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1. 发明公开

KR1020030055313A 내스크래칭성 피막의 제조방법, 중합 개시제 및 이를 포함하는 조성물 失效
标题翻译： 내스크래칭성피막의제조방법，중합개시제및이를포함하는조성물
公开(公告)号：KR1020030055313A
公开(公告)日：2003-07-02
申请号：KR1020037006828
申请日：2001-11-13
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 보댕지젤 , 융튠야 , 휘슬러리날도
IPC分类号： C09D4/00
CPC分类号： C07D295/108 , C07C69/63 , C07C323/32 , C07F7/1844 , C09D4/00 , C08F220/00
摘要： 본 발명은, 비극성 플루오르화 알킬 그룹이 하나 이상 존재하는 표면 활성 벤조일 화합물을 포함하는 조성물의 이중 경화에 의한 내스크랫칭성 피복물의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 피복물의 표면에서 이들 표면 활성 광개시제를 농축시키는 방법, 비극성 플루오르화 알킬 그룹이 하나 이상 존재하는 신규한 표면 활성 벤조일 화합물, 신규한 표면 활성 플루오르화 광개시제가 존재하는 조성물 및 기판 위에서 경화 조성물의 유동성을 개선시키는 방법에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及通过包含表面活性苯甲酰基化合物（其中存在至少一个非极性氟化烷基基团）的组合物的双重固化制备防刮涂层的方法。本发明还涉及将这些表面活性光引发剂浓缩在涂料表面中的方法，其中存在至少一种非极性氟化烷基的新型表面活性苯甲酰基化合物，其中存在新型表面活性氟化光引发剂的组合物并且涉及用于改善基材上可固化组合物的流动的方法。

2. 发明公开

KR1020050034614A 광활성화 가능한 질소 염기 有权
标题翻译：可摄氮
公开(公告)号：KR1020050034614A
公开(公告)日：2005-04-14
申请号：KR1020047005628
申请日：2002-10-08
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 보댕지젤 , 디틀리커쿠르트 , 융툰야
IPC分类号： C07D487/04
CPC分类号： C07D487/04 , B33Y70/00 , G03F7/0045 , G03F7/0295 , G03F7/031
摘要： Compounds of the formula I R7"N-R6 RS-C, N-R4 H C, R'/ I R, 3 R 2 (I) in which R, is an aromatic or heteroaromatic radical which is capable of absorbing light in the wave-length range from 200 nm to 650 nm and which is unsubstituted or substituted one or more times by C,-C,8alkyl, C2-C,ealkenyl, C2-C,8alkynyl, C,-C,ehaloalkyl, N02, NR,OR, CN, OR,2, SR,2, C(O)R,3, C(O)OR,4, halogen or a radical of the formula II R~-N' R6 1 R5-C,N.R4 H I C - R3 I R2 (II) and which on absorption brings about a photoelimination which leads to the generation of an amidine group, R2 and R3 independently of one another are hydrogen, C,-C,ealkyl or phenyl which is unsubstituted or is substituted one or more times by C,-C,8alkyl, CN, OR,2, SR,2, halogen or C,-C,ehaloalkyl; R5 is C,-C,ealkyl or NR8R9; R4, R6, R, R8, R9, R,o and R inde-pendently of one another are hydrogen or C,-C,8alkyl; or R4 and R6 together form a C2- C,2alkylene bridge which is unsubstituted or is substituted by one or more C1-C4alkyl radicals; or R5 and R,, independently of R4 and R6, together form a C2-C,2alkylene bridge which is unsubstituted or is substituted by one or more C1-C4alkyl radicals; or, if R5 is a radi-cal NR8R9, R, and R9 together form a C2-C,2alkylene bridge which is unsubstituted or is sub-stituted by one or more C1-C4alkyl radicals; and R,2, R,3 and R,4 independently of one another are hydrogen or C,-C,ealkyl; are suitable as photoinitiators for compounds which react under base catalysis.
摘要翻译：式I R7“N-R6RS-C，N-R4H HC，R'/ IR，3R2（I）的化合物，其中R 1是能够吸收波浪中的光的芳族或杂芳族基团，长度范围为200nm至650nm，其未被取代或被C 1 -C 8烷基，C 2 -C 6烯基，C 2 -C 8炔基，C 1 -C 8卤代烷基，N 2 NR，OR ，CN，OR，2，SR，2，C（O）R，3，C（O）OR 4，卤素或式II的基团R 1 -N'R 6 1 R 5 -C，N.R 4 HIC - R3 I R2（II），其吸收引起导致脒基的生成的光致游离，R 2和R 3彼此独立地是氢，C 1 -C 6烷基或未取代或被取代的苯基 C 1 -C 8烷基，CN，OR 2，SR 2，卤素或C 1 -C 8卤代烷基; R 5是C 1 -C 6烷基或NR 8 R 9; R 4，R 6，R 8，R 8，R 9 R，O和R彼此独立地是氢或C 1 -C 8烷基;或者R 4和R 6一起形成未被取代或被一个或多个C 1 -C 4烷基取代的C 2 -C 2亚烷基桥 S; 或R 5和R 7独立于R 4和R 6一起形成未被取代或被一个或多个C 1 -C 4烷基取代的C 2 -C 2亚烷基桥; 或者如果R 5是辐射级NR 8 R 9，则R 3和R 9一起形成未被取代或由一个或多个C 1 -C 4烷基取代的C 2 -C 2亚烷基桥; 和R，2，R 3和R 4彼此独立地是氢或C 1 -C 6烷基; 适用于在碱催化下反应的化合物的光引发剂。

