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1. 发明专利

KR102226116B1 KR102226116B1 - Wire grid polarizer and method for fabricating the same 有权
公开(公告)号：KR102226116B1
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：KR1020140121123A
申请日：2014-09-12
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 곽은애 , 강민혁 , 이문규
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/08 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/3058 , G02F1/133548
摘要： 본 발명의 와이어 그리드 편광자의 제조 방법은 전도성 와이어 패턴층 및 상기 전도성 와이어 패턴층 상에서 트렌치를 형성하는 가이드 패턴이 순차적으로 적층된 기판을 준비하는 단계, 상기 전도성 와이어 패턴층 및 상기 가이드 패턴의 표면을 소수성 처리하는 단계, 상기 트렌치의 상기 소수성 처리된 전도성 와이어 패턴층 상에 중성층을 코팅하는 단계, 상기 트렌치의 상기 중성층 상에 식각률이 상이한 두 가지 단량체의 블록 공중합체를 채우는 단계, 상기 블록 공중합체를 정렬하는 단계, 상기 정렬된 공중합체 중 한 가지 단량체 블록을 선택적으로 제거하는 단계, 및 잔존하는 단량체 블록 및 상기 가이드 패턴을 사용하여 전도성 와이어 패턴층을 패터닝하는 단계를 포함한다.

2. 发明授权

KR102017205B1 나노 구조체의 제조 방법 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 有权
公开(公告)号：KR102017205B1
公开(公告)日：2019-09-03
申请号：KR1020120141737
申请日：2012-12-07
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 고려대학교 산학협력단
发明人： 곽은애 , 강민혁 , 이수미 , 이준한 , 이문규 , 방준하 , 정현중
IPC分类号： B82B3/00 , G03F7/26

3. 发明公开

KR1020140074427A 나노 구조체의 제조 방법 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：制造纳米结构的方法和使用它形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020140074427A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：KR1020120141737
申请日：2012-12-07
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 고려대학교 산학협력단
发明人： 곽은애 , 강민혁 , 이수미 , 이준한 , 이문규 , 방준하 , 정현중
IPC分类号： B82B3/00 , G03F7/26
CPC分类号： C08J7/04 , G03F7/0002 , G03F7/26
摘要： Provided is a method for manufacturing a nanostructure. The method for manufacturing a nanostructure according to an embodiment of the present invention comprises the steps of forming a first thin film comprising a first block copolymer on a substrate; forming guide patterns on the first thin film; forming a second thin film including a second block copolymer between the guide patterns; and curing the second thin film, wherein the first block copolymer has a cylindrical shape, and the second block copolymer has a lamellar shape.
摘要翻译：提供一种纳米结构体的制造方法。根据本发明的实施方案的纳米结构的制造方法包括以下步骤：在基材上形成包含第一嵌段共聚物的第一薄膜; 在第一薄膜上形成引导图案; 在引导图案之间形成包括第二嵌段共聚物的第二薄膜; 并固化所述第二薄膜，其中所述第一嵌段共聚物具有圆柱形形状，并且所述第二嵌段共聚物具有层状形状。

4. 发明公开

KR1020120033583A 블록 공중합체 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：嵌段共聚物及其使用形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020120033583A
公开(公告)日：2012-04-09
申请号：KR1020100095176
申请日：2010-09-30
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 고려대학교 산학협력단
发明人： 이수미 , 강민혁 , 곽은애 , 문봉진 , 방준하 , 이문규 , 정현중
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027 , G02F1/1335
CPC分类号： B81C1/00031 , B81C2201/0149 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C23F1/02 , G03F7/165 , G02F1/1335 , G03F7/0045 , G03F7/0047 , H01L21/027
摘要： PURPOSE: Block copolymer and a pattern forming method using the same are provided to implement the vertical orientation of the block copolymer and pattern small sized areas based on chemical bonds to the surface of a substrate. CONSTITUTION: A pattern forming method is based on ketene-based random copolymer and block copolymer. The method includes the following: the ketene-based random copolymer is applied on a substrate; the ultraviolet ray treatment or thermal treatment is applied to the ketene-based random copolymer; block copolymer is applied on the ketene-based random copolymer; the ultraviolet ray treatment or thermal treatment is applied to the block copolymer; a part of the block copolymer is etched. The ketene-based random copolymer is represented by chemical formula 2.
摘要翻译：目的：提供嵌段共聚物和使用其的图案形成方法，以实现基于化学键的嵌段共聚物和图案小尺寸区域在基材表面上的垂直取向。构成：图案形成方法是基于基于乙烯酮的无规共聚物和嵌段共聚物。该方法包括：将基于乙烯酮的无规共聚物施加在基材上; 对乙烯酮系无规共聚物进行紫外线处理或热处理，嵌段共聚物应用于基于乙烯酮的无规共聚物; 对嵌段共聚物进行紫外线处理或热处理; 一部分嵌段共聚物被蚀刻。基于乙烯酮的无规共聚物由化学式2表示。

