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1. 发明专利

TWI510567B 有機半導體印墨組成物及使用它之有機半導體圖案形成方法有权
简体标题：有机半导体印墨组成物及使用它之有机半导体图案形成方法
公开(公告)号：TWI510567B
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW099109780
申请日：2010-03-31
申请人：迪愛生股份有限公司 , DIC CORPORATION
发明人：高武正義 , KOUTAKE, MASAYOSHI , 笠井正紀 , KASAI, MASANORI , 米原祥友 , YONEHARA, HISATOMO , 高野聖史 , TAKANO, KIYOFUMI , 所寬樹 , TOKORO, HIROKI
IPC分类号： C09D11/00
CPC分类号： H01L51/0022 , H01L51/0007

2. 发明专利

TW201811940A 活性能量線硬化性反向平板印刷用油墨审中-公开
简体标题：活性能量线硬化性反向平板印刷用油墨
公开(公告)号：TW201811940A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106115927
申请日：2017-05-15
申请人：迪愛生股份有限公司 , DIC CORPORATION
发明人：高武正義 , KOTAKE, MASAYOSHI , 森田進 , MORITA, SUSUMU , 岡本朋子 , OKAMOTO, TOMOKO
IPC分类号： C09D11/101 , H01L21/312
CPC分类号： C09D11/101
摘要：此活性能量線硬化性反向平板印刷用油墨，其特徵為含有揮發性溶劑、及具有活性能量線聚合性基的活性能量線硬化性樹脂，於25℃中的油墨之表面張力為15~27mN/m。相對於活性能量線硬化性反向平板印刷用油墨中之全部活性能量線硬化性樹脂100質量%，以20~300質量%之範圍含有體積平均粒徑1~150nm之體質顏料為較佳。
简体摘要：此活性能量线硬化性反向平板印刷用油墨，其特征为含有挥发性溶剂、及具有活性能量线聚合性基的活性能量线硬化性树脂，于25℃中的油墨之表面张力为15~27mN/m。相对于活性能量线硬化性反向平板印刷用油墨中之全部活性能量线硬化性树脂100质量%，以20~300质量%之范围含有体积平均粒径1~150nm之体质颜料为较佳。

3. 发明专利

TW201719766A 電子裝置的製造方法审中-公开
简体标题：电子设备的制造方法
公开(公告)号：TW201719766A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105128349
申请日：2016-09-02
申请人：迪愛生股份有限公司 , DIC CORPORATION
发明人：高武正義 , KOTAKE, MASAYOSHI , 村田秀之 , MURATA, HIDEYUKI
IPC分类号： H01L21/336 , H01L21/28 , H01L21/288 , H01L29/417 , H01L29/423 , H01L29/49 , H01L29/786 , H01L51/05 , H01L51/40
CPC分类号： H01L21/28 , H01L21/288 , H01L29/417 , H01L29/423 , H01L29/49 , H01L29/786 , H01L51/05
摘要：一種具有基底金屬層、和積層於前述基底金屬層的絕緣層之電子裝置的製造方法，其中，藉由使圖案化膜積層於前述基底金屬層的逆向平版印刷法形成前述絕緣層，該圖案化膜係圖案化成具有露出前述基底金屬層的一部分之開口部的形狀。
简体摘要：一种具有基底金属层、和积层于前述基底金属层的绝缘层之电子设备的制造方法，其中，借由使图案化膜积层于前述基底金属层的逆向平版印刷法形成前述绝缘层，该图案化膜系图案化成具有露出前述基底金属层的一部分之开口部的形状。

