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1. 发明公开

KR1020140037665A 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 금속 패턴의 형성 방법 审中-实审
标题翻译：光刻胶组合物和形成金属图案的方法
公开(公告)号：KR1020140037665A
公开(公告)日：2014-03-27
申请号：KR1020120104102
申请日：2012-09-19
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김정원 , 강민 , 김봉연 , 주진호 , 김동민 , 김태균 , 박주경 , 박철원 , 우준혁 , 이원영 , 이현주 , 제갈은
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/022 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/022 , B05D3/107 , B21B27/10 , B21B45/02 , G03F7/00 , G03F7/0045 , G03F7/40 , G03F7/0047 , G03F7/20 , G03F7/26
摘要： According to the disclosed method for forming a metal pattern, a metal layer is formed on the base substrate. A coating layer is formed by coating a photoresist composition comprising binder resin, photosensitizer, mercaptopropionic acid compound, and solvent, on the metal layer. The coating layer is light-exposed. A photoresist pattern is formed by partially removing the coating layer. The photoresist pattern is used as a mask to have patterning at the metal layer. The photoresist composition can improve the adhesion to the metal layer.
摘要翻译：根据所公开的形成金属图案的方法，在基底基板上形成金属层。通过在金属层上涂布包含粘合剂树脂，光敏剂，巯基丙酸化合物和溶剂的光致抗蚀剂组合物来形成涂层。涂层被曝光。通过部分去除涂层形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案用作掩模以在金属层上具有图案化。光致抗蚀剂组合物可以改善与金属层的粘合性。

2. 发明授权

KR102248240B1 표시장치 및 그 제조방법 有权
公开(公告)号：KR102248240B1
公开(公告)日：2021-05-06
申请号：KR1020140015334
申请日：2014-02-11
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 김봉연 , 심승보 , 이동언 , 우준혁
IPC分类号： G09F9/00 , G03F1/00 , H01L21/027
摘要： 기판; 상기기판상에배치된게이트배선및 데이터배선; 상기기판상에형성되며, 상기게이트배선및 데이터배선과연결된박막트랜지스터; 상기박막트랜지스터와연결된화소전극; 및상기기판상에배치된절연층을포함하고, 상기절연층은접촉구멍을구비하고, 상기접촉구멍에서절연층은 60도내지 90도의테이퍼각을갖는표시장치를제공한다.

3. 发明授权

KR102033389B1 어시스트 패턴을 포함하는 마스크 有权
公开(公告)号：KR102033389B1
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：KR1020190026680
申请日：2019-03-08
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 김봉연 , 강민 , 심승보 , 이종광 , 주진호 , 김정원 , 김태균 , 박철원 , 우준혁 , 이현주
IPC分类号： G02F1/13 , G03F1/42 , H01L21/027

4. 发明授权

KR101958355B1 어시스트 패턴을 포함하는 마스크 有权
公开(公告)号：KR101958355B1
公开(公告)日：2019-07-03
申请号：KR1020120054485
申请日：2012-05-22
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 김봉연 , 강민 , 심승보 , 이종광 , 주진호 , 김정원 , 김태균 , 박철원 , 우준혁 , 이현주
IPC分类号： G02F1/13 , G03F7/20 , H01L21/027

5. 发明授权

KR101898921B1 노광 시스템 이를 이용한 패턴 형성 방법 및 표시 기판의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101898921B1
公开(公告)日：2018-09-17
申请号：KR1020110119742
申请日：2011-11-16
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 이종광 , 강민 , 주진호 , 김봉연
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/26 , G03F7/00
CPC分类号： G03F7/70575 , G03F1/30 , G03F7/70283
摘要： 노광시스템은노광기및 위상변이마스크를포함한다. 노광기는서로다른두 개이상의파장을가진복합파장의광을발생한다. 위상변이마스크는복합파장의광을수신하는제1 면및 제1 면에대향하는제2 면을포함하고제2 면에홈이형성된투명기판, 및제2 면상에배치되고제2 면을노출하는제1 개구및 제1 개구와이격되어홈을노출하는제2 개구가형성된차광층을포함한다. 따라서, 표시패널의표시기판에미세패턴을형성할수 있다.

