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1. 发明公开

KR1020090008953A 변색된 메틸에틸케톤의 정제 방법 无效
标题翻译：纯化甲基乙基酮的方法
公开(公告)号：KR1020090008953A
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：KR1020070072332
申请日：2007-07-19
申请人： 에스케이이노베이션 주식회사 , 에스케이종합화학 주식회사
发明人： 김우선 , 장하원 , 최정업 , 최규진 , 고재석
IPC分类号： C07C45/78 , C07C49/10
摘要： A method for purifying discolored methylethylketone is provided to remove a material causing discoloration from methylethylketone discolored due to long term storage, by using a distillation process. A method for purifying discolored methylethylketone comprises a step of injecting the methylethylketone discolored due to long term storage in a distillation tower of the theoretical plate 60-80; and a step of distilling it under the condition of the temperature of the lower part of a tower of 84~89°C and the temperature of the top part of a tower of 84~89°C so that the reflux ratio is 4~6. The acid content of the methyl ethyl ketone refined with the purification process is 0.005 wt% or less. The APHA color is 10 or less.
摘要翻译：提供用于纯化变色的甲基乙基酮的方法，以通过使用蒸馏方法除去由于长期储存而变色的甲基乙基酮变色的物质。一种纯化变色的甲基乙基酮的方法包括将由于长期储存而变色的甲基乙基酮注入理论塔板60-80的蒸馏塔中的步骤; 在塔底部温度为84〜89℃，塔顶部温度为84〜89℃的条件下，蒸馏回流比为4〜6 。用纯化方法精制的甲基乙基酮的酸含量为0.005重量％以下。 APHA颜色为10以下。

2. 发明授权

KR101125853B1 Ｎ-메틸 피롤리돈의 제조방법 有权
标题翻译：制备N-甲基吡咯烷酮的方法
公开(公告)号：KR101125853B1
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：KR1020090069391
申请日：2009-07-29
申请人： 에스케이이노베이션 주식회사 , 에스케이종합화학 주식회사
发明人： 이재호 , 유영갑 , 박민규 , 최규진 , 최선 , 김홍대 , 이성준 , 고재석 , 정기남
IPC分类号： C07D207/267
摘要： 본 발명은 N-메틸 피롤리돈의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 모노메틸아민(MMA) 수용액 및 감마-부티로락톤(GBL)을 반응기로 공급하여 상기 모노메틸아민과 감마-부티로락톤의 반응에 의해 생성된 N-메틸 피롤리돈(NMP)과 물을 분리하고, 분리된 물은 모노메틸아민과 혼합하여 상기 모노메틸아민 수용액을 제조하여 반응기로 도입하는 N-메틸 피롤리돈(NMP)의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 N-메틸 피롤리돈의 제조방법은 모노메틸아민과 감마-부티로락톤의 반응에 의해 생성된 물을 회수하여 모노메틸아민 수용액을 제조한 후 다시 반응기로 재공급하여 에너지를 절약할 뿐만 아니라 생성물인 N-메틸 피롤리돈을 쉽게 분리할 수 있는 장점이 있다.
N-메틸 피롤리돈, 감마-부티로락톤, 모노메틸아민

3. 发明授权

KR101103512B1 1,4-부탄디올로부터 Ｎ-메틸 피롤리돈의 제조방법 有权
标题翻译：从1,4-丁二醇制备N-甲基吡咯烷酮的方法
公开(公告)号：KR101103512B1
公开(公告)日：2012-01-09
申请号：KR1020090114652
申请日：2009-11-25
申请人： 에스케이이노베이션 주식회사 , 에스케이종합화학 주식회사
发明人： 박민규 , 유영갑 , 최규진 , 이성호 , 이재호 , 윤영식 , 정기남 , 이성준 , 최선 , 오승훈 , 김희수
IPC分类号： C07D207/263 , C07D207/27 , C07D207/267
摘要： 본 발명은 감마 부티로락톤 및 N-메틸 피롤리돈의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 1,4-부탄디올(BDO)을 반응기로 도입하여 금속산화물 촉매 하에서 탈수소화 반응으로 감마-부티로락톤(GBL)을 제조하고, 생성된 감마-부티로락톤과 추가 원료인 모노메틸아민(MMA) 수용액을 반응기로 공급하여 상기 모노메틸아민과 감마-부티로락톤의 반응에 의해 생성된 N-메틸 피롤리돈(NMP)과 물을 분리하고, 분리된 물은 모노메틸아민과 혼합하여 상기 모노메틸아민 수용액을 제조하여 반응기로 도입하는 N-메틸 피롤리돈(NMP)의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 N-메틸 피롤리돈의 제조방법은 부탄디올로부터 촉매하에서 감마-부티로락톤(GBL)을 제조하고, 모노메틸아민과 감마-부티로락톤의 반응에 의해 생성된 물을 회수하여 모노메틸아민 수용액을 제조한 후 다시 반응기로 재공급하여 에너지를 절약할 뿐만 아니라 생성물인 N-메틸 피롤리돈을 쉽게 분리할 수 있는 장점이 있다.
N-메틸 피롤리돈, 감마-부티로락톤, 모노메틸아민, 금속산화물 촉매

