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1. 发明专利

TWI388674B 高耐磨元件及其製造方法有权
简体标题：高耐磨组件及其制造方法
公开(公告)号：TWI388674B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW097148308
申请日：2008-12-11
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：陳敏華 , CHEN, MIN HUA , 郭興家 , KUO, HSING CHIA , 謝培煥 , HSIEH, PEI HUAN , 鄭勝元 , CHENG, SHENG YUAN , 陳建仁 , CHEN, CHIEN JEN
IPC分类号： C22C19/00 , C22C9/00 , C25D1/04

2. 发明专利

TWI437125B 鈦金屬發色方法及其製品有权
简体标题：钛金属发色方法及其制品
公开(公告)号：TWI437125B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW099140548
申请日：2010-11-24
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTER
发明人：謝培煥 , HSIEH, PEI HUAN , 陳敏華 , CHEN, MIN HUA , 黃金川 , HUANG, CHIN CHUAN
IPC分类号： C23F1/00

3. 发明专利

TW201024456A 複合鍍層及其製造方法审中-公开
简体标题：复合镀层及其制造方法
公开(公告)号：TW201024456A
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：TW097150483
申请日：2008-12-24
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：陳敏華 , 郭興家 , 謝培煥 , 鄭勝元 , 陳建仁
IPC分类号： C23C
摘要：本發明係關於一種複合鍍層及其製造方法，該複合鍍層包括一金屬底材及複數個固體微粒，該等固體微粒係附著至該金屬底材，每一該等固體微粒具有一中心粒子及一金屬層，該中心粒子係為不導電材質，且該中心粒子之表面具有該金屬層。藉此，可大大提升該等固體微粒與該金屬底材間的結合力，而增加該複合鍍層之使用壽命及提升鍍層品質。此外，在製程中可以經由控制該基材上之電場或磁場分佈而可控制該等固體微粒在該複合鍍層內之位置，以得到預設之圖案分佈。
简体摘要：本发明系关于一种复合镀层及其制造方法，该复合镀层包括一金属底材及复数个固体微粒，该等固体微粒系附着至该金属底材，每一该等固体微粒具有一中心粒子及一金属层，该中心粒子系为不导电材质，且该中心粒子之表面具有该金属层。借此，可大大提升该等固体微粒与该金属底材间的结合力，而增加该复合镀层之使用寿命及提升镀层品质。此外，在制程中可以经由控制该基材上之电场或磁场分布而可控制该等固体微粒在该复合镀层内之位置，以得到默认之图案分布。

4. 发明专利

TW201235516A 鋁製材之染色方法及其製品审中-公开
简体标题：铝制材之染色方法及其制品
公开(公告)号：TW201235516A
公开(公告)日：2012-09-01
申请号：TW100105356
申请日：2011-02-18
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：謝培煥 , 陳敏華
IPC分类号： C25F
摘要：本發明係揭露一種鋁製材之染色方法及其製品，其步驟包括提供一鋁金屬基材，並在鋁金屬基材上區分有一第一區域及一第二區域。遮蔽鋁金屬基材之第一區域，並露出第二區域。提供一第一電解液，並使鋁金屬基材進行第一次陽極處理，使第二區域呈現有複數個第二孔洞。遮蔽鋁金屬基材之第二區域，並露出第一區域。提供一第二電解液，並使鋁金屬基材進行第二次陽極處理，使第一區域呈現有複數個第一孔洞。塗佈一染料於該鋁金屬基材，使該染料填入於第一孔洞及第二孔洞。依此可呈現單一顏色之不同色階組合。
简体摘要：本发明系揭露一种铝制材之染色方法及其制品，其步骤包括提供一铝金属基材，并在铝金属基材上区分有一第一区域及一第二区域。屏蔽铝金属基材之第一区域，并露出第二区域。提供一第一电解液，并使铝金属基材进行第一次阳极处理，使第二区域呈现有复数个第二孔洞。屏蔽铝金属基材之第二区域，并露出第一区域。提供一第二电解液，并使铝金属基材进行第二次阳极处理，使第一区域呈现有复数个第一孔洞。涂布一染料于该铝金属基材，使该染料填入于第一孔洞及第二孔洞。依此可呈现单一颜色之不同色阶组合。