6. 发明授权

KR101875771B1 노광용 마스크, 그 제조 방법 및 그 마스크를 이용한 기판의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101875771B1
公开(公告)日：2018-07-09
申请号：KR1020110128486
申请日：2011-12-02
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 연세대학교 산학협력단
发明人： 이종광 , 강민 , 주진호 , 김봉연 , 공향식 , 김경식 , 백승화
IPC分类号： G03F1/38 , G03F1/68
CPC分类号： G03F1/50 , G03F1/38 , G03F7/70575
摘要： 본발명은기판; 상기기판위에형성되어있으며, 빛을투과시키지않는물질로형성되어있는불투명층패턴; 상기기판및 상기불투명층패턴위에형성되어있는제1 유전체층; 및상기제1 유전체층위에형성되어있는음굴절율메타물질층을포함하며, 상기노광용마스크에서사용하는분산모드는 Quasi bound 모드를사용하는노광용마스크, 노광용마스크의제조방법및 노광용마스크를이용한기판의제조방법에대한발명이다.

7. 发明公开

KR1020150093891A 반사형 편광판의 제조방법 및 반사형 편광판을 구비한 표시장치 审中-实审
标题翻译：反射极化板的制造方法和具有反射极化板的显示装置
公开(公告)号：KR1020150093891A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：KR1020140014167
申请日：2014-02-07
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 김태우 , 김철규 , 강민 , 강민혁 , 김봉연 , 박승원 , 이문규
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/3058 , B82Y20/00 , G02B5/3041 , Y10S977/762
摘要： 본 발명의 실시예에 의한 반사형 편광판의 제조방법은, 개구영역 및 비개구영역이 정의된 기판 상에 금속층, 제1 격벽층 및 희생층을 순차적으로 형성하는 단계와; 상기 개구영역의 희생층 상에 제1 높이를 가지면서 상호 이격되는 복수의 제1 포토 마스크 패턴들을 형성함과 아울러, 상기 비개구영역의 희생층 상에 상기 제1 높이보다 큰 제2 높이를 갖는 제2 포토 마스크 패턴을 형성하는 단계와; 상기 제1 및 제2 포토 마스크 패턴들을 마스크로 하여 상기 개구영역의 희생층을 선택적으로 식각함에 의해 복수의 희생층 패턴들을 형성하는 단계와; 상기 제1 포토 마스크 패턴들을 제거함과 아울러, 상기 제2 포토 마스크 패턴의 일부만을 제거하는 단계와; 상기 희생층 패턴들이 형성된 기판 상에 제2 격벽층을 형성하고, 이를 이방성 식각함에 의해 상기 희생층 패턴들의 측벽을 따라 형성되는 복수의 제1 격벽들을 형성한 후, 상기 개구영역의 희생층 패턴들만을 선택적으로 제거하는 단계와; 상기 제1 격벽들 사이의 공간에 대응하는 그리드 패턴 영역에 공중합체층을 형성한 후 패터닝함에 의해 상호 이격된 다수의 그리드 패턴들을 형성하는 단계와; 상기 그리드 패턴들을 이용하여 상기 개구영역의 금속층을 패터닝함에 의해, 상기 개구영역에 상호 이격되어 배열되는 다수의 나노 와이어 패턴들과 상기 비개구영역의 금속막으로 구성되는 와이어 그리드 편광자를 형성하는 단계;를 포함한다.
摘要翻译：制造反射式偏振片的方法包括以下步骤：在限定了开口面积和非开口面积的基片上依次形成元层，第一分隔壁层和牺牲层; 形成彼此分离的多个第一光掩模图案，同时在所述开口区域的所述牺牲层上具有第一高度，以及形成在所述非开口区域的所述牺牲层上具有高于所述第一高度的第二高度的第二光掩模图案; 通过使用第一和第二光掩模图案作为掩模来选择性地蚀刻开口区域的牺牲层来形成多个牺牲图案; 去除第一光掩模图案并仅去除第二光掩模图案的一部分; 在其上形成有牺牲层图案的基板上形成第二分隔壁层，通过各向异性蚀刻第二分隔壁层形成沿着牺牲层图案的侧壁形成的多个第一分隔壁，然后仅选择性地除去牺牲层图案的开放区域; 在对应于第一分隔壁之间的空间的网格图案区域中的共聚物层，然后通过图案化形成彼此分离的多个网格图案; 并且通过使用网格图案来形成通过使开口区域的金属层图案化而形成布置成在开口区域中彼此分离的多个纳米线图案和由非开口区域的金属膜形成的线栅偏振片。