4. 发明公开

KR1020110135912A 1，4―부탄디올을 이용한 감마부티로락톤 및 Ｎ―메틸 피롤리돈의 제조방법 无效
标题翻译：从1,4-丁二醇制备γ-吡唑啉酮和N-甲基吡咯烷酮的方法
公开(公告)号：KR1020110135912A
公开(公告)日：2011-12-20
申请号：KR1020110130975
申请日：2011-12-08
申请人： 에스케이이노베이션 주식회사 , 에스케이종합화학 주식회사
发明人： 이성호 , 윤영식 , 김희수 , 오승훈 , 유영갑 , 박민규 , 최규진 , 김경록 , 정기남 , 이재호 , 이성준
IPC分类号： C07D307/33 , C07D307/32 , C07C29/149 , C07C67/08
摘要： PURPOSE: A method for preparing gamma-butyrolactone(GBL) and N-methyl pyrrolidone using 1,4-butanediol is provided to stably prepare N-methyl pyrrolidone of high yield. CONSTITUTION: A method for preparing gamma-butyrolactone(GBL) comprises a step of reacting 1,4-butandiol under the presence of a catalyst containing Cu and Zr oxide. The catalyst is prepared by drying a precursor solution containing Cu and Zr and performing thermal treatment under the presence of oxygen at 400-800°C. The reaction is performing at 200-300°C and 1-10 kg/cm^2 G under 200-300 sccm of hydrogen condition.
摘要翻译：目的：提供使用1,4-丁二醇制备γ-丁内酯（GBL）和N-甲基吡咯烷酮的方法，以高产率稳定制备N-甲基吡咯烷酮。构成：制备γ-丁内酯（GBL）的方法包括在含有Cu和Zr氧化物的催化剂的存在下使1,4-丁二醇反应的步骤。通过干燥含有Cu和Zr的前体溶液并在400-800℃的氧气存在下进行热处理来制备催化剂。反应在200-300℃，在200-300sccm的氢气条件下进行为1-10kg / cm 2。

5. 发明公开

KR1020100033653A 포토레지스트용 스트리퍼 조성물 有权
标题翻译：剥离组合物去除光电子
公开(公告)号：KR1020100033653A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：KR1020080092621
申请日：2008-09-22
申请人： 에스케이이노베이션 주식회사 , 에스케이종합화학 주식회사
发明人： 최규진 , 박무덕 , 최정업 , 고재석
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C08F220/18 , C09D9/005 , C11D7/261 , C11D7/263 , C11D7/3218 , C11D11/0047 , G03F7/0226 , G03F7/0758 , G03F7/091 , G03F7/422
摘要： PURPOSE: A stripper composition for a nonaqueous photoresist is provided to ensure excellent strippability of a denatured and cured photoresist film in a sever processing condition such as dry etching, good solubility, and low metal corrosion. CONSTITUTION: A stripper composition for a nonaqueous photoresist comprises 70 ~ 99 weight% of a mixed polar solvent of N,N-dimethylacetamide and N-methylformamide, and 0.1 ~10 weight% of tetraethylene glycol. The stripper composition includes 0.01 ~ 1 weight% of a mixture of a triazol-based compound and a gallic acid derivative as an anticorrosive agent.
摘要翻译：目的：提供用于非水性光致抗蚀剂的剥离剂组合物，以确保在干蚀刻，良好溶解性和低金属腐蚀等苛刻加工条件下变性和固化的光致抗蚀剂膜的优异剥离性。构成：非水系光致抗蚀剂的脱模剂组合物含有70〜99重量％的N，N-二甲基乙酰胺和N-甲基甲酰胺的混合极性溶剂和0.1〜10重量％的四甘醇。脱模剂组合物包含0.01〜1重量％的作为防腐剂的三唑类化合物和没食子酸衍生物的混合物。

