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1. 发明公开

KR1020140032080A 과산화수소 민감성 금속 나노 입자, 그의 제조 방법 및 그를 포함하는 과산화수소 검출 시스템 审中-实审
标题翻译：过氧化氢敏感金属纳米粒子，其生产方法和包含该过程的过氧化氢检测系统
公开(公告)号：KR1020140032080A
公开(公告)日：2014-03-14
申请号：KR1020120098418
申请日：2012-09-05
申请人： 삼성전자주식회사 , 포항공과대학교 산학협력단
发明人： 임규현 , 박노경 , 허재현 , 김성지 , 남주택 , 박성호 , 정상화
IPC分类号： B22F1/00 , B82B3/00 , B22F9/24 , G01N25/00
CPC分类号： G01N21/59 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01G7/00 , G01N21/25 , G01N2021/5903 , Y10S977/70 , Y10S977/773 , Y10S977/81 , Y10S977/896 , Y10S977/915 , Y10S977/92 , Y10T428/2982 , Y10T436/20 , Y10T436/206664
摘要： The present invention provides hydrogen peroxide sensitive metal nanoparticles containing metal nanoparticles containing a biocompatibility metal and hydrogen peroxide reacting ions which can be oxidized by hydrogen peroxide. The metal nanoparticles contains metal or silica coated with metal.
摘要翻译：本发明提供含有金属纳米颗粒的过氧化氢敏感性金属纳米颗粒，其含有可被过氧化氢氧化的生物相容性金属和过氧化氢反应离子。金属纳米粒子含有涂有金属的金属或二氧化硅。

2. 发明授权

KR102005446B1 과산화수소 민감성 금속 나노 입자, 그의 제조 방법 및 그를 포함하는 과산화수소 검출 시스템 有权
公开(公告)号：KR102005446B1
公开(公告)日：2019-07-31
申请号：KR1020120098418
申请日：2012-09-05
申请人： 삼성전자주식회사 , 포항공과대학교 산학협력단
发明人： 임규현 , 박노경 , 허재현 , 김성지 , 남주택 , 박성호 , 정상화
IPC分类号： B22F1/00 , B82B3/00 , B22F9/24 , G01N25/00

3. 发明授权

KR101909397B1 유도 용질 전처리 과정을 포함하는 정삼투-역삼투 하이브리드 담수화 시스템 및 방법 有权
公开(公告)号：KR101909397B1
公开(公告)日：2018-10-17
申请号：KR1020170160193
申请日：2017-11-28
申请人： 포항공과대학교 산학협력단
发明人： 이상준 , 김기웅 , 박성호
IPC分类号： B01D61/00 , B01D61/58 , B01D61/02 , C02F1/44 , C02F103/08
CPC分类号： B01D61/005 , B01D61/025 , B01D61/58 , C02F1/441 , C02F1/445 , C02F2103/08
摘要： 일실시예에따르면정삼투-역삼투하이브리드담수화시스템은, 폐수로부터정삼투공정을통하여, 상기폐수에포함된담수를유도하기위한유도용액을포함하는정삼투유닛; 상기정삼투유닛으로부터희석된유도용액의적어도일부를유입받고, 역삼투공정을통하여, 전처리된유도용액을생성하는전처리유닛; 및상기정삼투유닛으로부터희석된유도용액의나머지와, 상기전처리유닛으로부터전처리된유도용액을유입받고, 역삼투공정을통하여, 담수를생성하는역삼투유닛을포함할수 있다.

