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1. 发明公开

KR1020160025125A 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 유기막을 포함하는 표시장치 审中-实审
标题翻译：包含使用其制造的有机层的感光性树脂组合物和显示装置
公开(公告)号：KR1020160025125A
公开(公告)日：2016-03-08
申请号：KR1020140111494
申请日：2014-08-26
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 강훈 , 박철원 , 정양호 , 김재성 , 주진호 , 김종백 , 박한우 , 백기범 , 양돈식 , 임민주
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/085
CPC分类号： G03F7/033 , C07D409/12 , C07D498/04 , C08F2/50 , C08L79/08 , G03F7/0045 , G03F7/0233 , G03F7/027
摘要： 본발명의일 실시예는감광성수지조성물, 이를이용하여만들어진유기막을포함하는표시장치를제공한다.
摘要翻译：提供一种感光性树脂组合物和包含通过使用该有机膜的有机膜的显示装置。为此，感光性树脂组合物包含：5-50重量％的粘合剂树脂; 0.01-10重量％的光酸产生剂; 0.01-2重量％的偶联剂; 和残留溶剂。更具体地说，提供一种确保生产与具有硅酮基表面的基材具有优异粘合性的有机膜的感光性树脂组合物。

2. 发明授权

KR102122075B1 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 유기막을 포함하는 표시장치 有权
公开(公告)号：KR102122075B1
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：KR1020140111494
申请日：2014-08-26
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 강훈 , 박철원 , 정양호 , 김재성 , 주진호 , 김종백 , 박한우 , 백기범 , 양돈식 , 임민주
IPC分类号： G03F7/033 , C07D498/04 , G03F7/004 , G03F7/023 , C08F2/50 , C08L79/08 , C07D409/12 , G03F7/027

3. 发明授权

KR101812764B1 하드마스크용 조성물 有权
标题翻译：硬面膜的构成
公开(公告)号：KR101812764B1
公开(公告)日：2017-12-27
申请号：KR1020170045889
申请日：2017-04-10
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최한영 , 양돈식 , 양진석 , 박근영
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/11
摘要： 본발명은하드마스크용조성물에관한것으로서, 하드마스크용조성물은파이렌계열단위또는카바졸계열단위중 적어도하나를포함하는제1 단위, 및톨릴기또는비페닐기를함유하는제2 단위를포함하는중합체, 및용매를포함한다. 하드마스크용조성물로부터내에칭성, 용해성및 평탄성이동시에향상된하드마스크가형성될수 있다.
摘要翻译：本发明是包括含有硬掩模组合物的第二单元，基于芘单元或咔唑第一单元中的串联单元，mittol基或联苯基的包括至少一个涉及一种用于硬掩模组合物的聚合物和一种溶剂。可以形成与硬掩模用组合物同时具有改善的蚀刻性，溶解性和平坦性的硬掩模。

4. 发明公开

KR1020170123882A 하드마스크용 조성물 审中-实审
标题翻译：硬面膜的构成
公开(公告)号：KR1020170123882A
公开(公告)日：2017-11-09
申请号：KR1020160053115
申请日：2016-04-29
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최한영 , 양돈식 , 김상태 , 성시진
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/11
摘要： 본발명은하드마스크용조성물에관한것으로서, 보다상세하게는탄소수 1 내지 25인알데히드화합물, 탄소수 1 내지 25인디올및 탄소수 1 내지 25인디올화합물중 적어도하나와아세틸렌기를함유하는카바졸계화합물의, 축합반응으로제조되는중합체및 용매를포함함으로써, 우수한내열성, 고온내열성및 코팅균일성을가지는레지스트하층막(하드마스크)을형성할수 있다.
摘要翻译：含有硬的咔唑类化合物的发明涉及一种组合物用于面罩，更具体地，1至25中醛化合物的碳原子数，具有1至25印醇和具有1至25的指示来与所述化合物中的至少一种乙炔基，通过包括聚合物和由缩合反应制备的溶剂，形成抗蚀剂具有优异的耐热性，可以在（硬掩模）形成的高温的耐热性和涂层均匀性下层膜。

