专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2012015088A1 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법 审中-公开
标题翻译：用于生产用于液晶显示装置的阵列基板的方法
公开(公告)号：WO2012015088A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/KR2010/005019
申请日：2010-07-30
申请人： 동우 화인켐 주식회사 , 이석 , 최용석 , 윤영진 , 이우람
发明人： 이석 , 최용석 , 윤영진 , 이우람
IPC分类号： G02F1/136 , C09K13/08
CPC分类号： C09K13/08 , G02F1/1362
摘要： 본 발명은 조성물 총 중량에 대하여 a) 과산화수소(H 2 O 2 ) 5 내지 25 중량%; b) 황산 0.1 내지 5 중량%; c) 함불소 화합물 0.01 내지 1.0 중량%; d) 아졸류 화합물 0.1 내지 5 중량%; e) 이미다졸류 화합물 0.1 내지 5 중량%; 및 f) 물 잔량을 포함하는 식각액 조성물을 이용하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种液晶显示装置用阵列基板的制造方法，其特征在于，使用蚀刻液组合物，该组合物相对于组合物的全部重量为a）5〜25重量％的过氧化氢（H2O2）; b）0.1至5重量％的硫酸; c）0.01〜1.0重量％的含氟化合物; d）0.1至5重量％的唑化合物; e）0.1至5重量％的咪唑化合物; 和f）水的平衡。

2. 发明申请

WO2012015089A1 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법 审中-公开
标题翻译：用于制备液晶显示装置的阵列基板的方法
公开(公告)号：WO2012015089A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/KR2010/005020
申请日：2010-07-30
申请人： 동우 화인켐 주식회사 , 최용석 , 이석 , 윤영진 , 이우람
发明人： 최용석 , 이석 , 윤영진 , 이우람
IPC分类号： G02F1/136 , C09K13/08
CPC分类号： H01L29/4908 , H01L27/124 , H01L27/1259
摘要： 본 발명은 조성물 총 중량에 대하여 a) 과산화수소(H 2 O 2 ) 5 내지 25 중량%; b) 유기산 0.1 내지 5 중량%; c) 인산염 화합물 0.1 내지 5 중량%; d) 수용성 시클릭 아민 화합물 0.1 내지 5 중량%; e) 한분자 내에 질소원자와 카르복실기를 갖는 수용성 화합물 0.1 내지 5 중량%; f) 함불소 화합물 0.01 내지 1.0 중량%; g) 다가알코올계 계면할성제 0.001 내지 5 중량%; 및 h) 물 잔량을 포함하는 것을 특징으로 하는 식각액 조성물을 이용한 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及使用蚀刻剂组合物的液晶显示装置中使用的阵列基板的制备方法，所述蚀刻剂组合物包含：a）5-25重量％的过氧化氢（H 2 O 2）; b）0.1-5重量％的有机酸; c）0.1-5重量％的磷酸盐化合物; d）0.1-5重量％的水溶性环胺化合物; e）0.1-5重量％的分子中具有氮原子和羧基的水溶性化合物; f）0.01〜1.0重量％的含氟化合物; g）0.001-5重量％的多元醇类表面活性剂; 和h）基于组合物的总重量的水的平衡。

3. 发明申请

WO2011010879A2 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법 审中-公开
标题翻译：用于制造液晶显示装置的阵列基板的方法
公开(公告)号：WO2011010879A2
公开(公告)日：2011-01-27
申请号：PCT/KR2010/004815
申请日：2010-07-22
申请人： 동우 화인켐 주식회사 , 최용석 , 이석 , 윤영진 , 이현규 , 이우람
发明人： 최용석 , 이석 , 윤영진 , 이현규 , 이우람
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： C23F1/18 , G02F2001/136295
摘要： 본 발명은 조성물의 총 중량에 대해 a) 과산화수소(H 2 O 2 ) 2 내지 30 중량%; b) 질산(HNO 3 ) 0.1 내지 5 중량%; c) 함불소 화합물 0.01 내지 1.0 중량%; d) 아졸류 화합물 0.1 내지 5 중량%; e) 이미다졸류 화합물 0.1 내지 8.0 중량%; 및 f) 물 잔량을 포함하는 것을 특징으로 하는 구리계 금속막의 식각액 조성물을 이용하는 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법에 관한 것입니다.
摘要翻译：本发明涉及使用用于铜基金属膜的蚀刻剂组合物制造用于液晶显示装置的阵列基板的方法，其中蚀刻剂组合物基于蚀刻剂组合物的总重量包括：a）2 至30重量％的过氧化氢（H 2 O 2）; b）0.1〜5重量％的硝酸（HNO 3）; c）0.01〜1.0重量％的氟化合物; d）0.1〜5重量％的唑化合物; e）0.1〜8.0重量％的咪唑化合物; 和f）余下的是水。

