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1. 发明公开

KR1020080032963A 기판 처리 장치 및 방법 无效
标题翻译：基板处理装置和方法
公开(公告)号：KR1020080032963A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：KR1020060099420
申请日：2006-10-12
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 신동식 , 조귀영 , 이건형 , 최광민 , 김대원
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/68 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67017 , H01L21/67242 , H01L21/673 , H01L21/67739 , H01L21/67778
摘要： A substrate processing apparatus and method are provided to prevent contamination of equipment due to residual gas by measuring gas acidity within a housing. A loading/unloading unit loads or unloads a cassette for receiving a plurality of substrates. A process treatment unit includes at least one process chamber for performing a substrate treatment process. A substrate transfer unit transfers the substrates between the loading/unloading unit and the process treatment unit. An acidity control member is used for controlling air acidity within the substrate transfer unit. The substrate transfer unit includes an EFEM(Equipment Front End Module)(22) for transferring the substrates from the cassette loaded in the loading/unloading unit, a load lock chamber(24) arranged nearly to the EFEM, and a transfer chamber for transferring the substrates between the load lock chamber and the process chamber. The acidity control member is formed at the EFEM to control the air acidity within the EFEM.
摘要翻译：提供了一种基板处理装置和方法，以通过测量壳体内的气体酸度来防止由于残留气体而导致的设备污染。装载/卸载单元加载或卸载用于接收多个基板的盒。工艺处理单元包括用于进行基板处理工艺的至少一个处理室。基板转印单元在装载/卸载单元和处理处理单元之间传送基板。酸性控制构件用于控制衬底转印单元内的空气酸度。基板传送单元包括用于从装载/卸载单元中装载的盒子传送基板的EFEM（设备前端模块）（22），几乎配置在EFEM上的装载锁定室（24）负载锁定室和处理室之间的衬底。在EFEM处形成酸度控制元件，以控制EFEM内的空气酸度。

2. 发明公开

KR1020070044665A 제진대 일체형 기판 검사 장치. 无效
标题翻译：用于波浪检测的装置，包括隔离垫
公开(公告)号：KR1020070044665A
公开(公告)日：2007-04-30
申请号：KR1020050100827
申请日：2005-10-25
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 양재현 , 안요한 , 김대원 , 김현옥 , 최보람 , 조귀영
IPC分类号： H01L21/66
摘要： 외부 진동에 형상을 받지않는 기판 검사 장치에서, 상기 장치는 다이들의 전기적인 특성들을 테스트하기 위한 테스터부와 상기 전기적인 신호들을 각각의 다이에 형성된 전극 패드들에 전달하기 위한 프로버 스테이션과 상기 테스터부, 프로버 스테이션을 수용하는 몸체 및 상기 몸체의 저면에 일체형으로 체결되고, 상기 다이의 전기적 특성의 테스트시 상기 몸체에 가해지는 외부 진동을 완화시키는 제진대를 포함하는 구성을 갖는다. 따라서, 상기 검사 장치는 상기 제진대에 의해 진동의 영향을 받지 않는다.

3. 发明公开

KR1020060041360A 기판 이송 시스템 无效
标题翻译：基板传输系统
公开(公告)号：KR1020060041360A
公开(公告)日：2006-05-12
申请号：KR1020040090425
申请日：2004-11-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 신동식 , 최성환 , 조귀영 , 정홍희
IPC分类号： B65G49/07 , B65G49/05
摘要： 본 발명은 웨이퍼를 수용하는 용기와 공정 설비간에 웨이퍼를 이송하는 기판 이송 시스템에 관한 것이다. 본 발명인 기판 이송 시스템은 기판들이 수용되는 용기가 놓여지는 용기수납부와; 상기 용기수납부와 공정설비 사이에 배치되어, 상기 용기수납부에 놓여진 용기와 상기 공정설비간 기판을 이송하는 이송로봇이 설치되는 크린부스와; 상기 크린부스 천정에 설치되어 상기 크린부스 내부로 청정공기를 제공하는 팬필터유닛을 포함하되; 상기 팬필터유닛은 베이영역으로부터 공기가 유입되는 공기흡입구와, 상기 공기흡입구로의 공기 흡입량을 조절하는 흡입압력조절부를 포함한다.
EFEM, FOUP, 기판 이송 시스템

4. 发明公开

KR1020070058177A 반도체 제조 공정용 클린 룸의 온도 제어 시스템 无效
标题翻译：用于半导体制造工艺的清洁液温度控制系统
公开(公告)号：KR1020070058177A
公开(公告)日：2007-06-08
申请号：KR1020050116512
申请日：2005-12-01
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조귀영 , 김대원 , 양재현 , 김현옥 , 최보람 , 안요한 , 함동석
IPC分类号： H01L21/02
摘要： A temperature control system of a clean room for a semiconductor fabricating process is provided to uniformly spray gas supplied from fan filter units by integrally forming the fan filter units, supports and panels, thereby uniformly adjusting internal temperature of the clean room. Plural fan filter units(110) are provided on a ceiling chamber(104) of a clean room. A panel(130) is installed on a lower end of each fan filter unit to uniformly distribute gas supplied from the fan filter unit into the clean room. Plural supports(120) connect the fan filter units with the panels, and support the panels. The supports are fixed to the panels by plural fixing members(122). The fan filter units, the supports, and the panels are integrally formed.
摘要翻译：提供了一种用于半导体制造工艺的洁净室的温度控制系统，通过一体地形成风扇过滤器单元，支撑件和面板，从而均匀地调节洁净室的内部温度来均匀地喷射从风扇过滤器单元供应的气体。多个风扇过滤器单元（110）设置在洁净室的顶棚室（104）上。每个风扇过滤器单元的下端安装面板（130），以将从风扇过滤器单元供应的气体均匀地分配到洁净室中。多个支撑（120）将风扇过滤器单元与面板连接，并支撑面板。支撑件通过多个固定构件（122）固定到面板上。风扇过滤器单元，支撑件和面板是一体形成的。