8. 发明授权

KR102006270B1 노광 시스템 이를 이용한 패턴 형성 방법 및 표시 기판의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102006270B1
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：KR1020180106363
申请日：2018-09-06
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 강민 , 이종광 , 주진호 , 김봉연
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/26 , H01L21/027

9. 发明公开

KR1020160070888A 위상 반전 마스크, 이의 제조 방법 및 미세 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：相移片，其制造方法和形成微图案的方法
公开(公告)号：KR1020160070888A
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：KR1020140177484
申请日：2014-12-10
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 손용 , 강민 , 김봉연 , 이현주 , 주진호
IPC分类号： G03F1/29 , G03F1/68
CPC分类号： G03F1/54 , G03F1/32 , G03F1/29 , G03F1/68 , Y10S438/948
摘要： 투명기판; 상기투명기판상에배치되고, 상기투명기판을투과하는광의위상을변화시키는위상전이패턴; 및상기위상전이패턴의표면중 적어도일부상에배치된금속코팅막을포함하는본 발명의일 실시예에따른위상차반전마스크가개시된다.
摘要翻译：公开了相移掩模及其制造方法以及形成微图案的方法。根据本发明的一个实施例的相移掩模包括：透明基板; 相移图案，其设置在所述透明基板上，并且改变穿透透明基板的光的相位; 以及设置在所述相移图案的表面中的至少部分相位上的金属涂膜。

10. 发明公开

KR1020160017292A 노광용 마스크, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 기판의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于光刻机的掩模，其制造方法和使用其制造基板的方法
公开(公告)号：KR1020160017292A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：KR1020140099687
申请日：2014-08-04
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 연세대학교 산학협력단
发明人： 손용 , 강민 , 김봉연 , 이현주 , 공향식 , 주진호 , 김경식 , 백승화
IPC分类号： G03F1/26 , G03F1/38
CPC分类号： G03F1/26 , G03F1/32 , G03F1/50
摘要： 노광용마스크는투명기판, 상기투명기판상에배치되고, 광의위상을변화시키는위상시프트패턴, 상기위상시프트패턴이배치된상기투명기판상에배치되는유전체층, 및상기유전체층상에배치되는음굴절율메타물질층을포함한다. 기판을제조하는방법은포토레지스트층이형성된기판상에상기노광용마스크를상기기판과마주보도록위치시키는단계, 상기노광용마스크를통해상기포토레지스트층에광이전달되며, 상기유전체층및 상기음굴절율메타물질층으로인하여발생되는플라즈모닉공명또는음향양자공명으로인하여상기광의소산파가소멸하지않고상기포토레지스트층로전달되는단계, 및현상액을이용하여상기포토레지스트층을현상하여포토레지스트패턴을형성하는단계를포함한다.
摘要翻译：曝光用掩模包括：透明基板; 设置在所述透明基板上的相变图案，并且改变光的相位; 介电层，其布置在其中设置有相移图案的透明基板上; 和在介电层上的负折射率超材料层。衬底的制造方法包括以下步骤：将掩模定位在其上形成光致抗蚀剂层的衬底上以暴露于面对衬底; 通过掩模将光转移到光致抗蚀剂层以进行曝光，并将光的消逝波转移到光致抗蚀剂层，其中由于由介电层产生的等离子体共振或声子共振，光的ev逝波不消失折射率偏光材料层。

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