生第一组索引; 通过对当前帧执行线性预测分析，根据顺序信息生成第二组第二组线性预测变换系数; 并且当产生第二组线性预测系数时，使用第一组索引和第二组线性预测变换系数对第二组差异执行矢量量化，一种音频信号处理方法被公开。

4. 发明申请

WO2011126340A2 오디오 신호 처리 방법 및 장치 审中-公开
标题翻译：用于处理音频信号的方法和装置
公开(公告)号：WO2011126340A2
公开(公告)日：2011-10-13
申请号：PCT/KR2011/002487
申请日：2011-04-08
申请人： 엘지전자 주식회사 , 정규혁 , 전혜정 , 이병석 , 이창헌
发明人： 정규혁 , 전혜정 , 이병석 , 이창헌
IPC分类号： G10L19/12
CPC分类号： G10L19/008 , G10L19/038 , G10L19/04 , G10L19/06 , G10L2019/0005
摘要： 본 발명은, 오디오 신호의 현재 프레임에 대해서 선형-예측 분석을 수행함으로써, 복수의 선형-예측 변환 계수들을 근거로 하여 제 1단계의 타깃 벡터인 제 1 타깃 벡터를 생성하는 단계; 상기 제 1 타깃 벡터를 벡터 양자화함으로써, 임시로 결정된 개수의 제 1 단계의 제 1 임시 후보 코드벡터들을 획득하는 단계; 상기 제 1 임시 후보 코드벡터들 및 상기 제 1 타깃 벡터간의 에러인 제 1 임시 후보 에러들을 산출하는 단계; 및, 상기 제 1 임시 후보 에러들을 근거로 하여 제 1 후보 코드벡터들의 개수인 제 1 개수를 결정하고, 상기 제 1 개수만큼의 제 1 최종 후보 코드벡터들을 획득하는 단계를 포함하는 오디오 신호 처리 방법을 개시한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于处理音频信号的方法，包括以下步骤：对音频信号的当前帧执行线性预测分析，以产生作为第一级的目标矢量的第一目标矢量，基于多个线性预测变换系数; 对所述第一目标矢量执行矢量量化，以获取所述第一级的预定数量的第一临时候选代码矢量; 计算第一临时候选误差，其是第一临时候选码矢量和第一目标矢量之间的误差; 以及基于所述第一临时候选错误确定作为所述第一候选代码矢量的数量的第一数量，以及获取与所述第一数量相同的量的第一最终候选代码向量。

5. 发明申请

WO2022154296A1 이차 전지 제조 장치 및 제조 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2022154296A1
公开(公告)日：2022-07-21
申请号：PCT/KR2021/019580
申请日：2021-12-22
申请人： 엘지전자 주식회사
发明人： 권두영 , 안덕률 , 이창헌 , 공병섭 , 전일수 , 박효정
IPC分类号： H01M50/204 , B23K26/24 , B23K101/36
摘要： 본 발명의 실시예에 따른 이차 전지 제조 장치는, 셀 모듈과, 상기 셀 모듈이 수용되는 모노 프레임, 및 상기 모노 프레임의 개구된 양 측면에 결합되는 엔드 플레이트를 포함하는 이차 전지 유닛이 수용되는 함체; 상기 함체의 양 측면에서 연장되는 한 쌍의 회전축; 상기 한 쌍의 회전축 중 어느 하나에 연결되는 함체 회전 수단; 상기 한 쌍의 회전축을 지지하는 함체 지지대; 및 상기 함체 회전 수단의 내측에 제공되어, 상기 이차 전지 유닛을 가압 지지하는 지지 수단을 포함할 수 있다.

6. 发明授权

KR102201743B1 의류처리장치 有权
公开(公告)号：KR102201743B1
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：KR1020140033181
申请日：2014-03-21
申请人： 엘지전자 주식회사
发明人： 이창헌 , 김기혁 , 이혁종
IPC分类号： D06F37/10 , D06F37/28 , D06F39/14 , D06F37/26
摘要： 본발명은의류처리장치에관한것이다. 보다구체적으로, 본발명은외관을형성하고, 의류투입구가구비된캐비닛; 상기투입구측을향하여배치되는이너프레임및 상기이너프레임에결합되고상기캐비닛의외측을향하여배치되는아우터프레임을구비하고, 상기투입구를개폐하는도어; 상기도어를제1회전방향으로회전시키는제1회전축과, 상기도어를상기제1회전방향과다른방향인제2회전방향으로회전시키는제2회전축을구비하는힌지부; 상기도어를상기제1회전축또는상기제2회전축중 어느하나에회전가능하게고정시키도록이동할수 있는회전축전환부; 및상기도어에제공되고, 사용자에의해가압되어서상기회전축전환부를이동시키는가압편을포함하며, 상기도어의상단에는도어의수평연장방향을따라서소정깊이만큼함몰된함몰부가구비되고, 상기가압편은상기함몰부내에배치되고사용자에의해가압되는제1부분및 상기제1부분의단부로부터절곡되어상기함몰부의바닥아래로연장하는제2부분및 상기제1부분과제2부분사이에제공된피벗축을구비하며, 상기회전축전환부에는상기가압편의가압에의해상기회전축전환부를이동시키기위한경사면이형성되어있고, 상기가압편의제1부분이가압될때, 상기제2부분은상기제1부분이가압되는방향과반대방향으로움직이는의류처리장치에관한것이다. 본발명에따르면, 의류처리장치의도어를제2회전방향(즉, 수직방향또는상하방향)으로개방할때, 사용자는도어에설치된가압편을보다용이하게가압하여도어를개방할수 있다.

