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1. 发明专利

TWI308851B 電漿處理裝置失效
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TWI308851B
公开(公告)日：2009-04-11
申请号：TW091132943
申请日：2002-11-08
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD. , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
发明人：仲野陽 , 熊谷雅 , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H01J37/32082 , H01J37/32183
摘要：【課題】
提供具有對電漿處理室的阻抗的阻抗調整容易且可確保調整感度低,對負荷變動的穩定性之匹配電路的電漿處理裝置。
【解決手段】
本發明的電漿處理裝置具有進行高頻電源1以及電漿處理室CN之間的阻抗匹配的匹配電路2C,在此匹配電路2C與高頻電源1之間配設有一個或複數個阻抗變換電路2B,藉由此阻抗變換電路2B藉由進行阻抗變換,可縮小匹配電路2C所匹配的阻抗的差,對匹配電路2C內部的可變被動元件的負載電容器206、調諧電容器205的電容器調整旋鈕的移動量,可減小輸出阻抗的變化量,使對電漿處理室CN的阻抗Z1的變動可微調整。
简体摘要：【课题】提供具有对等离子处理室的阻抗的阻抗调整容易且可确保调整感度低,对负荷变动的稳定性之匹配电路的等离子处理设备。【解决手段】本发明的等离子处理设备具有进行高频电源1以及等离子处理室CN之间的阻抗匹配的匹配电路2C,在此匹配电路2C与高频电源1之间配设有一个或复数个阻抗变换电路2B,借由此阻抗变换电路2B借由进行阻抗变换,可缩小匹配电路2C所匹配的阻抗的差,对匹配电路2C内部的可变被动组件的负载电容器206、调谐电容器205的电容器调整旋钮的移动量,可减小输出阻抗的变化量,使对等离子处理室CN的阻抗Z1的变动可微调整。

2. 发明专利

TWI239794B 電漿處理裝置以及電漿處理方法失效
简体标题：等离子处理设备以及等离子处理方法
公开(公告)号：TWI239794B
公开(公告)日：2005-09-11
申请号：TW092100349
申请日：2003-01-08
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD. , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
发明人：仲野陽 , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H01J37/32082 , H01J37/32183
摘要：【課題】
目的為提供具有在電漿放電時計測電極對的間隙的放電電流的電流檢測手段，進行激發功率控制，均質的電漿處理為可能的電漿處理裝置。【解決手段】
一種電漿處理裝置，包含：檢測形成於收容插入到高頻電源與電漿激發電極之間的阻抗匹配電路2A的框架側壁的狹縫的磁場的磁場探針軸對稱地配置，令藉由該電流檢測手段檢測的電流值成為預定值而反饋到高頻功率電源或匹配電路的反饋電路。
简体摘要：【课题】目的为提供具有在等离子放电时计测电极对的间隙的放电电流的电流检测手段，进行激发功率控制，均质的等离子处理为可能的等离子处理设备。【解决手段】一种等离子处理设备，包含：检测形成于收容插入到高频电源与等离子激发电极之间的阻抗匹配电路2A的框架侧壁的狭缝的磁场的磁场探针轴对称地配置，令借由该电流检测手段检测的电流值成为预定值而反馈到高频功率电源或匹配电路的反馈电路。

3. 发明专利

TW200302682A 電漿處理裝置 處理裝置失效
简体标题：等离子处理设备 处理设备
公开(公告)号：TW200302682A
公开(公告)日：2003-08-01
申请号：TW091137725
申请日：2002-12-27
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD. , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
发明人：大見忠弘 TADAHIRO OHMI , 仲野陽
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H01J37/32174 , H01J37/32082
摘要：提供一種電漿處理裝置，防止流在電漿放電時的一對電極之間隙的放電電流的偏流，又更減低匹配電路的調諧線圈的寄生高頻電阻，減少匹配電路的電損失，增加在電漿空間所消耗的實效性電力而在工件處理面均勻地可進行電漿處理。收容阻抗匹配電路2A的機架2，是有關於反饋於高頻電源1的高頻電流HC的方向，所定頻率的阻抗在軸對稱作成等值，又，作成匹配電路至少具備兩個以上的並聯連接的調諧線圈的電漿處理裝置。
简体摘要：提供一种等离子处理设备，防止流在等离子放电时的一对电极之间隙的放电电流的偏流，又更减低匹配电路的调谐线圈的寄生高频电阻，减少匹配电路的电损失，增加在等离子空间所消耗的实效性电力而在工件处理面均匀地可进行等离子处理。收容阻抗匹配电路2A的机架2，是有关于反馈于高频电源1的高频电流HC的方向，所定频率的阻抗在轴对称作成等值，又，作成匹配电路至少具备两个以上的并联连接的调谐线圈的等离子处理设备。