4. 发明申请

WO2010090480A3 탄소계 입자/구리로 된 복합재료의 제조방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2010090480A3
公开(公告)日：2010-08-12
申请号：PCT/KR2010/000730
申请日：2010-02-05
申请人： 주식회사 엘지화학 , 이우람 , 김상호 , 박종욱
发明人： 이우람 , 김상호 , 박종욱
IPC分类号： C04B35/52 , C04B35/532 , C04B35/528 , C04B35/571
摘要： 본 발명은 그래파이트와 같은 탄소계 입자와 구리가 서로 혼합된 탄소계 입자/구리 복합재료의 제조방법에 관한 것으로서, (스텝. 1) 주사슬이 탄소로 이루어진 고분자 유기 화합물과 구리 전구체를 용매에 용해시킨 용액을, 탄소계 입자들을 제1 분산매에 분산시킨 분산액과 혼합하여 혼합물을 생성하는 단계; (스텝. 2) 상기 혼합물에 제1 환원제를 투입하여, 탄소계 입자의 표면에 산화제일구리 입자들이 부착된 복합입자들을 형성하는 단계: 및 (스텝. 3) 상기 복합입자들을 비산화성 분위기에서 소성하는 단계를 포함한다. 본 발명의 제조방법에 따르면, 탄소계 입자와 구리가 잘 혼합된 복합재료를 얻을 수 있다.

5. 发明授权

KR101728553B1 오믹 컨택층용 식각액 조성물 有权
公开(公告)号：KR101728553B1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：KR1020100131516
申请日：2010-12-21
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이우람 , 이석 , 이현규 , 이은원
IPC分类号： C09K13/08 , C09K13/06 , H01L21/3213
摘要： 본발명은조성물총 중량에대하여, HO5~30중량%; 함불소화합물 0.01~5중량%; 수용성시클릭아민화합물 0.1~5중량%; 무기산 0.1~10중량%; 및물 잔량을포함하는것을특징으로하는오믹컨택층용식각액조성물에관한것이다.

6. 发明授权

KR101586865B1 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법 有权
标题翻译：液晶显示器阵列基板的制造方法
公开(公告)号：KR101586865B1
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：KR1020090077211
申请日：2009-08-20
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이현규 , 이우람 , 정경섭 , 최용석
IPC分类号： G02F1/136 , H01L29/786
摘要： 본발명은 a)기판상에게이트배선을형성하는단계; b)상기게이트배선을포함한기판상에게이트절연층을형성하는단계; c)상기게이트절연층상에반도체층을형성하는단계; d)상기반도체층상에소스및 드레인전극을형성하는단계; 및 e)상기드레인전극에연결된화소전극을형성하는단계를포함하는액정표시장치용어레이기판의제조방법에있어서, 상기 a)단계는기판상에구리계금속막을형성하고상기구리계금속막을식각액조성물로식각하여게이트배선을형성하는단계를포함하고, 상기 d)단계는반도체층상에구리계금속막을형성하고상기구리계금속막을식각액조성물로식각하여소스및 드레인전극을형성하는단계를포함하며, 상기식각액조성물은, 조성물총 중량에대하여, A)과산화수소(HO) 5 내지 25 중량%, B)함불소화합물 0.01 내지 1.0 중량%, C)아졸화합물 0.1 내지 5 중량%, D)포스폰산유도체및 그의염으로부터선택되는 1종이상의화합물 0.1 내지 10.0 중량% 및 E)잔량의물을포함하는것을특징으로하는액정표시장치용어레이기판의제조방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明提供了一种制造半导体器件的方法，包括：a）在衬底上形成栅极布线; b）在包括栅极布线的基板上形成栅极绝缘层; c）在栅极绝缘层上形成半导体层; d）在半导体层上形成源电极和漏电极; 并且形成连接到所述漏电极的像素电极，其中，所述步骤a）包括在所述衬底上形成铜基金属膜并且在所述蚀刻剂组合物上形成所述铜基金属膜并且通过在半导体层上蚀刻铜基金属膜并且用蚀刻剂组合物蚀刻铜基金属膜以形成源极和漏极来形成栅极布线，（A）5-25重量％的过氧化氢（HO），（B）0.01-1.0重量％的氟化合物，（C）0.1-5重量％的唑类化合物，D）膦酸衍生物和 0.1至10.0重量％的一种或多种选自该盐和E）残余水的化合物。