5. 发明授权

KR101026948B1 화학증폭형 포지티브형 레지스트 조성물 有权
标题翻译：化学放大型积极光电组合物
公开(公告)号：KR101026948B1
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：KR1020040061572
申请日：2004-08-05
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 김상태 , 다카하시켄지 , 성시진 , 양돈식 , 박한우
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
摘要： 본 발명은 하기 화학식 1 로 표시되는 수지와 하기 화학식 2 로 표시되는 광산 발생제와 화학식 3 으로 표시되는 첨가제를 함유하는 화학증폭형 포지티브형 레지스트 조성물에 관한 것이다.

[식 중,
R
1 : H 또는 CH
3 ,
R
2 : H, 탄소수 1 ~ 6의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기,
R
3 : 탄소수 1 ~ 10의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기,
R
4 : 탄소수 1 ~ 10의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기,
a, b, c : 각각 독립적인 자연수로서 하기의 조건을 충족한다.
0.10 ≤( a + c )/( a + b + c ) ≤0.50 또는 0.01 ≤c/( a + b + c ) ≤0.40]

(R
5 , R
6 : 탄소수 3 ~ 8의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기)

(식 중, R
7 및 R
8 은 H, 탄소수 1 ~ 6의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기, 또는 알케닐기로 서로 고리화가 될 수도 있음)
본 발명의 화학증폭형 포지티브형 레지스트 조성물은 기판(TiN, SiN 등)의 특성으로 형성되는 스컴을 제거하여 감도, 해상도, 잔막률, 도포성 등의 성능이 양호하고, 특히 프로파일 및 초점심도가 한층더 개량된 패턴 형상을 얻을 수 있다.
화학증폭형 포지티브형 레지스트 조성물

6. 发明公开

KR1020050061640A 화학증폭형 포지티브 레지스트 조성물 无效
标题翻译：化学放大型正电阻组合物
公开(公告)号：KR1020050061640A
公开(公告)日：2005-06-23
申请号：KR1020030092853
申请日：2003-12-18
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 김상태 , 다카하시켄지 , 성시진 , 양돈식 , 박한우
IPC分类号： G03F7/039
摘要： 화학식 1의 광산 발생제 화합물, 화학식 2의 광산 발생제 화합물 및, 본래는 알칼리 수용액에 대해 불용성 또는 난용성이지만 산에 대해 불안정한기가 산의 작용에 의해 해리된 후에는 알칼리 수용액에 대해 가용성으로 되는 수지를 함유하는 화학증폭형 포지티브 레지스트 조성물:

(식에서 R
1 은 탄소수 1~10의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기, 플루오르 알킬기, 또는 할로겐 원자에 의해 임의로 치환된 탄소수 6~11의 아릴기이다).

(식에서 R
2 및 R
3 는 탄소수 3~8의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기이다)

(식에서 R
4 은 H 또는 CH
3 이며
R
5 는 H 또는 탄소수 1~6의 직쇄형, 분기형 또는 고리형알킬기이고
R
6 는 탄소수 1~10의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기이며
a, b, c은 각각 독립적인 자연수로서 하기 조건을 총족하며:
0.10 ≤( a + c ) / ( a + b + c ) ≤0.50 또는 0.01 ≤c / ( a + b + c ) ≤0.40
R
7 은 탄소수 1~10의 직쇄형, 분기형 또는 고리형의 알킬기이다).

