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1. 发明公开

KR1020050000351A 포지티브형 감광성 수지 조성물, 패턴형 수지막의 제조방법, 반도체 장치, 표시소자, 및 반도체 장치 및표시소자의 제조 방법 有权
标题翻译：正型型感光性树脂组合物，使用该组合物生产图案树脂膜的方法，使用该组合物生产的半导体器件和显示器件
公开(公告)号：KR1020050000351A
公开(公告)日：2005-01-03
申请号：KR1020040047232
申请日：2004-06-23
申请人： 스미토모 베이클라이트 가부시키가이샤
发明人： 반바도시오 , 이케다다쿠지 , 야노다쓰야 , 히라노다카시
IPC分类号： G03F7/022
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/0048 , G03F7/0226 , G03F7/0233
摘要： PURPOSE: A positive type photosensitive resin composition is provided, which has high sensitivity and can make pattern without development residue. And a processes for producing a patterned resin membrane, a semiconductor device, and a display device by using the composition are also provided. CONSTITUTION: The positive type photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin, a diazo quinone compound, and a compound containing -CH2OH and not containing a phenolic hydroxide. And the process for producing the patterned resin membrane comprises the steps of: coating the positive type photosensitive resin composition on a substrate to form a composition layer; irradiating an activated energy beam on the composition layer and contacting to a developer to form a pattern; heating the composition. And the process for producing the semiconductor device or the display device comprises the steps of: coating the positive type photosensitive resin composition on a semiconductor device or a member of a display device to be a membrane thickness of 0.1-50 micrometer after heating; prebaking, exposing, developing, and heating.
摘要翻译：目的：提供一种正型感光性树脂组合物，其具有高灵敏度，并且可以使图案无显影残留。还提供了通过使用该组合物制造图案化树脂膜，半导体器件和显示装置的方法。构成：正型感光性树脂组合物包含碱溶性树脂，重氮醌化合物和含有-CH 2 OH且不含酚性氢氧化物的化合物。制造图案化树脂膜的方法包括以下步骤：将正型感光性树脂组合物涂布在基材上以形成组合物层; 将激活的能量束照射在组合物层上并与显影剂接触以形成图案; 加热组合物。制造半导体装置或显示装置的方法包括以下步骤：将正型感光性树脂组合物在加热后的半导体装置或显示装置的部件上涂布成为0.1-50微米的膜厚; 预烘烤，曝光，开发和加热。

2. 发明授权

KR101072953B1 포지티브형 감광성 수지 조성물, 패턴형 수지막의 제조 방법, 반도체 장치, 표시소자, 및 반도체 장치 및 표시소자의 제조 방법 有权
标题翻译：正性工作感光树脂组合物，用于生产图案形成的树脂膜的方法，半导体器件，显示器件及其制造方法和半导体器件及显示器件
公开(公告)号：KR101072953B1
公开(公告)日：2011-10-17
申请号：KR1020110017060
申请日：2011-02-25
申请人： 스미토모 베이클라이트 가부시키가이샤
发明人： 반바도시오 , 이케다다쿠지 , 야노다쓰야 , 히라노다카시
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/0048 , G03F7/0226 , G03F7/0233
摘要： 본발명은 (A)알칼리가용성수지, (B)디아조퀴논화합물및 (C)페놀성수산기를포함하지않고 -CHOH기를포함하는화합물을포함하는포지티브형감광성수지조성물, 상기조성물을이용한패턴형수지막의제조방법, 상기조성물을이용한반도체장치, 및상기반도체장치의제조방법을제공한다. 또한, 본발명은 (A)알칼리가용성수지, (B)디아조퀴논화합물, (D)2종이상의혼합용매를포함하는포지티브형감광성조성물로서, (D)혼합용매는γ-부티로락톤및 프로필렌글리콜모노알킬에테르를포함하며, 상기γ-부티로락톤및 프로필렌글리콜모노알킬에테르의합계량이총 용매량의 70 중량% 이상인포지티브형감광성수지조성물, 상기조성물을이용한패턴형수지막의제조방법, 상기조성물을이용한반도체장치및 표시소자, 및상기반도체장치및 표시소자의제조방법을제공한다.

3. 发明公开

KR1020110027740A 포지티브형 감광성 수지 조성물, 패턴형 수지막의 제조 방법, 반도체 장치, 표시소자, 및 반도체 장치 및 표시소자의 제조 방법 有权
标题翻译：正性工作感光树脂组合物，用于生产图案形成的树脂膜的方法，半导体器件，显示器件及其制造方法和半导体器件及显示器件
公开(公告)号：KR1020110027740A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：KR1020110017060
申请日：2011-02-25
申请人： 스미토모 베이클라이트 가부시키가이샤
发明人： 반바도시오 , 이케다다쿠지 , 야노다쓰야 , 히라노다카시
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/0048 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0223 , G03F7/0125 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/075 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A positive type photosensitive resin composition, including a superior thickness uniformity, a method for manufacturing a pattern type resin film, a display device, a semiconductor device, and a method for manufacturing the semiconductor device and the display device are provided to implement a patterning process without residues. CONSTITUTION: A positive type photosensitive resin composition, represented by a chemical formula 1, includes an alkaline soluble resin, a diazoquinone compound, and two or more kinds of mixed solvents. The alkaline soluble resin includes one or more structures selected from a group including a polybenzoxazole structure, a polybenzoxazole precursor structure, a polyimide structure, a polyimide precursor structure, and a polyamide-acid-ester structure. The mixed solvents include γ-butyrolactone and propylene glycol monoalkyl ether. A solvent with 3.5 or more debyes of dipole moment is additionally included in the mixed solvents.
摘要翻译：目的：提供具有优异的厚度均匀性的正型感光性树脂组合物，图案型树脂膜的制造方法，显示装置，半导体装置以及半导体装置及显示装置的制造方法，以实现无残留的图案化工艺。构成：由化学式1表示的正型感光性树脂组合物包含碱溶性树脂，重氮醌化合物和两种以上混合溶剂。碱溶性树脂包括一种或多种选自包括聚苯并恶唑结构，聚苯并恶唑前体结构，聚酰亚胺结构，聚酰亚胺前体结构和聚酰胺酸酯结构的结构。混合溶剂包括γ-丁内酯和丙二醇单烷基醚。混合溶剂中还含有3.5倍以上偶极矩的溶剂。