4. 发明专利

TW201100501A 有機半導體印墨組成物及使用它之有機半導體圖案形成方法 ORGANIC SEMICONDUCTOR INK COMPOSITION AND PROCESS FOR MANUFACTURING ORGANIC SEMICONDUCTOR PATTERN USING THE SAME 审中-公开
简体标题：有机半导体印墨组成物及使用它之有机半导体图案形成方法 ORGANIC SEMICONDUCTOR INK COMPOSITION AND PROCESS FOR MANUFACTURING ORGANIC SEMICONDUCTOR PATTERN USING THE SAME
公开(公告)号：TW201100501A
公开(公告)日：2011-01-01
申请号：TW099109780
申请日：2010-03-31
申请人：迪愛生股份有限公司
发明人：高武正義 , 笠井正紀 , 米原祥友 , 高野聖史 , 所寬樹
IPC分类号： C09D
CPC分类号： H01L51/0022 , H01L51/0007
摘要： [課題]本發明係提供一種有機半導體印墨組成物,其係在使用微接觸式印刷法與反轉印刷法等、撥液性的轉印用基版來轉印圖案,而藉以形成有機電晶體之方法中,最適合的印墨、亦即可在撥液性的轉印用基版表面形成均一的印墨塗膜,且印墨乾燥膜或半乾燥膜係可由轉印基版輕易地轉印至被轉印基材上的有機半導體印墨組成物。再者,提供一種使用上述有機半導體印墨組成物之有機電晶體的有機半導體圖案之形成方法。[解決方法]一種有機半導體印墨組成物,其特徵係藉由將在撥液性的轉印用基版上所形成之印墨層轉印至印刷基材上,用以得到所期望的圖案所使用的有機半導體印墨組成物,且其係含有有機半導體、有機溶媒及氟系界面活性劑。
简体摘要： [课题]本发明系提供一种有机半导体印墨组成物,其系在使用微接触式印刷法与反转印刷法等、拨液性的转印用基版来转印图案,而借以形成有机晶体管之方法中,最适合的印墨、亦即可在拨液性的转印用基版表面形成均一的印墨涂膜,且印墨干燥膜或半干燥膜系可由转印基版轻易地转印至被转印基材上的有机半导体印墨组成物。再者,提供一种使用上述有机半导体印墨组成物之有机晶体管的有机半导体图案之形成方法。[解决方法]一种有机半导体印墨组成物,其特征系借由将在拨液性的转印用基版上所形成之印墨层转印至印刷基材上,用以得到所期望的图案所使用的有机半导体印墨组成物,且其系含有有机半导体、有机溶媒及氟系界面活性剂。

5. 发明专利

TWI573194B 半導體用絕緣膜及使用其的有機薄膜電晶體有权
简体标题：半导体用绝缘膜及使用其的有机薄膜晶体管
公开(公告)号：TWI573194B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW102121154
申请日：2013-06-14
申请人： DIC股份有限公司 , DIC CORPORATION
发明人：高武正義 , KOUTAKE, MASAYOSHI , 大塚俊一 , OTSUKA, SHUNICHI
IPC分类号： H01L21/31 , H01L51/05
CPC分类号： C07F7/21 , H01L51/052

6. 发明专利

TW201417191A 電子元件用圖案形成方法、電子元件及圖案形成裝置审中-公开
简体标题：电子组件用图案形成方法、电子组件及图案形成设备
公开(公告)号：TW201417191A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW102127671
申请日：2013-08-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 獨立行政法人產業技術綜合研究所 , NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY , DIC股份有限公司 , DIC CORPORATION
发明人：杉原和佳 , SUGIHARA, KAZUYOSHI , 小倉晉太郎 , OGURA, SHINTARO , 牛島洋史 , USHIJIMA, HIROBUMI , 日下靖之 , KUSAKA, YASUYUKI , 高武正義 , KOUTAKE, MASAYOSHI
IPC分类号： H01L21/336 , H01L21/28
CPC分类号： H01L51/0022 , H01L51/0004 , H01L51/0036 , H01L51/052
摘要：本發明提供一種圖案形成方法，其特徵在於：其係對使用油墨材料之複數層之電子元件用圖案進行位置對準並使其形成於基板上之方法，且包括如下步驟：第1圖案形成步驟，其係使閘極層用第1油墨材料圖案形成於基板上；第2圖案形成步驟，其係使源極-汲極層用第2油墨材料圖案形成於基板上；第3圖案形成步驟，其係使半導體層用第3油墨材料圖案形成於基板上；絕緣層形成步驟，其係將使上述第1油墨材料圖案與上述第2油墨材料圖案之間絕緣之絕緣層形成於基板上；及改質步驟，其係使上述所形成之各層一體地改質。
简体摘要：本发明提供一种图案形成方法，其特征在于：其系对使用油墨材料之复数层之电子组件用图案进行位置对准并使其形成于基板上之方法，且包括如下步骤：第1图案形成步骤，其系使闸极层用第1油墨材料图案形成于基板上；第2图案形成步骤，其系使源极-汲极层用第2油墨材料图案形成于基板上；第3图案形成步骤，其系使半导体层用第3油墨材料图案形成于基板上；绝缘层形成步骤，其系将使上述第1油墨材料图案与上述第2油墨材料图案之间绝缘之绝缘层形成于基板上；及改质步骤，其系使上述所形成之各层一体地改质。