4. 发明专利

TWI299965B 電漿處理裝置及其驅動方法,及匹配電路設計系統,以及電漿處理方法失效
简体标题：等离子处理设备及其驱动方法,及匹配电路设计系统,以及等离子处理方法
公开(公告)号：TWI299965B
公开(公告)日：2008-08-11
申请号：TW091132714
申请日：2002-11-06
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD. , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
发明人：仲野陽 , 大場知文 , 熊谷雅 , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H01J37/32082 , H01J37/32183
摘要：提供一種電漿處理裝置,可縮短自電漿放電電力之供
應開始至電漿放電後之呈效率良好電漿放電狀態的時間。
本發明之電漿處理裝置係具有採取高頻電源1及電漿處
理室CN之阻抗匹配的匹配電路2A,與在電漿生成之放電前
,將匹配電路2A之輸出阻抗匹配於非放電狀態的電漿處理
室CN之阻抗Z0的匹配控制裝置31,例如,將電漿處理室之
電漿放電前的阻抗Z0存儲於存儲部32,匹配控制裝置31於
高頻電源1之高頻電力投入時自存儲部32呼出放電前之阻抗
Z0,藉調整構成匹配電路2A之負載電容器206及調諧電容器
205的阻抗,自高頻電力之投入即可容易地進行放電開始前
之電漿處理室CN的阻抗Z0調整。
简体摘要：提供一种等离子处理设备,可缩短自等离子放电电力之供应开始至等离子放电后之呈效率良好等离子放电状态的时间。本发明之等离子处理设备系具有采取高频电源1及等离子处理室CN之阻抗匹配的匹配电路2A,与在等离子生成之放电前 ,将匹配电路2A之输出阻抗匹配于非放电状态的等离子处理室CN之阻抗Z0的匹配控制设备31,例如,将等离子处理室之等离子放电前的阻抗Z0存储于存储部32,匹配控制设备31于高频电源1之高频电力投入时自存储部32呼出放电前之阻抗 Z0,藉调整构成匹配电路2A之负载电容器206及调谐电容器 205的阻抗,自高频电力之投入即可容易地进行放电开始前之等离子处理室CN的阻抗Z0调整。

5. 发明专利

TWI279169B 電漿處理裝置失效
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TWI279169B
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：TW091137725
申请日：2002-12-27
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD. , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
发明人：大見忠弘 TADAHIRO OHMI , 仲野陽
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H01J37/32174 , H01J37/32082
摘要：提供一種電漿處理裝置，防止流在電漿放電時的一對電極之間隙的放電電流的偏流，又更減低匹配電路的調諧線圈的寄生高頻電阻，減少匹配電路的電損失，增加在電漿空間所消耗的實效性電力而在工件處理面均勻地可進行電漿處理。收容阻抗匹配電路2A的機架2，是有關於反饋於高頻電源1的高頻電流HC的方向，所定頻率的阻抗在軸對稱作成等值，又，作成匹配電路至少具備兩個以上的並聯連接的調諧線圈的電漿處理裝置。
简体摘要：提供一种等离子处理设备，防止流在等离子放电时的一对电极之间隙的放电电流的偏流，又更减低匹配电路的调谐线圈的寄生高频电阻，减少匹配电路的电损失，增加在等离子空间所消耗的实效性电力而在工件处理面均匀地可进行等离子处理。收容阻抗匹配电路2A的机架2，是有关于反馈于高频电源1的高频电流HC的方向，所定频率的阻抗在轴对称作成等值，又，作成匹配电路至少具备两个以上的并联连接的调谐线圈的等离子处理设备。