5. 发明公开

KR1020070042663A 반도체 기판 가공 장치 无效
标题翻译：用于加工半导体衬底的配件
公开(公告)号：KR1020070042663A
公开(公告)日：2007-04-24
申请号：KR1020050098522
申请日：2005-10-19
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김현옥 , 함동석 , 김대원 , 양재현 , 최보람 , 조귀영
IPC分类号： H01L21/02
摘要： 오염 확산을 효과적으로 억제할 수 있는 반도체 기판 가공 장치는, 프로세스 챔버, 프로세스 챔버에 반도체 기판을 로딩하고 프로세스 챔버로부터 반도체 기판을 언로딩하기 위한 로드락 챔버, 반도체 기판이 수납된 용기를 로드락 챔버에 로딩하고 로드락 챔버로부터 용기를 언로딩하기 위해 로드락 챔버를 개폐하는 로드락 도어 및 로드락 챔버의 외측면에 설치되어 로드락 챔버로부터 누출되는 가스를 흡인하는 흡기 유닛을 포함한다. 흡기 유닛은 일측면에 흡기구가 형성된 사각 프레임 형상을 가질 수 있다. 흡기 유닛은 흡기구가 로드락 도어를 향하도록 로드락 챔버의 외측면 상에 배치되는 석션 캡 및 석션 캡으로부터 연장되어 석션 캡 내부의 공기를 흡인하는 진공 라인을 포함할 수 있다. 로드락 도어를 통하여 누출되는 가스를 가스 등을 신속 및 정확하게 흡인함으로써 클린룸 내부로 오염 물질이 확산되는 것을 최소화시킬 수 있다.

6. 发明公开

KR1020070081043A 필터 테스트 장치 및 방법 无效
标题翻译：用于测试过滤器的装置和方法
公开(公告)号：KR1020070081043A
公开(公告)日：2007-08-14
申请号：KR1020060012752
申请日：2006-02-09
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최광민 , 이건형 , 조창민 , 김하나 , 윤소영 , 오용운 , 조귀영 , 정홍희
IPC分类号： H01L21/02
摘要： A filter test apparatus and a method are provided to test the replacement cycle of a filter by supplying selectively a variety of gases using a gas supply unit with a plurality of gas lines. A filter test apparatus includes a housing, a filter support unit, a gas supply unit and a measurement unit. The housing(10) has an inlet and an outlet. The filter support unit is installed at a portion between the inlet and outlet of the housing. The filter support unit is used for loading a filter capable of filtering particles off a predetermined gas supplied through the inlet. The gas supply unit(30) is connected to the inlet in order to supply a variety of gases to the inlet. The measurement unit is used for measuring the concentration of the gases supplied through the filter. The gas supply unit includes a plurality of gas lines(32a to 32d).
摘要翻译：提供了一种过滤器测试装置和方法，用于通过使用具有多个气体管线的气体供应单元选择性地供应各种气体来测试过滤器的更换周期。过滤器测试装置包括壳体，过滤器支撑单元，气体供应单元和测量单元。壳体（10）具有入口和出口。过滤器支撑单元安装在壳体的入口和出口之间的部分。过滤器支撑单元用于装载能够从通过入口供给的预定气体上的颗粒过滤的过滤器。气体供应单元（30）连接到入口以便向入口提供各种气体。测量单元用于测量通过过滤器供应气体的浓度。气体供给单元包括多条气体管线（32a〜32d）。

7. 发明公开

KR1020070068700A 반도체 설비의 청정실 无效
标题翻译：半导体制造设备的清洁室
公开(公告)号：KR1020070068700A
公开(公告)日：2007-07-02
申请号：KR1020050130627
申请日：2005-12-27
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김대원 , 양재현 , 김현옥 , 조귀영
IPC分类号： H01L21/02
摘要： A clean room for semiconductor equipment is provided to reduce a set-up time of the equipment and to minimize contaminants in the clean room by restraining the generation of contamination due to particles using a door. A clean room for semiconductor equipment includes a process region, a service region, and a working region. The process region includes a plurality of bays installed with semiconductor manufacturing apparatuses capable of performing predetermined processes. The service region is used for performing the retention of the semiconductor manufacturing apparatus. The working region is used for performing a predetermined work. The clean room further includes a door(400) capable of opening/closing an opening portion(130), wherein the opening portion is formed between the bay of the process region and the service region.
摘要翻译：提供了一种用于半导体设备的洁净室，以减少设备的设置时间，并通过限制由于使用门的颗粒的污染而产生污染，从而最小化洁净室中的污染物。半导体设备的洁净室包括处理区域，服务区域和工作区域。处理区域包括多个安装有能够执行预定处理的半导体制造装置的托架。服务区域用于执行半导体制造装置的保持。工作区域用于执行预定的工作。洁净室还包括能够打开/关闭开口部分（130）的门（400），其中开口部分形成在处理区域的间隔和服务区域之间。

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