4. 发明授权

KR101059137B1 포지티브형 감광성 수지 조성물, 패턴형 수지막의 제조방법, 반도체 장치, 표시소자, 및 반도체 장치 및표시소자의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101059137B1
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：KR1020040047232
申请日：2004-06-23
申请人： 스미토모 베이클라이트 가부시키가이샤
发明人： 반바도시오 , 이케다다쿠지 , 야노다쓰야 , 히라노다카시
IPC分类号： G03F7/022
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/0048 , G03F7/0226 , G03F7/0233
摘要： 본 발명은 (A)알칼리 가용성 수지, (B)디아조퀴논 화합물 및 (C)페놀성 수산기를 포함하지 않고 -CH
2 OH기를 포함하는 화합물을 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물, 상기 조성물을 이용한 패턴형 수지막의 제조 방법, 상기 조성물을 이용한 반도체 장치, 및 상기 반도체 장치의 제조 방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 (A)알칼리 가용성 수지, (B)디아조퀴논 화합물, (D)2종 이상의 혼합 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 조성물로서, (D)혼합 용매는 γ-부티로락톤 및 프로필렌글리콜모노알킬에테르를 포함하며, 상기 γ-부티로락톤 및 프로필렌글리콜모노알킬에테르의 합계량이 총 용매량의 70 중량% 이상인 포지티브형 감광성 수지 조성물, 상기 조성물을 이용한 패턴형 수지막의 제조 방법, 상기 조성물을 이용한 반도체 장치 및 표시소자, 및 상기 반도체 장치 및 표시소자의 제조 방법을 제공한다.
감광성 수지 조성물, 반도체, 표시소자, 알칼리 가용성 수지, 디아조퀴논 화합물, 혼합 용매

5. 发明公开

KR1020050016162A 폴리아미드 수지, 포지티브형 감광성 수지 조성물, 패턴상수지막의 제조 방법, 반도체 장치, 표시 소자, 및 반도체장치와 표시 소자의 제조 방법 无效
标题翻译：聚酰胺树脂，包含它们的正型感光性树脂组合物，图案形成的树脂膜，半导体器件和包含组合物的显示器件，其制造方法
公开(公告)号：KR1020050016162A
公开(公告)日：2005-02-21
申请号：KR1020040061659
申请日：2004-08-05
申请人： 스미토모 베이클라이트 가부시키가이샤
发明人： 반바도시오 , 히라노다카시
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/039 , C08L77/00
CPC分类号： C08G69/42 , C08G77/455 , G03F7/0233 , G03F7/0757
摘要： PURPOSE: Provided are a polyamide resin for the preparation of a positive photosensitive resin composition having excellent resistance to hydrofluoric acid and development property, a pattern-formed resin film, a semiconductor device and a display device using the composition, and a manufacturing method thereof. CONSTITUTION: The polyamide resin comprises a structure of the formula 1, wherein about 0.1-30 mol% of the total amount of Y has a structure of the formula 2. In the formulae 1 and 2, X is a 2-4 valent organic group, Y is a 2-6 valent organic group, R1 is a hydroxyl group or -O-R3, m is an integer of 0-2, R2 is a hydroxyl group, a carboxy group, -O-R3 or -COO-R3, n is an integer of 0-4, R3 is a C1-C15 organic group, with the proviso that if R1 is not a hydroxyl group, then at least one of R2 is a carboxy group and if R2 is not a carboxy group, then at least one of R1 is a hydroxyl group, each of R4 and R5 is a divalent organic group, each of R6 and R7 is a monovalent organic group, and n is an integer of 0-20. The positive photosensitive resin composition comprises such polyamide resin, a photosensitive diazoquinone compound and optionally a phenolic hydroxyl group-containing compound.
摘要翻译：目的：提供一种用于制备耐氢氟酸和显影性优异的正型感光性树脂组合物的聚酰胺树脂，图案形成树脂膜，半导体装置和使用该组合物的显示装置及其制造方法。构成：聚酰胺树脂包括式1的结构，其中Y的总量的约0.1-30mol％具有式2的结构。在式1和2中，X是2-4价有机基团 Y为2-6价有机基团，R1为羟基或-O-R3，m为0-2的整数，R2为羟基，羧基，-O-R3或-COO-R3 ，n为0-4的整数，R3为C1-C15有机基团，条件是如果R1不是羟基，则R2中的至少一个是羧基，如果R2不是羧基，那么R1中的至少一个是羟基，R 4和R 5各自是二价有机基团，R 6和R 7各自是一价有机基团，n是0-20的整数。正型感光性树脂组合物包含这种聚酰胺树脂，感光性重氮醌化合物和任选的含酚羟基的化合物。

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