7. 发明授权

KR101475954B1 액정표시장치용 어레이 기판의 제조 방법 有权
标题翻译：用于液晶显示的阵列基板的制造方法
公开(公告)号：KR101475954B1
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：KR1020080109020
申请日：2008-11-04
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 최용석 , 이석 , 윤영진 , 이우람
IPC分类号： G02F1/136 , C09K13/00
摘要： 본발명은액정표시장치용어레이기판의제조방법에있어서, 게이트전극형성단계는기판상에구리계금속막을형성한후 식각액조성물로식각하여게이트배선을형성하는공정을포함하며, 소스및 드레인전극을형성하는단계는구리계금속막을형성한후 식각액조성물로식각하여소스및 드레인전극을형성하는공정을포함하며, 상기식각액조성물은, 조성물의총 중량을기준으로과산화수소(HO) 5 내지 25 중량%; 유기산 0.1 내지 5 중량%; 인산염화합물 0.1 내지 5 중량%; 수용성시클릭아민화합물 0.1 내지 5 중량%; 한분자내에질소원자와카르복실기를갖는수용성화합물 0.1 내지 5 중량%; 함불소화합물 0.01 내지 1.0 중량%; 아세테이트염화합물 0.1 내지 5.0 중량% 및잔량의물을포함하는것을특징으로하는액정표시장치용어레이기판의제조방법; 상기식각액조성물; 및상기식각액조성물을사용하는구리계금속막의식각방법에관한것이다.

8. 发明公开

KR1020130068779A 광학용 점착제 조성물 无效
标题翻译：胶粘组合物用于光学用途
公开(公告)号：KR1020130068779A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：KR1020110136143
申请日：2011-12-16
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이우람 , 김성민 , 최영식
IPC分类号： C09J4/02 , C09J7/02
CPC分类号： C09J4/00 , C09J7/22 , C09J7/385 , C09J2201/606 , C09J2203/318
摘要： PURPOSE: An optical adhesive composition is provided to prevent loss of curing degree, to have excellent adhesion and durability, and to improve reflectivity. CONSTITUTION: An optical adhesive composition includes a monofunctional urethane acrylate-based oligomer, (meth)acrlyate monomer, (meth)acrylate monomer with nitrogen and alicyclic group, and a photoinitiator. The (meth)acrylate monomer with nitrogen and alicyclic group is represented by chemical formula 1 or 2. In the chemical formulas, R1 is hydrogen or methyl, and R2 is hydrogen or C1-6 alkyl. An optical adhesive is that the adhesive composition is cured.
摘要翻译：目的：提供光学粘合剂组合物以防止固化程度的损失，具有优异的粘附性和耐久性，并提高反射率。构成：光学粘合剂组合物包括单官能氨基甲酸酯丙烯酸酯类低聚物，（甲基）丙烯酸酯单体，具有氮和脂环族基团的（甲基）丙烯酸酯单体和光引发剂。具有氮和脂环族基团的（甲基）丙烯酸酯单体由化学式1或2表示。在化学式中，R 1是氢或甲基，R 2是氢或C 1-6烷基。光学粘合剂是粘合剂组合物固化。