3. 发明授权

KR100938769B1 광활성화 가능한 질소 염기 有权
标题翻译：可光化氮碱
公开(公告)号：KR100938769B1
公开(公告)日：2010-01-27
申请号：KR1020047005628
申请日：2002-10-08
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 보댕지젤 , 디틀리커쿠르트 , 융툰야
IPC分类号： C07D487/04
CPC分类号： C07D487/04 , B33Y70/00 , G03F7/0045 , G03F7/0295 , G03F7/031
摘要： R
1 이 200 내지 650nm의 파장에서 광을 흡수할 수 있고, 치환되지 않거나 C
1 -C
18 알킬, C
2 -C
18 알케닐, C
2 -C
18 알키닐, C
1 -C
18 할로알킬, NO
2 , NR
10 R
11 , CN, OR
12 , SR
12 , C(O)R
13 , C(O)OR
14 , 할로겐 또는 화학식 II의 라디칼로 1회 이상 치환되고, 흡수시 아미딘 그룹의 생성을 일으키는 광제거 반응을 야기하는 방향족 또는 헤테로방향족 라디칼이고,
R
2 및 R
3 이 서로 독립적으로 수소, C
1 -C
18 알킬, 또는 치환되지 않거나 C
1 -C
18 알킬, CN, OR
12 , SR
12 , 할로겐 또는 C
l -C
18 할로알킬로 1회 이상 치환된 페닐이고,
R
5 가 C
1 -C
18 알킬 또는 NR
8 R
9 이고,
R
4 , R
6 , R
7 , R
8 , R
9 , R
10 및 R
11 이 서로 독립적으로 수소 또는 C
l -C
18 알킬이거나,
R
4 와 R
6 이, 치환되지 않거나 하나 이상의 C
1 -C
4 알킬 라디칼로 치환된 C
2 -C
12 알킬렌 브릿지를 함께 형성하거나,
R
5 와 R
7 이, R
4 와 R
6 과는 별개로 치환되지 않거나 하나 이상의 C
1 -C
4 알킬 라디칼로 치환된 C
2 -C
12 알킬렌 브릿지를 함께 형성하거나,
R
7 과 R
9 가, R
5 가 라디칼 NR
8 R
9 인 경우, 치환되지 않거나 하나 이상의 C
1 -C
4 알킬 라디칼로 치환된 C
2 -C
12 알킬렌 브릿지를 함께 형성하고,
R
12 , R
13 및 R
14 가 서로 독립적으로 수소 또는 C
1 -C
18 알킬인 화학식 I의 화합물이, 염기 촉매하에 반응하는 화합물에 대하여 광개시제로서 적합하다.
화학식 I

화학식 II

광활성화 가능한 질소 염기, 염기 촉매, 광개시제, 감광제

4. 发明公开

KR1020030063416A 계면 활성 광 개시제 无效
标题翻译：表面活性剂光引发剂
公开(公告)号：KR1020030063416A
公开(公告)日：2003-07-28
申请号：KR1020037007852
申请日：2001-12-06
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 보댕지젤 , 융툰야
IPC分类号： C08F2/50
CPC分类号： C08F2/50 , B33Y70/00
摘要： 본 발명은 계면 활성 광 개시제를 함유하는 광 경화성 제형을 사용하여 화학식 Ia 또는 화학식 Ib의 제형의 표면에 농축시켜 내스크래치성의 내구성 표면을 갖는 피복물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
화학식 Ia

화학식 Ib

상기식에서,
R 및 R
3 은 예를 들면, 화학식 (II)의 라디칼이고,
R
1 은 예를 들면, 수소, A
1 -X
1 - 또는 화학식
(II)의 라디칼이고,
R
2 는 예를 들면, 치환되지 않거나 치환된 C
1 -C
12 알킬 또는 A
2 -X
2 -이고,
R
4 은 예를 들면, 수소 또는 A
4 -X
4 -이고,
R
5 는 예를 들면, 수소 또는 A
5 -X
5 -이거나, 화학식 II 라디칼이고,
R
6 , R
7 , R
8 , R
9 및 R
10 은 각각 서로 독립적으로 예를 들면, 수소, AX-, A
3 -X
3 - 또는 C
1 -C
12 알킬이고,
A, A
1 , A
2 , A
3 , A
4 및 A
5 는 각각 서로 독립적으로 예를 들면, 화학식 III의 계면 활성 라디칼이고,
n은 1 내지 1000이고,
m은 0 내지 100이고,
p는 0 내지 10000이고,
R
18 , R
19 , R
20 , R
21 , G
1 및 G
2 는 예를 들면, C
1 -C
18 알킬이고,
X, X
1 , X
2 , X
3 , X
4 및 X
5 는 예를 들면, 단일 결합이다.