7. 发明授权

KR100429455B1 포토레지스트의 에지 비드를 제거하는 세정용액 및 이를이용한 세정방법 失效
标题翻译： 포토레지스트의에지비드를제거하는세정용액및이를이용한세정방
公开(公告)号：KR100429455B1
公开(公告)日：2004-05-04
申请号：KR1020010032590
申请日：2001-06-11
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 송형수 , 김상태 , 강승진 , 김주영 , 박종원 , 성시진 , 양돈식
IPC分类号： G03F7/32
摘要： PURPOSE: A cleanser solution and a cleansing method using the solution are provided, which solution is used to remove the edge bead of a photoresist coated on the circumference of a substrate ununiformly. CONSTITUTION: The cleanser solution comprises 0.1-10 wt% of an alcohol; 0.01-10 wt% of an amine; 0.01-10 wt% of a surfactant; and the balance of deionized water. Preferably the alcohol is at least one selected from the group consisting of methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, cyclohexanol, 1-octanol, 2-octanol, 2-ethylhexanol, 3-chloropropanol, furfuryl alcohol, benzyl alcohol, 1-pentanol, diacetone alcohol, 1-decanol and oleyl alcohol; the amine is selected from the group consisting of methylethylamine, methylamine, dimethylamine, trimethylamine, aniline, toluidine, methylaniline, hydroxylamine, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, ethylamine, diethylamine and triethylamine; the surfactant is a polyoxyethylene derivative emulsion; and the pH of the solution is 10-14. The method comprises the steps of coating a photoresist on the uppermost surface of a substrate; removing the edge bead of the photoresist using the cleanser solution; and exposing and developing the photoresist.
摘要翻译：目的：提供清洁剂溶液和使用该溶液的清洁方法，该溶液用于去除涂布在基材圆周上的光致抗蚀剂的边缘珠粒不均匀。构成：清洁剂溶液包含0.1-10重量％的醇; 0.01-10重量％的胺; 0.01-10重量％的表面活性剂; 和去离子水的平衡。优选醇为选自甲醇，乙醇，正丙醇，异丙醇，正丁醇，异丁醇，仲丁醇，环己醇，1-辛醇，2-辛醇，2-乙基己醇，3-氯丙醇，糠醇，苯甲醇，1-戊醇，双丙酮醇，1-癸醇和油醇; 胺选自甲基乙胺，甲胺，二甲胺，三甲胺，苯胺，甲苯胺，甲基苯胺，羟胺，乙醇胺，二乙醇胺，三乙醇胺，乙胺，二乙胺和三乙胺; 表面活性剂是聚氧乙烯衍生物乳液; 并且该溶液的pH值是10-14。该方法包括以下步骤：在衬底的最上表面上涂覆光刻胶; 使用清洁剂溶液去除光致抗蚀剂的边缘珠粒; 并曝光和显影光致抗蚀剂。

8. 发明公开

KR1020030079324A 알코올과 에테르를 포함하는 새로운 에지 비드 제거용세정 용액 및 이를 이용한 세정 방법 失效
标题翻译：用于去除边缘的新颖的清洁方法，包含醇和其他的清洁方法
公开(公告)号：KR1020030079324A
公开(公告)日：2003-10-10
申请号：KR1020020018284
申请日：2002-04-03
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 송형수 , 김상태 , 강승진 , 성시진 , 양돈식 , 김일호
IPC分类号： C11D3/22
摘要： PURPOSE: Provided is a cleaning solution which can remove the edge beads efficiently so that the processing costs can be saved and the reliability, performance and yield of the semiconductor device produced thereafter can be improved. CONSTITUTION: The cleaning solution for edge bead removing(EBR) comprises: 0.1 to 10 wt% of an alcohol; 0.1 to 10 wt% of an ether; 0.01 to 10 wt% of an amine; 0.01 to 10 wt% of an alkali metal hydroxide; 0 to 10 wt% of a surfactant; and the balance of deionized water, based on 100 wt% of the total composition. The method for removing edge bead comprises the steps of applying a photoresist on the top face of a substrate(10), removing edge beads of the photoresist by using the solution as defined above, and exposing and developing the photoresist to leave the photoresist(20) selectively.
摘要翻译：目的：提供能够有效地除去边缘珠的清洗液，能够节省加工成本，提高其后生产的半导体装置的可靠性，性能和产率。构成：用于边缘珠去除的清洁溶液（EBR）包括：0.1至10重量％的醇; 0.1〜10重量％的醚; 0.01〜10重量％的胺; 0.01〜10重量％的碱金属氢氧化物; 0〜10重量％的表面活性剂; 和去离子水的平衡，基于总组合物的100重量％。用于去除边缘珠的方法包括以下步骤：在基底（10）的顶面上施加光致抗蚀剂，通过使用如上所述的溶液去除光致抗蚀剂的边缘珠，以及曝光和显影光致抗蚀剂以留下光致抗蚀剂（20 ）。

