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1. 发明授权

KR101724221B1 하전 입자 선 장치 有权
标题翻译：带电粒子束装置
公开(公告)号：KR101724221B1
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：KR1020157020097
申请日：2014-02-05
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 요꼬스까도시유끼 , 이찬 , 가즈미히데유끼
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/22 , H01J37/244
CPC分类号： H01J37/1474 , H01J37/147 , H01J37/22 , H01J37/222 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/15 , H01J2237/2448 , H01J2237/24495 , H01J2237/24592 , H01J2237/2806 , H01J2237/2817
摘要： 본발명은, 에지폭이좁고, 에지고유의피크의검출이곤란한패턴이여도고정밀도로측정을행하는것이가능한하전입자선 장치의제공을목적으로한다. 상기목적을달성하기위해, 하전입자빔(1, 2(a))의통과개구를구비한개구부형성부재(31)와, 시료(23)로부터방출된하전입자, 또는그 하전입자가상기개구부형성부재에충돌함으로써발생하는하전입자를검출하는검출기(28(a), 28(b))를구비한하전입자선 장치이며, 상기시료로부터방출된하전입자를편향하는편향기(33(a), 33(b))와, 그편향기를제어하는제어장치(40)를구비하고, 상기제어장치는, 상기시료상의복수의에지중, 하나의에지의신호가상대적으로다른에지의신호에대해강조된제1 검출신호와, 상기복수의에지중, 다른에지의신호가상대적으로상기하나의에지의신호에대해강조된제2 검출신호를이용하여, 패턴측정을실행하는하전입자선 장치를제안한다.
摘要翻译：本发明的目的在于提供一种即使在边缘宽度狭窄且边缘固有的峰值难以检测的图案中也能够高精度地进行测量的带电粒子束装置。为了实现上述目的，具有带电粒子束1（2（a））的开口的圆筒和开口形成构件31，从样本23排出的带电粒子，并且，检测与构件碰撞而产生的带电粒子的检测器（28（a），（b）），其中，偏转器33（a）， 33（b））和用于控制偏转器的控制装置（40），并且控制装置控制偏转器，使得相对强调多个本征面和样本的一个边缘的信号 1检测信号和第二检测信号，其中多个本征面和其他边缘的信号相对于一个边缘的信号被相对强调。

2. 发明公开

KR1020150100876A 하전 입자 선 장치 有权
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：KR1020150100876A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：KR1020157020097
申请日：2014-02-05
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 요꼬스까도시유끼 , 이찬 , 가즈미히데유끼
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/22 , H01J37/244
CPC分类号： H01J37/1474 , H01J37/147 , H01J37/22 , H01J37/222 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/15 , H01J2237/2448 , H01J2237/24495 , H01J2237/24592 , H01J2237/2806 , H01J2237/2817
摘要： 본 발명은, 에지 폭이 좁고, 에지 고유의 피크의 검출이 곤란한 패턴이여도 고정밀도로 측정을 행하는 것이 가능한 하전 입자 선 장치의 제공을 목적으로 한다. 상기 목적을 달성하기 위해, 하전 입자 빔(1, 2(a))의 통과 개구를 구비한 개구부 형성 부재(31)와, 시료(23)로부터 방출된 하전 입자, 또는 그 하전 입자가 상기 개구부 형성 부재에 충돌함으로써 발생하는 하전 입자를 검출하는 검출기(28(a), 28(b))를 구비한 하전 입자 선 장치이며, 상기 시료로부터 방출된 하전 입자를 편향하는 편향기(33(a), 33(b))와, 그 편향기를 제어하는 제어 장치(40)를 구비하고, 상기 제어 장치는, 상기 시료 상의 복수의 에지 중, 하나의 에지의 신호가 상대적으로 다른 에지의 신호에 대해 강조된 제1 검출 신호와, 상기 복수의 에지 중, 다른 에지의 신호가 상대적으로 상기 하나의 에지의 신호에 대해 강조된 제2 검출 신호를 이용하여, 패턴 측정을 실행하는 하전 입자 선 장치를 제안한다.

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