5. 发明授权

KR101781517B1 블록 공중합체 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：嵌段共聚物及使用其的图案形成方法
公开(公告)号：KR101781517B1
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：KR1020100095176
申请日：2010-09-30
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 고려대학교 산학협력단
发明人： 이수미 , 강민혁 , 곽은애 , 문봉진 , 방준하 , 이문규 , 정현중
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027 , G02F1/1335
CPC分类号： B81C1/00031 , B81C2201/0149 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C23F1/02 , G03F7/165
摘要： 본발명의한 실시예에따른패턴형성방법은케텐계열랜덤공중합체(ketene based random copolymer)와블록공중합체를이용한다.
摘要翻译：根据本发明实施方案的图案形成方法使用乙烯酮基无规共聚物和嵌段共聚物。

6. 发明授权

KR102226116B1 와이어 그리드 편광자 및 이의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR102226116B1
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：KR1020140121123
申请日：2014-09-12
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 곽은애 , 강민혁 , 이문규
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335 , G02B1/08
摘要： 본발명의와이어그리드편광자의제조방법은전도성와이어패턴층및 상기전도성와이어패턴층상에서트렌치를형성하는가이드패턴이순차적으로적층된기판을준비하는단계, 상기전도성와이어패턴층및 상기가이드패턴의표면을소수성처리하는단계, 상기트렌치의상기소수성처리된전도성와이어패턴층상에중성층을코팅하는단계, 상기트렌치의상기중성층상에식각률이상이한두 가지단량체의블록공중합체를채우는단계, 상기블록공중합체를정렬하는단계, 상기정렬된공중합체중 한가지단량체블록을선택적으로제거하는단계, 및잔존하는단량체블록및 상기가이드패턴을사용하여전도성와이어패턴층을패터닝하는단계를포함한다.

7. 发明授权

KR102146121B1 모기판 어셈블리 제조방법 有权
公开(公告)号：KR102146121B1
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：KR1020140010631
申请日：2014-01-28
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 박승원 , 김태우 , 이문규 , 강민혁
IPC分类号： H01L51/50 , H01L23/544 , H01L27/32

8. 发明授权

KR101606883B1 터치감지장치 有权
标题翻译：触摸感应设备
公开(公告)号：KR101606883B1
公开(公告)日：2016-04-12
申请号：KR1020090088678
申请日：2009-09-18
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 홍원기 , 민지홍 , 이문규 , 남승호 , 김영찬
IPC分类号： G06F3/041 , G06F3/042
CPC分类号： G06F3/0421 , H01L31/167
摘要： 터치감지장치는광원, 광원으로부터발생된광이분포하는광분포부, 광원으로부터발생된광을광분포부측으로가이드하는광가이드부, 광가이드로부터광분포부를통해입사되는광량에대응하여출력신호를생성하는광센싱부, 광가이드부및 광센싱부를연결하여광분포부를정의하며광가이드부에의해광분포부측으로제공되는광을반사하는광반사부, 및광분포부내의터치에대응하여생성되는광센싱부의출력신호를이용하여터치의좌표값을산출하는좌표값생성부를포함한다. 또한, 상기한구조를갖는터치감지장치는광분포부내에동시에발생되는멀티터치의각각의좌표값들을산출하여멀티터치를감지할수 있다.
摘要翻译：响应于入射通过从导光部，光导为朝向光分割抽吸引导，抽吸分割从光源到从光源，光源分布生成用于产生输出信号的光产生的光的吸分光的光的量的触敏设备光感测单元，光导单元和所述光感测定义连接分割抽吸单元和所述导光部的光反射部，用于反射由提供给分光抽吸的光，并且其中在响应中产生的触摸在所述抽吸分光光学感测输出以及坐标值生成单元，用于使用该信号来计算触摸的坐标值。此外，具有上述结构的触敏装置能够通过计算在光分割抽吸的同时产生了多点触摸的各个坐标值来检测多点触摸。