4. 发明授权

KR101984693B1 환원 그래핀 옥사이드의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101984693B1
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：KR1020120027329
申请日：2012-03-16
申请人： 삼성전자주식회사 , 성균관대학교산학협력단
发明人： 박성호 , 유상훈 , 장호영
IPC分类号： C01B31/02 , H01B5/14 , H01L31/042

5. 发明授权

KR101662228B1 투명한 연결배선을 구비한 이미지 센서 有权
标题翻译：具有透明互连的图像传感器
公开(公告)号：KR101662228B1
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：KR1020090128346
申请日：2009-12-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 전상훈 , 송이헌 , 박성호 , 김창정 , 허지현
IPC分类号： H01L27/146
摘要： 투명한연결배선을구비한이미지센서들에관하여개시된다. 개시된이미지센서는, 픽셀어레이로서각 픽셀은포토다이오드와, 상기포토다이오드에연결되어상기포토다이오드로부터측정된신호를출력하는회로를구성하는복수의트랜지스터와, 상기복수의트랜지스터및 상기포토다이오드에연결되며, 상기포토다이오드상에형성된투명한물질로된 콘택플러그들과연결배선들을구비한다. 상기연결배선및 콘택플래그는투명전도성산화물층및 투명금속층으로이루어진복수의층으로형성된다.

6. 发明授权

KR101643376B1 광센서를 이용한 리모트 터치 패널 및 이를 구비하는 리모트 터치 스크린 장치 有权
标题翻译：远程触摸屏使用光传感器和遥控触摸屏设备
公开(公告)号：KR101643376B1
公开(公告)日：2016-07-28
申请号：KR1020100030509
申请日：2010-04-02
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박성호 , 전상훈 , 송이헌 , 김창정 , 안승언
IPC分类号： G06F3/042
CPC分类号： G06F3/0386 , G06F3/0412
摘要： 광센서를이용한리모트터치패널및 이를구비하는리모트터치스크린장치가개시된다. 개시된리모트터치패널은예컨대광민감성산화물반도체(light-sensitive oxide semiconductor)와전극을포함하는광센서를이용한다. 이러한리모트터치패널은, 손과펜 등의직접터치가어려운대형디스플레이를원거리에서터치하듯이제어할수 있다. 예를들어, 레이저포인터등과같은간단한광원장치를이용하여, 마치모니터를보면서마우스로컴퓨터를제어하듯이대형디스플레이장치를손쉽게제어할수 있다.

7. 发明授权

KR101641063B1 단말 제어 장치 및 방법 有权
标题翻译：用于控制终端的装置和方法
公开(公告)号：KR101641063B1
公开(公告)日：2016-07-22
申请号：KR1020090025760
申请日：2009-03-26
申请人： 삼성전자주식회사 , 더 보드 어브 트러스티스 어브 더 리랜드 스탠포드 주니어 유니버시티
发明人： 박준아 , 수쿠마란,애브헤이 , 머래이,캐서린 , 방원철 , 나스,크리포드 , 박성호
IPC分类号： G06F3/041 , G06F3/14 , H04B1/40
CPC分类号： H04M1/72583 , G06F3/04883 , G06F3/04886 , H04M2250/22
摘要： 단말제어장치및 방법이개시된다. 단말제어장치는단말의디스플레이(display) 외부에가상디스플레이공간을설정하고, 상기가상디스플레이공간에적어도하나이상의파일을매핑함으로써, 단말의디스플레이영역을외부영역으로확장할수 있다.