5. 发明授权

KR100853363B1 내스크래칭성 피막의 제조방법, 중합 개시제 및 이를 포함하는 조성물 失效
标题翻译：用于制备耐刮擦涂层，聚合引发剂和包含引发剂的组合物的方法
公开(公告)号：KR100853363B1
公开(公告)日：2008-08-22
申请号：KR1020037006828
申请日：2001-11-13
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 보댕지젤 , 융튠야 , 휘슬러리날도
IPC分类号： C09D4/00
CPC分类号： C07D295/108 , C07C69/63 , C07C323/32 , C07F7/1844 , C09D4/00 , C08F220/00
摘要： 본 발명은, 비극성 플루오르화 알킬 그룹이 하나 이상 존재하는 표면 활성 벤조일 화합물을 포함하는 조성물의 이중 경화에 의한 내스크래칭성 피막의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 피막의 표면에서 이들 표면 활성 광개시제를 농축시키는 방법, 비극성 플루오르화 알킬 그룹이 하나 이상 존재하는 신규한 표면 활성 벤조일 화합물, 신규한 표면 활성 플루오르화 광개시제가 존재하는 조성물 및 기판 위에서 경화 조성물의 유동성을 개선시키는 방법에 관한 것이다.
비극성 플루오르화 알킬 그룹, 벤조일 화합물, 이중 경화, 광개시제 및 내스크래칭성

6. 发明公开

KR1020070051336A 고용량 광 저장 매체 无效
标题翻译：高容量光存储介质
公开(公告)号：KR1020070051336A
公开(公告)日：2007-05-17
申请号：KR1020077006171
申请日：2005-07-06
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 바쉐장-삐에르 , 보댕지젤 , 방드보른프레데리끄 , 아당장-마리 , 레만우어스 , 비르봄장-뤽
IPC分类号： C09B69/02 , G11B7/241 , C09B45/34
CPC分类号： G11B7/2467 , C09B45/20 , C09B45/34 , C09B69/045 , G11B7/246 , G11B7/247 , G11B7/2472 , G11B7/2492 , G11B7/2495 , G11B7/2498 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B7/2535 , G11B7/256 , G11B7/2575 , G11B7/259 , G11B2007/25706 , G11B2007/2571 , G11B2007/25713 , G11B2007/25715 , G11B2007/25716
摘要： 본 발명은, 따라서 기판, 반사층, 및 화학식 I의 화합물 또는 이의 공명체성 또는 토오토머성 형태를 포함하는 기록층을 포함하는 광 기록 매체에 관한 것이다.
화학식 I

상기 화학식 I에서,
M
1 은 산화 상태 +3의 금속 양이온, 금속의 산화 상태가 +4인 하이드록시 또는 할로게노 금속 그룹, 또는 금속의 산화 상태가 +5인 옥소 금속 그룹이고,
및 는 각각 서로 독립적으로, , 또는 이고,
은 , , , , 또는 이고,
은 또는 치환되지 않거나 R
10 , R
11 , R
12 및/또는 R
13 으로 일- 또는 다치환된 C
2 -C
8 헤테로아릴이고,
Q
1 은 N 또는 CR
18 이고,
Q
2 는 N 또는 CR
19 이고,
Q
3 , Q
5 및 Q
7 은 각각 서로 독립적으로 CR
20 R
21 , O, S 또는 NR
22 이고,
Q
4 는 CR
16 또는 N이고,
Q
6 은 CR
17 또는 N이고,
R
2 및/또는 R
6 은 O, S 또는 NR
33 이다.
덜 관련되는 기타 치환체에 대한 설명을 참조한다.
화학식 I의 화합물은 신규하고, 또한 화학식 II의 화합물 또는 이의 공명체 또는 토오토머도 청구된다.
화학식 II

상기 화학식 II에서,
R
38 은 할로겐, CF
3 , NO
2 , CN, COR
22 , COOR
23 , SO
3 R
23 , NCO 또는 SCN이고,
R
39 는 화학식 I에서 정의된 바와 같은 R
7 이고, 바람직하게는 H, 할로겐, CF
3 , NO
2 , CN, COR
22 , COOR
23 , SO
3 R
23 , NCO 또는 SCN이고,
G
1 , G
2 , M
1 , R
1 , R
2 , R
4 , R
5 , R
6 , R
8 , R
22 및 R
23 은 화학식 I에서 정의된 바와 같고,
M
2
m
+ 는 m의 양전하를 띈 양이온이고, m은 정수 1, 2 또는 3이다.
광 기록 매체는, 특히 고속 기록에서 DVD±R(658㎚)용으로 현저하게 적합하다.
광 기록 매체, 기록층, 기판, 반사층, 굴절률

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