6. 发明授权

KR101374686B1 포토레지스트용 스트리퍼 조성물 有权
标题翻译：光刻胶剥离剂组成
公开(公告)号：KR101374686B1
公开(公告)日：2014-03-18
申请号：KR1020080092621
申请日：2008-09-22
申请人： 에스케이이노베이션 주식회사 , 에스케이종합화학 주식회사
发明人： 최규진 , 박무덕 , 최정업 , 고재석
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은 금속 방식성 및 포토레지스트 박리성이 동시에 향상되고 탈이온수에 대한 세정성이 우수한 포토레지스트용 스트리퍼 조성물에 관한 것으로, N-메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드의 혼합 극성용매 70 내지 99중량%, 테트라에틸렌글리콜 0.1 내지 10중량%을 함유하며 부가적으로 부식방지제로서 트리아졸계 화합물과 갈산 유도체의 혼합물 0.01 내지 1중량%를 함유하는 비수계 포토레지스트용 스트리퍼 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 스트리퍼 조성물은 유기발광다이오드나 액정표시장치용 회로 제조공정에서 습식 또는 건식 식각 공정 중 발생하는 변질 또는 경화된 포토레지스트의 박리성능이 우수하고, 은이나 구리, 알루미늄 합금막과 같은 금속막에 대한 부식성이 매우 낮은 우수한 효과를 가진다. 또한 조성물 중에 N-메틸-2-피롤리돈을 포함하지 않는 친환경적인 특성을 가진다.
포토레지스트, 스트리퍼, 비이온성극성용제, 글리콜에테르, 박리촉진제, 부식방지제
摘要翻译：本发明的金属的耐腐蚀性，和光致抗蚀剂耐剥离性的同时提高涉及清洁特性是用于对去离子水的光致抗蚀剂，N-甲基甲酰胺，和N，70 N-二甲基乙酰胺的极性溶剂混合物优良剥离剂组合物至99重量％的含有0.1至10％（重量）四甘醇，以及涉及到加法三唑类化合物和含有0.01至1％的混合物按重量计没食子酸衍生物作为腐蚀抑制剂的非水光刻胶剥离剂组合物。

7. 发明公开

KR1020110058002A 1,4-부탄디올로부터 Ｎ-메틸 피롤리돈의 제조방법 有权
标题翻译：从1,4-丁二醇制备N-甲基吡咯烷酮的方法
公开(公告)号：KR1020110058002A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：KR1020090114652
申请日：2009-11-25
申请人： 에스케이이노베이션 주식회사 , 에스케이종합화학 주식회사
发明人： 박민규 , 유영갑 , 최규진 , 이성호 , 이재호 , 윤영식 , 정기남 , 이성준 , 최선 , 오승훈 , 김희수
IPC分类号： C07D207/263 , C07D207/27 , C07D207/267
摘要： PURPOSE: A method for preparing gamma-butarolactone and N-methyl pyrrolidone is provided to save energy and to easily isolate N-methyl pyrrolidone. CONSTITUTION: A method for preparing N-methyl pyrrolidone comprises: a step of performing dehydrogenation of 1,4-butanediol(BDO) under the presence of hydrogen to prepare gamma-butyrolactone; a step of supplying monomethylamine(MMA) solution and gamma-butyrolactone(GBL) in a reactor to isolated N-methyl pyrrolidone(NMP) and water; and a step of mixing the isolated water and MMA to prepare monomethylamine solution.
摘要翻译：目的：提供制备γ-丁内酯和N-甲基吡咯烷酮的方法，以节省能量并容易地分离N-甲基吡咯烷酮。构成：制备N-甲基吡咯烷酮的方法包括：在氢存在下进行1,4-丁二醇（BDO）脱氢以制备γ-丁内酯的步骤; 在反应器中将单甲胺（MMA）溶液和γ-丁内酯（GBL）供给到分离的N-甲基吡咯烷酮（NMP）和水中的步骤; 以及将分离的水和MMA混合以制备单甲胺溶液的步骤。