5. 发明专利

TW201216926A 醫療植入物及其表面薄膜及表面薄膜製造方法审中-公开
简体标题：医疗植入物及其表面薄膜及表面薄膜制造方法
公开(公告)号：TW201216926A
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW099135397
申请日：2010-10-18
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：謝培煥 , 陳敏華
IPC分类号： A61C , A61L
CPC分类号： C25D11/26 , A61C8/0015 , A61F2/30767 , A61F2/30771 , A61F2/3094 , A61F2002/30769 , A61F2002/30838 , A61F2310/00023 , A61F2310/00407 , C25D11/06
摘要：本發明係有關於一種醫療植入物及其表面薄膜及表面薄膜製造方法，醫療植入物之表面薄膜具有複數牆體與複數走道，該些牆體與該些走道皆位於表面薄膜之表面，該些牆體皆呈弧狀，該些走道分別位於些牆體之間，該些牆體與該些走道皆具有複數孔洞。由於本發明之表面薄膜的牆體皆呈弧狀而不具有稜角，所以利於生物細胞長入附著，且表面薄膜又具有孔洞，以供生物細胞在生長過程中可進一步將偽足、觸手等細胞組織生長附著於孔洞中，如此可提高表面薄膜與生物細胞的親合性，以增進醫療植入物對生物細胞之相容性。
简体摘要：本发明系有关于一种医疗植入物及其表面薄膜及表面薄膜制造方法，医疗植入物之表面薄膜具有复数墙体与复数走道，该些墙体与该些走道皆位于表面薄膜之表面，该些墙体皆呈弧状，该些走道分别位于些墙体之间，该些墙体与该些走道皆具有复数孔洞。由于本发明之表面薄膜的墙体皆呈弧状而不具有棱角，所以利于生物细胞长入附着，且表面薄膜又具有孔洞，以供生物细胞在生长过程中可进一步将伪足、触手等细胞组织生长附着于孔洞中，如此可提高表面薄膜与生物细胞的亲合性，以增进医疗植入物对生物细胞之兼容性。

6. 发明专利

TW201023834A 具撓曲的按壓區的採樣裝置审中-公开
简体标题：具挠曲的按压区的采样设备
公开(公告)号：TW201023834A
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：TW097150436
申请日：2008-12-24
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：黃俊維 , 陳敏華 , 謝培煥
IPC分类号： A61B
摘要：本發明提供一種具撓曲的按壓區的採樣裝置，包含：一界定出一容室之殼件及一針頭。該殼件具有呈相反設置之一第一壁體及一第二壁體。該第一壁體具有一可朝向該容室撓曲的按壓區。該等壁體分別具有一相互對應設置且與該按壓區相間隔設置的採樣區。該等採樣區共同界定出一與該容室相通的管道。該針頭是設置於該管道。
简体摘要：本发明提供一种具挠曲的按压区的采样设备，包含：一界定出一容室之壳件及一针头。该壳件具有呈相反设置之一第一壁体及一第二壁体。该第一壁体具有一可朝向该容室挠曲的按压区。该等壁体分别具有一相互对应设置且与该按压区相间隔设置的采样区。该等采样区共同界定出一与该容室相通的管道。该针头是设置于该管道。

7. 发明专利

TWI483712B 醫療植入物及其表面薄膜及表面薄膜製造方法有权
简体标题：医疗植入物及其表面薄膜及表面薄膜制造方法
公开(公告)号：TWI483712B
公开(公告)日：2015-05-11
申请号：TW099135397
申请日：2010-10-18
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：謝培煥 , 陳敏華
IPC分类号： A61C13/08 , A61L27/56
CPC分类号： C25D11/26 , A61C8/0015 , A61F2/30767 , A61F2/30771 , A61F2/3094 , A61F2002/30769 , A61F2002/30838 , A61F2310/00023 , A61F2310/00407 , C25D11/06