9. 发明公开

KR1020160032777A 패턴 형성 방법 및 이를 이용한 와이어 그리드 편광 소자의 제조방법 审中-实审
标题翻译：使用该方法制造线网偏振器的方法和方法
公开(公告)号：KR1020160032777A
公开(公告)日：2016-03-25
申请号：KR1020140122863
申请日：2014-09-16
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 강민혁 , 곽은애 , 시에레이 , 이문규 , 장형규
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3058 , G03F7/0002
摘要： 본발명은, 더블패터닝(Double Patterning )기술을이용하여비 패턴영역을최소화한가이드패턴을형성하고, 상기가이드패턴의측면의표면특성과상기가이드패턴의사이에서노출된바닥판의표면특성이서로달라지도록각각을선택적으로표면처리한후, 블록공중합체의자기조립특성을활용하여가이드패턴사이에블록공중합체패턴을형성하는패턴형성방법및 이를이용한와이어그리드편광자의제조방법을제공한다.
摘要翻译：本发明涉及一种图案形成方法和使用该线形偏振器的方法，能够通过使用双重图案化形成引导图案，使非图案区域最小化，从而选择性地对引导图案的一侧的表面性质和暴露在引导图案之间的地板镶板的表面特性，使得表面性质变得不同，然后通过使用块的自组装性在引导图案之间形成嵌段共聚物图案共聚物。

10. 发明公开

KR1020150089708A 모기판 어셈블리 제조방법 审中-实审
标题翻译：制造母体基板组件的方法
公开(公告)号：KR1020150089708A
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：KR1020140010631
申请日：2014-01-28
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 박승원 , 김태우 , 이문규 , 강민혁
IPC分类号： H01L51/50 , H01L23/544 , H01L27/32
CPC分类号： G02B5/3058 , G02B1/12 , G02F1/133536 , G02F2001/133548
摘要： 모기판어셈블리를제조하는방법은투명기판의전면상에금속층을형성하고, 금속층상에식각정지층및 포토레지스트층을순차적으로형성한다. 이후, 제1 마스크를이용하여기판영역내의상기포토레지스트층을풀 노광시키고, 표시영역내의상기포토레지스트층을언더노광시키고, 상기비표시영역및 얼라인키 영역을차광시키는노광단계를진행한다. 이어서, 서로다른높이를갖는상기메인및 서브포토레지스트층을형성하고, 기판영역내의상기식각정지층의상면을노출시키는디벨롭단계를진행한다. 상기기판영역내의상기식각정지층 및상기금속층을제거하여상기얼라인키 영역내에얼라인키를형성한다. 상기서브포토레지스트층을식각하여제거하는단계를진행하고, 상기표시영역내의상기식각정지층을제거한후, 상기메인포토레지스트층을스트립하여상기비표시영역및 상기얼라인키 영역을노출시킨다. 그후, 상기표시영역내의상기금속층을식각하여금속나노와이어를형성한다.
摘要翻译：母基板组件的制造方法在透明基板的前表面上形成金属层，并且在金属层上依次形成蚀刻停止层和光致抗蚀剂层。之后，通过使用第一掩模将衬底区域中的光致抗蚀剂层全曝光。显示区域中的光致抗蚀剂层曝光不足。执行屏蔽非显示区域和对准键区域的曝光步骤。之后，形成具有不同高度的主要和次光致抗蚀剂层。执行暴露衬底区域中的蚀刻停止层的上表面的显影步骤。去除蚀刻停止层和衬底区域中的金属层。在对齐键区域中形成对齐键。进行蚀刻除去副光致抗蚀剂层的工序。在去除显示区域中的蚀刻停止层之后，剥去主光致抗蚀剂层以露出非显示区域和对准键区域。之后，对显示区域中的金属层进行蚀刻以形成金属纳米线。

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