7. 发明授权

KR101333878B1 대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치 有权
标题翻译：用于处理大气压等离子体的基板表面的装置
公开(公告)号：KR101333878B1
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：KR1020070118375
申请日：2007-11-20
申请人： 엘지전자 주식회사
发明人： 김태완 , 이창헌 , 방진혁 , 한영호
IPC分类号： H01L21/3065
摘要： 본 발명은 대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치에 관한 것으로서, 구성요소의 분해 및 조립이 용이한 조립식으로 구성하여 전극의 교체와 같은 유지보수가 용이하고, 착탈이 용이한 스페이서의 두께 조절을 통해 상부전극과 하부전극 사이의 간격 조절이 용이하며, 상기 상부전극 및 하부전극을 직·간접적으로 냉각시킬 수 있는 쿨링시스템을 통해 상기 상부전극 및 하부전극에서 발생되는 열을 효율적으로 냉각시킴으로써 열화에 따른 손상을 방지할 수 있고, 상기 상부전극 및 하부전극에서 발생될 수 있는 아킹(arching) 현상을 최소화할 수 있는 대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치를 제공한다.
삭제

8. 发明公开

KR1020110113124A 오디오 신호 처리 방법 및 장치 无效
标题翻译：一种处理音频信号的方法和装置
公开(公告)号：KR1020110113124A
公开(公告)日：2011-10-14
申请号：KR1020100086489
申请日：2010-09-03
申请人： 엘지전자 주식회사
发明人： 정규혁 , 이창헌 , 전혜정 , 이병석
IPC分类号： G10L19/04 , G10L19/18 , G10L19/00
CPC分类号： G10L19/07 , G10L2019/0005
摘要： 제 1 타겟 신호에 따른 참조 코드북의 참조 에러값을 획득하고, 상기 참조 에러값을 고려하여 타겟 스테이지를 결정하되, 상기 타겟 스테이지의 제 2 타겟 신호를 생성하고, 상기 제 2 타겟 신호를 이용하여 코드북 검색을 수행할 수 있다. 상기 코드북 검색으로부터 상기 제 2 타겟 신호에 따른 참조 코드북을 획득하고, 상기 제 1 타겟 신호에 따른 참조 코드북을 상기 제 2 타겟 신호에 따른 참조 코드북으로 대체함으로써, 복수개의 스테이지를 가지는 양자화 기법을 사용함에 따른 복잡도를 줄일 수 있고, 오디오 신호의 압축률을 향상시킬 수 있다.

9. 发明公开

KR1020090051916A 대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치 有权
标题翻译：用于处理大气压等离子体的基板的表面的装置及其制造下部电极组件的方法
公开(公告)号：KR1020090051916A
公开(公告)日：2009-05-25
申请号：KR1020070118375
申请日：2007-11-20
申请人： 엘지전자 주식회사
发明人： 김태완 , 이창헌 , 방진혁 , 한영호
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32605 , H01J37/32825
摘要： 본 발명은 대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치에 관한 것으로서, 구성요소의 분해 및 조립이 용이한 조립식으로 구성하여 전극의 교체와 같은 유지보수가 용이하고, 착탈이 용이한 스페이서의 두께 조절을 통해 상부전극과 하부전극 사이의 간격 조절이 용이하며, 상기 상부전극 및 하부전극을 직·간접적으로 냉각시킬 수 있는 쿨링시스템을 통해 상기 상부전극 및 하부전극에서 발생되는 열을 효율적으로 냉각시킴으로써 열화에 따른 손상을 방지할 수 있고, 상기 상부전극 및 하부전극에서 발생될 수 있는 아킹(arching) 현상을 최소화할 수 있는 대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치 및 이 장치에 사용되는 하부전극조립체의 제조방법을 제공한다.
대기압, 플라즈마, 표면처리, 아킹(arching), 냉각

10. 发明公开

KR1020080034640A 플라즈마 발생 장치 有权
标题翻译：等离子体发生装置
公开(公告)号：KR1020080034640A
公开(公告)日：2008-04-22
申请号：KR1020060100859
申请日：2006-10-17
申请人： 엘지전자 주식회사
发明人： 김태완 , 이창헌
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32724 , H01J37/32009 , H01J37/32348 , H01J37/32605 , H05H1/2406 , H05H2001/2456
摘要： An apparatus for generating plasma is provided to form a uniform electric field and inject uniform plasma to the surface of the substrate by minimizing variation of an electrode. A chamber housing(46) is lengthwise formed in which a gas chamber(47) for mixing reaction gas is formed in the chamber housing. A pair of dielectric plates(52,52') are installed under the chamber housing, confronting each other wherein the reaction gas is transformed into plasma in a gap(53h) between the pair of dielectric plates. A pair of electrodes(54,54') are formed on the back surface of the dielectric plate, parallel with each other. The electrode is surrounded by an electrode cover(58). The dielectric plate can be detachably installed under the chamber housing.
摘要翻译：提供用于产生等离子体的装置以形成均匀的电场，并通过使电极的变化最小化来将均匀的等离子体注入基片的表面。纵向地形成有一个腔室（46），在腔室壳体内形成有用于混合反应气体的气室（47）。一对电介质板（52,52'）安装在腔室下面，彼此面对，其中反应气体在一对电介质板之间的间隙（53h）中转变成等离子体。一对电极（54,54'）形成在电介质板的背面上，彼此平行。电极被电极盖（58）包围。电介质板可以可拆卸地安装在腔室的下面。

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