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1. 发明公开

KR1020010055439A 반도체 웨이퍼 홀딩 장치 및 그 방법 无效
标题翻译：用于保持半导体波形的装置和方法
公开(公告)号：KR1020010055439A
公开(公告)日：2001-07-04
申请号：KR1019990056648
申请日：1999-12-10
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최명진
IPC分类号： H01L21/68
摘要： PURPOSE: An apparatus and a method for holding a semiconductor wafer are provided to minimize a vacuum loss of a susceptor and a back side deposition of the wafer. CONSTITUTION: The apparatus(10) includes the susceptor(12) on which the wafer(60) is loaded by vacuum force produced by a vacuum generator(20) connected to the susceptor(12) through a vacuum line(22). The apparatus(10) further includes a purge gas supplier(30) connected to the susceptor(12) through a supply line(32) to supply a purge gas. The susceptor(12) has a vacuum groove(14) for applying vacuum force to the wafer(60) and a vent groove(16) for flowing the purge gas to the backside of the wafer(60). The vacuum line(22) and the supply line(32) have respectively the first and second cut-off valves(24,34) sequentially driven by a controller(50). In addition, a pressure switch(40) is placed on the vacuum line(22) between the first cut-off valve(24) and the susceptor(12). The pressure switch(40) reads a pressure of the vacuum line(22) and then sends a feedback signal to the controller(50) when the pressure reaches a specific value. The feedback signal is used for opening the second cut-off valve(34) to drive the purge gas supplier(30).
摘要翻译：目的：提供用于保持半导体晶片的装置和方法，以最小化基座的真空损失和晶片的背面沉积。构成：装置（10）包括基座（12），通过真空发生器（20）通过真空管线（22）连接到基座（12）产生的真空力将晶片（60）装载在基座上。设备（10）还包括通过供应管线（32）连接到基座（12）以提供净化气体的净化气体供应器（30）。基座（12）具有用于向晶片（60）施加真空力的真空槽（14）和用于使净化气体流到晶片（60）的后侧的通气槽（16）。真空管线（22）和供应管线（32）分别具有由控制器（50）依次驱动的第一和第二截止阀（24,34）。此外，压力开关（40）被放置在第一截止阀（24）和基座（12）之间的真空管线（22）上。当压力达到特定值时，压力开关（40）读取真空管线（22）的压力，然后将反馈信号发送到控制器（50）。反馈信号用于打开第二截止阀（34）以驱动净化气体供给器（30）。

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