8. 发明公开

KR1020160066899A 비아 구조체 및 배선 구조체를 갖는 반도체 소자 제조 방법 审中-实审
标题翻译：制造具有结构和互连结构的半导体器件的方法
公开(公告)号：KR1020160066899A
公开(公告)日：2016-06-13
申请号：KR1020140172284
申请日：2014-12-03
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 시우용콩 , 박성호
IPC分类号： H01L21/3205 , H01L21/28
CPC分类号： H01L21/76844 , H01L21/76847 , H01L21/76849 , H01L21/76879 , H01L23/5226 , H01L23/53238 , H01L23/53266 , H01L21/3205 , H01L21/28 , H01L21/32051
摘要： 하부층간절연층, 및상기하부층간절연층과공면을갖는전도성베이스구조체를형성하고, 상기하부층간절연층 및상기베이스구조체를덮는중간층간절연층을형성하고, 상기중간층간절연층을수직으로관통하여상기베이스구조체의상면을노출시키는비아홀 및상기비아홀과수직으로정렬하는배선트렌치를형성하고, 상기비아홀의측벽상의비아배리어층, 및상기배선트렌치의바닥면 및측벽상의배선배리어층을형성하되, 상기비아배리어층은상기베이스구조체의상기상면상에형성되지않고, 상기비아배리어층 상에상기비아홀을채우는비아플러그를형성하고, 상기배선트렌치의바닥면 및측벽상의상기배선배리어층 및상기비아플러그의상면상에씨드층을형성하고, 상기씨드층 상에배선전극을형성하고, 및상기배선전극상에배선캡핑층을형성하는것을포함하는반도체소자제조방법이설명된다.
摘要翻译：本发明涉及具有通孔结构和布线结构的半导体器件的制造方法。该制造方法包括以下步骤：形成具有下层绝缘层和共面表面的导电基底结构到下层绝缘层; 形成覆盖下层绝缘层和基体结构的中间层绝缘层; 形成布置沟槽，其布置通过垂直贯穿中间层绝缘层和通孔而露出基部结构的上表面的通孔; 形成通孔，其填充通孔阻挡层上的通孔，该通孔在通孔的侧壁和通孔阻挡层的侧壁和底表面上形成布线阻挡层，而不形成通孔阻挡层在基部结构的上表面上; 在布线沟槽的侧壁和底表面上的通孔插塞和布线阻挡层的上表面上形成种子层; 在种子层上形成布线电极; 以及在所述布线电极上形成布线覆盖层。本发明的目的是提供一种具有通孔结构和布线结构的半导体器件的制造方法。

9. 发明授权

KR101547326B1 트랜지스터 및 그 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101547326B1
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：KR1020080122388
申请日：2008-12-04
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박성호 , 김창정 , 송이헌 , 김상욱 , 박재철
IPC分类号： H01L21/336 , H01L29/78
摘要： 트랜지스터 및 그 제조방법에 관해 개시되어 있다. 개시된 트랜지스터는 산화물반도체로 형성된 채널층 및 3차원 구조의 게이트를 포함할 수 있다. 복수의 상기 트랜지스터가 기판에 수직한 방향으로 적층될 수 있다. 상기 복수의 트랜지스터 중 적어도 일부는 서로 연결될 수 있다.

10. 发明公开

KR1020150057586A 간섭 정렬 기반 주파수 할당 방법 및 이를 위한 송신 장치 审中-实审
标题翻译：用于基于干扰对齐的频率分配的方法和装置
公开(公告)号：KR1020150057586A
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：KR1020130141119
申请日：2013-11-20
申请人： 삼성전자주식회사 , 고려대학교 산학협력단
发明人： 박성호 , 고영채 , 김명진
IPC分类号： H04L27/26
CPC分类号： H04W72/082 , H04W72/02 , H04W72/042 , H04W72/0453
摘要： 본발명은간섭채널에서의주파수할당방법및 송신장치에관한것으로서, 기지국이상기다수의단말로파일럿신호를전송하는과정과, 상기기지국이상기다수의단말로부터채널정보와 SIR(Signal to Interference Ratio)에대한피드백정보를수신하는과정과, 상기기지국이상기피드백정보를이용하여간섭정렬에사용할서브캐리어개수와간섭정렬을적용할단말을결정하는과정과, 상기기지국이미리설정된간섭정렬용주파수집합들중에서간섭정렬에사용할주파수집합을선택하고, 각주파수당얻을수 있는최대자유도를이용하여송신프리코딩행렬을생성하는과정과, 상기기지국이상기생성된송신프리코딩행렬을이용하여상기선택한주파수집합의인덱스를상기결정된단말로전송하는과정을포함한다.
摘要翻译：本发明涉及用于干扰信道的频率分配方法和用于这些目的的传输装置。本发明包括以下过程：基站向多个终端发送导频信号的过程; 用于基站从多个终端接收信道信息和信号与干扰比的反馈信息的过程; 用于使用所述反馈信息确定所述基站确定子载波号码和终端以应用干扰对准的过程; 基站用于选择要用于预设频带之外的干扰对准的频带的过程，并且通过使用从每个频率可获得的最大自由度生成传输预编码矩阵; 以及用于基站向终端发送通过传输预编码矩阵选择的频带的索引的过程。

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