6. 发明专利

TWI229773B 能降低行蠕動的液晶顯示裝置有权
简体标题：能降低行蠕动的液晶显示设备
公开(公告)号：TWI229773B
公开(公告)日：2005-03-21
申请号：TW092112686
申请日：2003-05-09
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD.
发明人：蛇口廣行 , 仲野陽 , 山田幸光
IPC分类号： G09G
CPC分类号： G09G3/3659 , G09G3/3648 , G09G2300/0452 , G09G2300/0809 , G09G2310/0227 , G09G2330/021
摘要：本發明提供一種能降低行蠕動的液晶顯示裝置，其係通過充分利用多倍掃描線方式的特徵，並且充分降低行蠕動，得到畫質優異的液晶顯示裝置。本發明的液晶顯示裝置的一個彩色像素1包含有相鄰的信號線2和相鄰掃描線3A、3B、3C包圍的3個點，在各點內設開關元件5和點電極6A、6B、6C。在各彩色像素1內，設置了通過貫通絕緣層的接觸孔7電連接了點電極6A、6B、6C的3個顯示電極8R、8G、8B。而且，各顯示電極8R、8G、8B配置為跨3個點電極6A、6B、6C，並且1個顯示電極只電連接了3個點電極中的任意一個，1個點電極只電連接了1個顯示電極。
简体摘要：本发明提供一种能降低行蠕动的液晶显示设备，其系通过充分利用多倍扫描线方式的特征，并且充分降低行蠕动，得到画质优异的液晶显示设备。本发明的液晶显示设备的一个彩色像素1包含有相邻的信号线2和相邻扫描线3A、3B、3C包围的3个点，在各点内设开关组件5和点电极6A、6B、6C。在各彩色像素1内，设置了通过贯通绝缘层的接触孔7电连接了点电极6A、6B、6C的3个显示电极8R、8G、8B。而且，各显示电极8R、8G、8B配置为跨3个点电极6A、6B、6C，并且1个显示电极只电连接了3个点电极中的任意一个，1个点电极只电连接了1个显示电极。

7. 发明专利

TW200402580A 液晶顯示裝置失效
简体标题：液晶显示设备
公开(公告)号：TW200402580A
公开(公告)日：2004-02-16
申请号：TW092108119
申请日：2003-04-09
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD.
发明人：仲野陽 , 川田賢
IPC分类号： G02F
CPC分类号： G02F1/1362 , G02F2001/133334 , G02F2001/136218
摘要：本發明之目的在於提供一種液晶顯示裝置，可以防止因發生電位從相鄰的掃描線向處於電漂移狀態的掃描線漏入而使閘極驅動器產生誤動。本發明提供一種液晶顯示裝置，其在由呈矩陣狀地設置的多條掃描線G1、G2、G3…和多條信號線所劃分的各區域中，設置顯示電極11及與顯示電極11連接的薄膜電晶體，掃描線G1、G2、G3…的至少一部分透過絕緣膜12而被遮罩電極1覆蓋，遮罩電極1與直流電源21電連接。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种液晶显示设备，可以防止因发生电位从相邻的扫描线向处于电漂移状态的扫描线漏入而使闸极驱动器产生误动。本发明提供一种液晶显示设备，其在由呈矩阵状地设置的多条扫描线G1、G2、G3…和多条信号线所划分的各区域中，设置显示电极11及与显示电极11连接的薄膜晶体管，扫描线G1、G2、G3…的至少一部分透过绝缘膜12而被遮罩电极1覆盖，遮罩电极1与直流电源21电连接。