7. 发明专利

TW201410802A 反向印刷用導電性墨水及薄膜電晶體之製造方法、以及以該製造方法形成之薄膜電晶體审中-公开
简体标题：反向印刷用导电性墨水及薄膜晶体管之制造方法、以及以该制造方法形成之薄膜晶体管
公开(公告)号：TW201410802A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102126152
申请日：2013-07-22
申请人： DIC股份有限公司 , DIC CORPORATION
发明人：高武正義 , KOUTAKE, MASAYOSHI , 義原直 , YOSHIHARA, SUNAO
IPC分类号： C09D11/02
CPC分类号： C09D11/033 , C09D11/52 , H01L27/1225 , H01L27/1292
摘要：本發明提供一種可將形成於橡皮布上之圖案向支撐體完全轉印之容許時間範圍(range)更廣的凸版反向印刷用導電性墨水。本發明係一種凸版反向印刷用導電性墨水，其係用以藉由導電性粒子之粒子間熔融結合而形成導電性圖案者，其特徵在於：體積平均粒徑(Mv)為2~250 nm之上述導電性粒子分散於含有氟系表面能調整劑及/或聚矽氧系表面能調整劑、且含有水作為必需成分之包含有機溶劑的液介質中；及一種薄膜電晶體之製造方法，其特徵在於包括如下步驟：於支撐體上，使用上述導電性墨水利用凸版反向印刷法形成塗膜圖案，繼而使塗膜圖案中之導電性粒子進行粒子間熔融結合而形成導電性圖案；以及一種薄膜電晶體。
简体摘要：本发明提供一种可将形成于橡皮布上之图案向支撑体完全转印之容许时间范围(range)更广的凸版反向印刷用导电性墨水。本发明系一种凸版反向印刷用导电性墨水，其系用以借由导电性粒子之粒子间熔融结合而形成导电性图案者，其特征在于：体积平均粒径(Mv)为2~250 nm之上述导电性粒子分散于含有氟系表面能调整剂及/或聚硅氧系表面能调整剂、且含有水作为必需成分之包含有机溶剂的液介质中；及一种薄膜晶体管之制造方法，其特征在于包括如下步骤：于支撑体上，使用上述导电性墨水利用凸版反向印刷法形成涂膜图案，继而使涂膜图案中之导电性粒子进行粒子间熔融结合而形成导电性图案；以及一种薄膜晶体管。

8. 发明专利

TW201405660A 半導體用絕緣膜及使用其的有機薄膜電晶體审中-公开
简体标题：半导体用绝缘膜及使用其的有机薄膜晶体管
公开(公告)号：TW201405660A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW102121154
申请日：2013-06-14
申请人： DIC股份有限公司 , DIC CORPORATION
发明人：高武正義 , KOUTAKE, MASAYOSHI , 大塚俊一 , OTSUKA, SHUNICHI
IPC分类号： H01L21/31 , H01L51/05
CPC分类号： C07F7/21 , H01L51/052
摘要：本發明提供一種藉由活性能量線硬化而成的絕緣膜，其可形成表現出高的場效遷移率、開/關(ON/OFF)比，且具有常斷時變動小的臨限值電壓(Vth)及耐實用的優異性能的有機電晶體。並且發現，藉由在具有活性能量線聚合性的倍半矽氧烷化合物中，併用含有特定活性能量線聚合性雙鍵的化合物，使用這些材料藉由活性能量線聚合而形成水接觸角為85°~115°的薄膜，從而可形成實用性高的薄膜電晶體，其除了優異的薄膜絕緣性、耐溶劑性外，還具有作為有機薄膜電晶體用閘極絕緣膜的優異的場效遷移率及ON/OFF比，常斷時臨限值電壓(Vth)的變動小，且特性穩定性優異，從而完成了本發明。
简体摘要：本发明提供一种借由活性能量线硬化而成的绝缘膜，其可形成表现出高的场效迁移率、开/关(ON/OFF)比，且具有常断时变动小的临限值电压(Vth)及耐实用的优异性能的有机晶体管。并且发现，借由在具有活性能量线聚合性的倍半硅氧烷化合物中，并用含有特定活性能量线聚合性双键的化合物，使用这些材料借由活性能量线聚合而形成水接触角为85°~115°的薄膜，从而可形成实用性高的薄膜晶体管，其除了优异的薄膜绝缘性、耐溶剂性外，还具有作为有机薄膜晶体管用闸极绝缘膜的优异的场效迁移率及ON/OFF比，常断时临限值电压(Vth)的变动小，且特性稳定性优异，从而完成了本发明。

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