8. 发明专利

TW201022452A 高耐磨元件及其製造方法审中-公开
简体标题：高耐磨组件及其制造方法
公开(公告)号：TW201022452A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：TW097148308
申请日：2008-12-11
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：陳敏華 , 郭興家 , 謝培煥 , 鄭勝元 , 陳建仁
IPC分类号： C22C , C25D
摘要：本發明係關於一種高耐磨元件及其製造方法，該高耐磨元件包括一合金底材及複數個高耐磨粒子。該合金底材包含至少二種不同之金屬元素，該等高耐磨粒子係分佈在該合金底材內部，而非僅位於該合金底材之表面。藉此，當該高耐磨元件與另一元件接觸摩擦一段時間後，位於該合金底材表面之高耐磨粒子會從該表面脫落，然而，該高耐磨元件內部仍有高耐磨粒子會顯露出來，因此，該高耐磨元件可以維持研磨效率，而可以大大提高該高耐磨元件的使用壽命。
简体摘要：本发明系关于一种高耐磨组件及其制造方法，该高耐磨组件包括一合金底材及复数个高耐磨粒子。该合金底材包含至少二种不同之金属元素，该等高耐磨粒子系分布在该合金底材内部，而非仅位于该合金底材之表面。借此，当该高耐磨组件与另一组件接触摩擦一段时间后，位于该合金底材表面之高耐磨粒子会从该表面脱落，然而，该高耐磨组件内部仍有高耐磨粒子会显露出来，因此，该高耐磨组件可以维持研磨效率，而可以大大提高该高耐磨组件的使用寿命。

9. 发明专利

TW201221695A 鈦金屬發色方法及其製品审中-公开
简体标题：钛金属发色方法及其制品
公开(公告)号：TW201221695A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW099140548
申请日：2010-11-24
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：謝培煥 , 陳敏華 , 黃金川
IPC分类号： C23F
摘要：本發明揭露一種鈦金屬發色方法及其製品,其發色步驟包括:先應用一第一次陽極處理,於鈦金屬表面形成複數個第一陽極薄膜單元;以及應用第二次陽極處理,於表面形成複數個第二陽極薄膜單元,第一陽極薄膜單元與第二陽極薄膜單元呈織網狀交叉分佈,且第一陽極薄膜單元與第二陽極薄膜單元的厚度或表面粗糙度不相同。
简体摘要：本发明揭露一种钛金属发色方法及其制品,其发色步骤包括:先应用一第一次阳极处理,于钛金属表面形成复数个第一阳极薄膜单元;以及应用第二次阳极处理,于表面形成复数个第二阳极薄膜单元,第一阳极薄膜单元与第二阳极薄膜单元呈织网状交叉分布,且第一阳极薄膜单元与第二阳极薄膜单元的厚度或表面粗糙度不相同。

10. 发明专利

TW201118903A 電儲存裝置、電儲存裝置之電極組及其製備方法 ELECTRICITY STORAGE APPARATUS, SET OF ELECTRODE OF AN ELECTRICITY STORAGE APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：电存储设备、电存储设备之电极组及其制备方法 ELECTRICITY STORAGE APPARATUS, SET OF ELECTRODE OF AN ELECTRICITY STORAGE APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201118903A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：TW098140151
申请日：2009-11-25
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：謝培煥 , 陳敏華
IPC分类号： H01G
摘要：一種電儲存裝置之電極組的製備方法包含：於一集電板之表面蝕刻形成不平整表面；於該不平整表面塗佈一導電粉體材料混合物；及進行加熱以於該不平整表面形成一電極。所製備之電極組包含一集電板及一電極，該集電板包含一底部及數個由該底部表面延伸形成之凸出部，二相鄰之凸出部間形成一間距，使得該底部及凸出部之表面共同形成一不平整表面，該電極填充於該些凸出部間並覆蓋於該凸出部及底部。該電儲存裝置包含一殼體；一電解液設置於該殼體內；二該電極組分別浸置該於電解液中；及一隔板設置於該殼體內，以隔開該二電極組。
简体摘要：一种电存储设备之电极组的制备方法包含：于一集电板之表面蚀刻形成不平整表面；于该不平整表面涂布一导电粉体材料混合物；及进行加热以于该不平整表面形成一电极。所制备之电极组包含一集电板及一电极，该集电板包含一底部及数个由该底部表面延伸形成之凸出部，二相邻之凸出部间形成一间距，使得该底部及凸出部之表面共同形成一不平整表面，该电极填充于该些凸出部间并覆盖于该凸出部及底部。该电存储设备包含一壳体；一电解液设置于该壳体内；二该电极组分别浸置该于电解液中；及一隔板设置于该壳体内，以隔开该二电极组。

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