8. 发明专利

TW200410032A 能降低行蠕動的液晶顯示裝置审中-公开
简体标题：能降低行蠕动的液晶显示设备
公开(公告)号：TW200410032A
公开(公告)日：2004-06-16
申请号：TW092112686
申请日：2003-05-09
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD.
发明人：蛇口廣行 , 仲野陽 , 山田幸光
IPC分类号： G09G , G02F
CPC分类号： G09G3/3659 , G09G3/3648 , G09G2300/0452 , G09G2300/0809 , G09G2310/0227 , G09G2330/021
摘要：本發明提供一種能降低行蠕動的液晶顯示裝置，其係通過充分利用多倍掃描線方式的特徵，並且充分降低行蠕動，得到畫質優異的液晶顯示裝置。本發明的液晶顯示裝置的一個彩色像素1包含有相鄰的信號線2和相鄰掃描線3A、3B、3C包圍的3個點，在各點內設開關元件5和點電極6A、6B、6C。在各彩色像素1內，設置了通過貫通絕緣層的接觸孔7電連接了點電極6A、6B、6C的3個顯示電極8R、8G、8B。而且，各顯示電極8R、8G、8B配置為跨3個點電極6A、6B、6C，並且1個顯示電極只電連接了3個點電極中的任意一個，1個點電極只電連接了1個顯示電極。
简体摘要：本发明提供一种能降低行蠕动的液晶显示设备，其系通过充分利用多倍扫描线方式的特征，并且充分降低行蠕动，得到画质优异的液晶显示设备。本发明的液晶显示设备的一个彩色像素1包含有相邻的信号线2和相邻扫描线3A、3B、3C包围的3个点，在各点内设开关组件5和点电极6A、6B、6C。在各彩色像素1内，设置了通过贯通绝缘层的接触孔7电连接了点电极6A、6B、6C的3个显示电极8R、8G、8B。而且，各显示电极8R、8G、8B配置为跨3个点电极6A、6B、6C，并且1个显示电极只电连接了3个点电极中的任意一个，1个点电极只电连接了1个显示电极。

9. 发明专利

TW200302683A 電漿處理裝置以及電漿處理方法失效
简体标题：等离子处理设备以及等离子处理方法
公开(公告)号：TW200302683A
公开(公告)日：2003-08-01
申请号：TW092100349
申请日：2003-01-08
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD. , 大見忠弘
发明人：仲野陽 , 大見忠弘
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H01J37/32082 , H01J37/32183
摘要：【課題】目的為提供具有在電漿放電時計測電極對的間隙的放電電流的電流檢測手段，進行激發功率控制，均質的電漿處理為可能的電漿處理裝置。【解決手段】一種電漿處理裝置，包含：檢測形成於收容插入到高頻電源與電漿激發電極之間的阻抗匹配電路2A的框架側壁的狹縫的磁場的磁場探針軸對稱地配置，令藉由該電流檢測手段檢測的電流值成為預定值而反饋到高頻功率電源或匹配電路的反饋電路。
简体摘要：【课题】目的为提供具有在等离子放电时计测电极对的间隙的放电电流的电流检测手段，进行激发功率控制，均质的等离子处理为可能的等离子处理设备。【解决手段】一种等离子处理设备，包含：检测形成于收容插入到高频电源与等离子激发电极之间的阻抗匹配电路2A的框架侧壁的狭缝的磁场的磁场探针轴对称地配置，令借由该电流检测手段检测的电流值成为预定值而反馈到高频功率电源或匹配电路的反馈电路。

10. 发明专利

TWI243929B 陣列基板、液晶顯示裝置和電子機器 ARRAY SUBSTRATE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT 有权
简体标题：数组基板、液晶显示设备和电子机器 ARRAY SUBSTRATE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT
公开(公告)号：TWI243929B
公开(公告)日：2005-11-21
申请号：TW090130809
申请日：2001-12-12
申请人：阿爾普士電氣股份有限公司 ALPS ELECTRIC CO., LTD.
发明人：仲野陽 , 蛇口廣行 , 菅原清三 , 秋元丈美 , 河地和彥 , 岡村安雄 , 鈴木一彥 , 草野學 , 川田貞夫
IPC分类号： H05K , G02F , G09F
摘要：隔著液晶層45相對配置，並且在所述液晶層45一個的面上至少具有給定結構的電極7、7的一對基板1、31中，在第一基板1上，設置至少覆蓋顯示區域3的導電性反射膜2；在所述第一基板1中，把所述反射膜2的面積S1與所述電極7中與所述反射膜2不重疊的部分的面積S2的比率S2／S1設置的0.001以下。
简体摘要：隔着液晶层45相对配置，并且在所述液晶层45一个的面上至少具有给定结构的电极7、7的一对基板1、31中，在第一基板1上，设置至少覆盖显示区域3的导电性反射膜2；在所述第一基板1中，把所述反射膜2的面积S1与所述电极7中与所述反射膜2不重叠的部分的面积S2的比率S2／S1设置的0.001以下。

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