9. 发明公开

KR1020130066273A ＵＶ경화형 점착제 조성물 无效
标题翻译：用于UV固化的胶粘组合物
公开(公告)号：KR1020130066273A
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：KR1020110133030
申请日：2011-12-12
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이우람 , 최영식 , 김성민
IPC分类号： C09J4/02 , C09J7/02
CPC分类号： C09J4/00 , C09J7/22 , C09J2201/12 , C09J2201/60
摘要： PURPOSE: An adhesive composition for UV curing is provided to cure an adhesive composition without additional process under oxygen atmosphere, thereby maintaining adhesion and adhesive durability. CONSTITUTION: An adhesive composition for UV curing contains a monofunctional urethane acrylate-based oligomer, a monofunctional (meth)acrylate monomer, an alpha-aminoacetophenone-based photoinitiator, a thioxanthone or aminobenzophenone-based photoinitiator, and a tertiary amine-based aminesynergist. The monofunctional urethane acrylate-based oligomer has a weight average molecular weight of 5,000-30,000 and a viscosity(25°C) of 10,000-300,000 cPs. The photoinitiator is selected from 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and isopropylthioxanthone.
摘要翻译：目的：提供用于UV固化的粘合剂组合物，以在氧气气氛下无需额外的方法固化粘合剂组合物，从而保持粘合性和粘合剂耐久性。构成：用于UV固化的粘合剂组合物包含单官能氨基甲酸酯丙烯酸酯基低聚物，单官能（甲基）丙烯酸酯单体，α-氨基苯乙酮基光引发剂，噻吨酮或氨基二苯甲酮基光引发剂和叔胺基胺助剂。单官能氨基甲酸酯丙烯酸酯类低聚物的重均分子量为5,000〜30,000，粘度（25℃）为10,000〜300,000cPs。光引发剂选自2,4-二乙基噻吨酮，2-氯噻吨酮和异丙基噻吨酮。

10. 发明公开

KR1020120070098A 오믹 컨택층용 식각액 조성물 有权
标题翻译：用于OHMIC接触层的蚀刻溶液组成
公开(公告)号：KR1020120070098A
公开(公告)日：2012-06-29
申请号：KR1020100131516
申请日：2010-12-21
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이우람 , 이석 , 이현규 , 이은원
IPC分类号： C09K13/08 , C09K13/06 , H01L21/3213
CPC分类号： C09K13/08 , C09K13/00 , C09K13/06 , C23F1/00 , H01L21/32134
摘要： PURPOSE: An etchant composition for ohmic contact layer is provided to improve productivity and to provide linear pattern and appropriate etching rate. CONSTITUTION: An etchant composition for ohmic contact layer comprises 5-30 weight% of H2O2, 0.01-5 weight% of fluorine-containing compound, 0.1-5 weight% of water-soluble cyclic amine compound, 0.1-10 weight% of inorganic acid based on total weight of the composition. The ohmic contact layer is hydrogenated amorphous silicon layer doped with n-type impurities. The perfluorinated compound is selected from HF, NaF, NH4F, NH4BF4, NH4FHF, KF, KHF2, AlF3, and HBF4.
摘要翻译：目的：提供用于欧姆接触层的蚀刻剂组合物以提高生产率并提供线性图案和适当的蚀刻速率。构成：欧姆接触层的蚀刻剂组合物包含5-30重量％的H 2 O 2，0.01-5重量％的含氟化合物，0.1-5重量％的水溶性环胺化合物，0.1-10重量％的无机酸基于组合物的总重量。欧姆接触层是掺杂有n型杂质的氢化非晶硅层。全氟化合物选自HF，NaF，NH4F，NH4BF4，NH4FHF，KF，KHF2，AlF3和HBF4。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式