9. 发明公开

KR1020020094164A 포토레지스트의 에지 비드를 제거하는 세정용액 및 이를이용한 세정방법 失效
标题翻译：用于去除光栅边缘的清洁剂解决方案和使用溶液的清洁方法
公开(公告)号：KR1020020094164A
公开(公告)日：2002-12-18
申请号：KR1020010032590
申请日：2001-06-11
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 송형수 , 김상태 , 강승진 , 김주영 , 박종원 , 성시진 , 양돈식
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/32 , G03F7/322 , G03F7/70925 , H01L21/02052 , H01L21/0273 , H01L21/32134
摘要： PURPOSE: A cleanser solution and a cleansing method using the solution are provided, which solution is used to remove the edge bead of a photoresist coated on the circumference of a substrate ununiformly. CONSTITUTION: The cleanser solution comprises 0.1-10 wt% of an alcohol; 0.01-10 wt% of an amine; 0.01-10 wt% of a surfactant; and the balance of deionized water. Preferably the alcohol is at least one selected from the group consisting of methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, cyclohexanol, 1-octanol, 2-octanol, 2-ethylhexanol, 3-chloropropanol, furfuryl alcohol, benzyl alcohol, 1-pentanol, diacetone alcohol, 1-decanol and oleyl alcohol; the amine is selected from the group consisting of methylethylamine, methylamine, dimethylamine, trimethylamine, aniline, toluidine, methylaniline, hydroxylamine, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, ethylamine, diethylamine and triethylamine; the surfactant is a polyoxyethylene derivative emulsion; and the pH of the solution is 10-14. The method comprises the steps of coating a photoresist on the uppermost surface of a substrate; removing the edge bead of the photoresist using the cleanser solution; and exposing and developing the photoresist.
摘要翻译：目的：提供使用溶液的清洁剂溶液和清洁方法，该溶液用于不均匀地除去涂覆在基材周围的光致抗蚀剂的边缘珠粒。构成：清洁剂溶液含有0.1-10重量％的醇; 0.01〜10重量％的胺; 0.01-10重量％的表面活性剂; 和去离子水的平衡。优选醇是选自甲醇，乙醇，正丙醇，异丙醇，正丁醇，异丁醇，仲丁醇，环己醇，1-辛醇，2-辛醇，2-乙基己醇，3-氯丙醇中的至少一种糠醇，苄醇，1-戊醇，双丙酮醇，1-癸醇和油醇; 胺选自甲基乙胺，甲胺，二甲胺，三甲胺，苯胺，甲苯胺，甲基苯胺，羟胺，乙醇胺，二乙醇胺，三乙醇胺，乙胺，二乙胺和三乙胺; 表面活性剂是聚氧乙烯衍生物乳液; 溶液的pH值为10-14。该方法包括以下步骤：在基板的最上表面上涂覆光致抗蚀剂; 使用清洁剂溶液去除光致抗蚀剂的边缘珠; 并且曝光和显影光致抗蚀剂。

10. 发明公开

KR1020170141960A 하드마스크용 조성물 审中-实审
标题翻译：硬面膜的构成
公开(公告)号：KR1020170141960A
公开(公告)日：2017-12-27
申请号：KR1020160075050
申请日：2016-06-16
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최한영 , 양돈식
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/004 , C08G61/02
摘要： 본발명은하드마스크용조성물에관한것으로서, 보다상세하게는특정화학식으로표시되는반복단위를포함하는공중합체및 용매를포함함으로써, 내열성및 평탄성이우수한레지스트하층막(하드마스크)을형성할수 있다.
摘要翻译：本发明涉及用于硬掩模的组合物，更具体地，通过包含共聚物和含有由特定式表示的重复单元的溶剂，可以形成耐热性和平坦性优异的抗蚀剂下层膜（硬掩模）。

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