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热词
    • 1. 发明公开
    • 표시장치 및 그 제조방법
    • 显示装置及其制造方法
    • KR1020170050691A
    • 2017-05-11
    • KR1020150152550
    • 2015-10-30
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 배상현정상철이태형임창택
    • G02F1/136G02F1/1335
    • 본발명은다수의화소영역(PA)이형성된패널영역및 더미영역(NA)과상기더미영역(NA)의외곽에정의된얼라인키영역(KA)이정의된기판의패널영역에구비된블랙매트릭스패턴및 더미영역의외곽에구비된블랙매트릭스얼라인키를형성하여표시장치를구성한다. 이와같이, 본발명은평탄화막의포토공정을추가하여하부패턴키 영역을오픈시킴으로써얼라인/오버레이키 인식이가능하도록하여 4 면이보더리스(borderless) 제품구현이가능하다.
    • 本发明提供了设置在所述对准inki区域(KA)的基板的面板区域的黑色矩阵双峰限定多个像素区域(PA)的可释放的面板区和虚拟区(NA)和所述虚拟区域(NA)意外郭 形成配备上的图案和虚设区域的郊区的黑矩阵对准inki构成的显示装置。 因此,本发明可以是一个四边并允许通过打开下部图案关键区域以添加平坦化处理,边界照片膜(无边界)产品执行识别对准/重叠键。
    • 2. 发明授权
    • 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법
    • 液晶显示装置用阵列基板的制造方法
    • KR101493224B1
    • 2015-02-17
    • KR1020080092705
    • 2008-09-22
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 김호수김기승정상철이정훈권당조항섭이은하
    • G02F1/136
    • 본 발명은 더블 패시베이션층 계면에서 사이드 에치를 방지하여 포인트 디펙트(point defect)를 방지할 수 있도록 한 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법에 관한 것으로서, 기판상에 게이트 전극을 형성하는 단계와, 상기 게이트 전극을 포함한 기판의 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계와, 상기 게이트 전극과 대응되는 상기 게이트 절연막상에 액티브층, 오믹콘택층, 소오스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계와, 상기 소오스 전극 및 드레인 전극을 포함한 기판의 전면에 제 1 패시베이션층을 형성하는 단계와, 상기 제 1 패시베이션층의 표면에 플라즈마 처리를 실시하는 단계와, 상기 표면이 플라즈마 처리된 제 1 패시베이션층상에 칼라 필터층을 형성하는 단계와, 상기 칼라 필터층을 포함한 기판의 전면에 제 2 패시베이션층을 형성하는 단계와, 상기 드레인 전극의 표면이 소정부분 노출되도록 제 2 패시베이션층 및 제 1 패시베이션층을 선택적으로 제거하여 콘택홀을 형성하는 단계와, 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하여 형성하는 것을 특징으로 한다.
      액정표시장치, 패시베이션층, 사이드 에치, 버퍼층
    • 6. 发明公开
    • 컬러필터기판 제조방법
    • 彩色滤光片制作方法
    • KR1020080062884A
    • 2008-07-03
    • KR1020060139054
    • 2006-12-29
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 정상철
    • G02B5/20G02F1/1335
    • A method for fabricating a color filter is provided to reduce a cost and simplify a process by not requiring a mask in an exposure process of a white color layer. A method for fabricating a color filter includes the steps of: forming a black matrix on a base substrate; forming a three primary colors layer on the base substrate; coating the base substrate with white photoresist as lower part curing photoresist to cover the three primary color layer sufficiently; exposing the white photoresist; and developing the white photoresist. Light with energy of 20mJ to 100mJ is used in the step of exposing the photoresist. A white color layer is cured from a lower part of the white color layer to a height higher than an upper part of the three primary colors layer at a predetermined height.
    • 提供一种制造滤色器的方法,以通过在白色层的曝光过程中不需要掩模来降低成本并简化工艺。 制造滤色器的方法包括以下步骤:在基底基板上形成黑矩阵; 在基底基板上形成三原色层; 用白色光致抗蚀剂涂覆基底基材作为下部固化光刻胶以充分覆盖三原色层; 曝光白色光刻胶; 并显影出白色光致抗蚀剂。 在曝光光刻胶的步骤中使用能量为20mJ至100mJ的光。 白色层从白色层的下部固化到比预定高度的三原色层的上部高的高度。