8. 发明授权

KR101511736B1 포토레지스트용 스트리퍼 조성물 有权
公开(公告)号：KR101511736B1
公开(公告)日：2015-04-17
申请号：KR1020080091934
申请日：2008-09-19
申请人： 에스케이이노베이션 주식회사 , 에스케이종합화학 주식회사
发明人： 최규진 , 박무덕 , 최정업 , 고재석
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은 금속 방식성 및 포토레지스트 박리성이 동시에 향상되고 특히 변성 및 변질된 포토레지스트에 대한 용해성이 우수하며 탈이온수에 대한 세정성이 향상된 포토레지스트용 스트리퍼 조성물에 관한 것으로, 알칸올아민 5 내지 30중량%, N,N-디메틸아세트아미드 20 내지 70중량%, 디에틸렌글리콜 모노알킬에테르 20 내지 40중량%, 테트라에틸렌글리콜 1 내지 10중량% 및 부식방지제로서 트리아졸계 화합물 또는 이미다졸계 화합물로부터 선택되는 1종 이상과 갈산 유도체의 혼합물 0.01 내지 1중량%를 함유하는 비수계 포토레지스트용 스트리퍼 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 스트리퍼 조성물은 유기발광다이오드나 액정표시장치용 회로 제조공정에서 습식 또는 건식 식각 공정 중 발생하는 변질 또는 경화된 포토레지스트의 박리성능이 우수하고, 은이나 구리, 알루미늄 합금막과 같은 금속막에 대한 부식성이 매우 낮은 우수한 효과를 가진다. 또한 조성물 중에 N-메틸-2-피롤리돈을 포함하지 않는 친환경적인 특성을 가진다.
포토레지스트, 스트리퍼, 비이온성극성용제, 글리콜에테르, 박리촉진제, 부식방지제

9. 发明授权

KR101374565B1 포토레지스트용 스트리퍼 조성물 有权
标题翻译：去除光刻胶的剥离剂组合物
公开(公告)号：KR101374565B1
公开(公告)日：2014-03-18
申请号：KR1020080092615
申请日：2008-09-22
申请人： 에스케이이노베이션 주식회사 , 에스케이종합화학 주식회사
发明人： 최규진 , 박무덕 , 최정업 , 고재석
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은 금속 방식성 및 포토레지스트 박리성이 동시에 향상되고 탈이온수에 대한 세정성이 우수한 포토레지스트용 스트리퍼 조성물에 관한 것으로, 감마부티로락톤 및 디메틸설폭사이드의 혼합 극성용매 30 내지 50중량%, 글리콜에테르 40 내지 65중량%, 글리콜 화합물 1 내지 10 중량%, 및 박리향상제로서 디아민화합물 0.1 내지 5중량%를 함유하는 비수계 포토레지스트용 스트리퍼 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 스트리퍼 조성물은 유기발광다이오드나 액정표시장치용 회로 제조공정에서 습식 또는 건식 식각 공정 중 발생하는 변질 또는 경화된 포토레지스트의 박리성능이 우수하고, 은이나 구리, 알루미늄 합금막과 같은 금속막에 대한 부식성이 매우 낮은 우수한 효과를 가진다. 또한 조성물 중에 N-메틸-2-피롤리돈을 포함하지 않는 친환경적인 특성을 가진다.
포토레지스트, 스트리퍼, 비이온성극성용제, 글리콜에테르, 박리촉진제, 부식방지제

10. 发明公开

KR1020110011917A Ｎ-메틸 피롤리돈의 제조방법 有权
标题翻译：制备N-甲基吡咯烷酮的方法
公开(公告)号：KR1020110011917A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：KR1020090069391
申请日：2009-07-29
申请人： 에스케이이노베이션 주식회사 , 에스케이종합화학 주식회사
发明人： 이재호 , 유영갑 , 박민규 , 최규진 , 최선 , 김홍대 , 이성준 , 고재석 , 정기남
IPC分类号： C07D207/267
摘要： PURPOSE: A method for preparing N-methyl prolidone is provided to save energy and easily isolating N-methyl pyrolidone. CONSTITUTION: A method for preparing N-methyl prolidone comprises: a step of supplying monomethylamine(MMA) solution and gamma-butyrolactone(GBL) into a reactor; a step of separating N-methyl pyrolidone(NMP) and water; a step of mixing the water and monomethylamine to prepare monomethylamine solution; and a step of introducing the solution into a reactor. The monomethyl amine solution contains 25-65 weight% of monomethylamine and 35-75 weight% of water.
摘要翻译：目的：提供一种制备N-甲基丙酰胺的方法，以节省能量并容易地分离N-甲基吡咯烷酮。构成：制备N-甲基促进剂的方法包括：向反应器中提供一甲胺（MMA）溶液和γ-丁内酯（GBL）的步骤; 分离N-甲基吡咯烷酮（NMP）和水的步骤; 混合水和一甲胺以制备一甲胺溶液的步骤; 以及将溶液引入反应器的步骤。单甲胺溶液含有25-65重量％的一甲胺和35-75重量％的水。

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